离子溅射仪 MC1000_电子显微镜-似空科学仪器（上海）有限公司

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支付方式：支付宝 | 网上银行更新时间：2018.10.121067

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日立MC1000离子溅射仪
产品介绍：日立MC1000离子溅射仪是由日立高新技术公司自行设计制造，针对扫描电镜的精细高端需求而设计，适合微观结构较复杂的样品，尤其适合于场发射扫描电镜的高倍率观测应用。

采用磁控型电极，最大限度地减轻对样品的损坏。

离子溅射仪 MC1000特色

采用LCD触摸屏，可以更加简便地设定加工条件可处理较厚或较大的样品(选配件)记忆功能可存储常用加工条件

离子溅射仪 MC1000规格

项目说明放电类型磁控二极管放电型(电场垂直于磁场)电极组成反向平行盘(嵌入磁铁)电压最大 0.4 kV DC(直流可变)电流最大 40 mA DC喷镀速率 *1(最大)
[条件]
压力：7 Pa
放电电流：40 mA
标靶与样品表面之间的距离：20 mmPt 靶(选配件)15 nm/minPt-Pd 靶(选配件)20 nm/minAu 靶(选配件)35 nm/minAu-Pd 靶(选配件)25 nm/min样品尺寸最大直径 60 mm最大高度20 mm机械泵135/162 l/min (50/60Hz)靶材*2Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4)电源要求单相, 100 V AC ( 10%) 15 A (50/60 Hz), 3-针插头线缆(3 m)尺寸宽度450 mm长度391 mm高度390 mm重量主机：约 25 kg
机械泵：约 28 kg

*1

： 喷镀速率仅供参考

*2

： 主机内不包括靶材。请从选项中选择(铂，铂-钯，金，金-钯)。

应用领域：

离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛，通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象，并提高观测效率，另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳，实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。

 

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