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ES1000 硅晶片清洗腐蚀设备 清洗设备生产厂家-91化工仪器网

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放大字体  缩小字体    发布日期:2019-09-02  来源:仪器信息网  作者:Mr liao  浏览次数:168
核心提示:生产地:上海徐汇区中山西路2025号609室厂商性质:生产商 品牌:E-SWITCH型号:ES1000 气体采样袋|铝箔气体采样袋|泰德拉气体采样袋|特氟龙气体采样袋|非甲烷总烃VOC气体采样袋 专业生产设计气体、烟气、液体、固体采样袋、简易手套箱以及采样袋专用采样泵、专用真空采样仪等,根据E-Switch品牌简单易用开关的设计理念,自主研发了采样袋专用的聚丙烯多功能阀门、特氟龙开关阀门等,采样袋阀门荣获国家。根据E-Switch品牌简单易用的开关的设计理念,自主研发了采样袋专用的聚丙烯多功能阀门、特氟龙

生产地:上海徐汇区中山西路2025号609室厂商性质:生产商

品牌:E-SWITCH型号:ES1000


气体采样袋|铝箔气体采样袋|泰德拉气体采样袋|特氟龙气体采样袋|非甲烷总烃VOC气体采样袋


专业生产设计气体、烟气、液体、固体采样袋、简易手套箱以及采样袋专用采样泵、专用真空采样仪等,根据E-Switch品牌简单易用开关的设计理念,自主研发了采样袋专用的聚丙烯多功能阀门、特氟龙开关阀门等,采样袋阀门荣获国家。根据E-Switch品牌简单易用的开关的设计理念,自主研发了采样袋专用的聚丙烯多功能阀门、特氟龙开关阀门等;采样袋阀门荣获国家。根据E-Switch品牌简单易用的开关的设计理念,自主研发了采样袋专用的聚丙烯多功能阀门、特氟龙开关阀门等;采样袋阀门荣获国家。


硅晶片清洗腐蚀设备 清洗设备生产厂家 

硅晶片清洗腐蚀设备 清洗设备生产厂家

产品信息:

广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺;

有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物,且不破坏晶片表面特性; 模块化设计,可根据客户工艺设计组合。

此设备用于1-6"(英寸)硅晶片的工艺处理湿洗过程中,去除工件表面的油污及其他有机物、除胶、去金属离子等。

设备由五大部分组成:

1.清洗槽部分、伺服系统及机械臂部分、层流净化系统、电气控制系统、机架及整机。

2.清洗槽部分由有机溶剂槽、去离子水槽、酸槽或碱槽等组成。

3.关键件采用进口件,包括气动阀,PFA管道,全氟循环系统,保证工作介质(酸、碱)的洁净度,避免杂质析出。

4.工艺过程全自动,机械手在槽间的转换由两套伺服系统控制,可存储多条工艺时序,方便使用。

5.人机界面为触摸屏,方便直观。

除装片和取片需人工外,其余工艺动作均可自动完成。

非标准化设备,所有设备参数均根据客户的具体需求定制设计!! 请与客服联系~~

 

产品信息:

广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺;

有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物,且不破坏晶片表面特性; 模块化设计,可根据客户工艺设计组合。

此设备用于1-6"(英寸)硅晶片的工艺处理湿洗过程中,去除工件表面的油污及其他有机物、除胶、去金属离子等。

设备由五大部分组成:

1.清洗槽部分、伺服系统及机械臂部分、层流净化系统、电气控制系统、机架及整机。

2.清洗槽部分由有机溶剂槽、去离子水槽、酸槽或碱槽等组成。

3.关键件采用进口件,包括气动阀,PFA管道,全氟循环系统,保证工作介质(酸、碱)的洁净度,避免杂质析出。

4.工艺过程全自动,机械手在槽间的转换由两套伺服系统控制,可存储多条工艺时序,方便使用。

5.人机界面为触摸屏,方便直观。

除装片和取片需人工外,其余工艺动作均可自动完成。

非标准化设备,所有设备参数均根据客户的具体需求定制设计!! 请与客服联系~~

 
 
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