当前位置: 首页 » 新闻资讯 » 最新资讯 » 正文

《SiC晶片的残余应力检测方法》等六项团体标准实施

分享到:
放大字体  缩小字体    发布日期:2020-01-10  来源:仪器信息网  作者:Mr liao  浏览次数:352
核心提示:2019年12月30日,中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟发布《SiC晶片的残余应力检测方法》等六项团体标准的公告。根据《中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟团体标准管理办法》的相关规定,批准发布《SiC 晶片的残余应力检测方法》、《功率半导体器件稳态湿热高压偏置试验》、《碳化硅单晶抛光片表面质量和微管密度检测方法-激光散射检测法》、《导电碳化硅单晶片电阻率测量方法—非接触涡流法》、《碳化硅单晶抛光片表面质量和微管密度测试方法——共焦点微分干涉光学法》、《半绝缘碳化硅单晶片电阻率非接触测量方法》六项团体标准

2019年12月30日,中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟发布《SiC晶片的残余应力检测方法》等六项团体标准的公告。

根据《中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟团体标准管理办法》的相关规定,批准发布《SiC 晶片的残余应力检测方法》、《功率半导体器件稳态湿热高压偏 置试验》、《碳化硅单晶抛光片表面质量和微管密度检测方法-激光散射检测法》、《导电碳化硅单晶片电阻率测量方法—非接触涡流法》、《碳化硅单晶抛光片表 面质量和微管密度测试方法——共焦点微分干涉光学法》、《半绝缘碳化硅单晶 片电阻率非接触测量方法》六项团体标准。上述六项标准自 2019年12月27日发布,自2019年12月31日起实施。

1.PNG1.PNG

附件:关于批准发布SiC晶片的残余应力检测方法等六项团体标准的公告1227.pdf

 
 
打赏
[ 新闻资讯搜索 ]  [ 加入收藏 ]  [ 告诉好友 ]  [ 打印本文 ]  [ 违规举报 ]  [ 关闭窗口 ]
免责声明:
本网站部分内容来源于合作媒体、企业机构、网友提供和互联网的公开资料等,仅供参考。本网站对站内所有资讯的内容、观点保持中立,不对内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。如果有侵权等问题,请及时联系我们,我们将在收到通知后第一时间妥善处理该部分内容。
 

《SiC晶片的残余应力检测方法》等六项团体标准实施二维码

扫扫二维码用手机关注本条新闻报道也可关注本站官方微信账号:"xxxxx",每日获得互联网最前沿资讯,热点产品深度分析!
 

 
0相关评论