EFC270-蚀刻残留物去除剂_EKC270蚀刻残留物去除剂-德国韦氏纳米系统（香港）有限公司

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详细介绍

 

 

杜邦 plasmasolv ekc265 蚀刻后残留物去除 

特点：

制定zui jia的金属堆栈完整性 

改进 宽窗口处理能力

强化蚀刻残余物去除

清洗的掩膜减少化学残留

超大规模集成电路（ULSI）级规格先进封装清洗

工作温度下蒸发速率低

 

应用： 

应用EKC265 蚀刻后残留物器广泛应用在半导体行业，以满足关键的清洁需求 

从高深宽比MEMS器件100 m+ 到先进DRAM 的70nm集成的各个阶段

下面列出了常见的应用程序： 

接触清洁 

金属线清洁

TSV深硅穿孔清洁 

钨埋位线清洗 

聚酰亚胺清洗 

Pad清洁 

MEMS清洗

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德国韦氏纳米系统（香港）有限公司 - 主营产品： 薄膜反射仪,Harrick等离子清洗机,TGA-MS 热重分析质谱仪

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