手机版|
二维码|
联系我们时请说明是91化工仪器网上看到的信息，谢谢!
HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控溅射头，可安装直径为1英寸的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配，以至于可以溅射各种靶材（如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。而且高真空的结构设计，可提高镀膜质量。
HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控溅射头，可安装直径为1英寸的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配，以至于可以溅射各种靶材（如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。而且高真空的结构设计，可提高镀膜质量。
技术参数
特点
?
采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作采用电磁场的有元计算法来设计永磁体，以得到较高的磁场强度和均强场分布磁体表面涂有一层保护层，以防止冷却水的腐蚀，延长其使用寿命标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配安装是采用标准真空接头，便于操作更换靶材较为简单，无需调整溅射头的高度配有一块铜靶溅射头
（点击图片查看详细资料）
溅射头的直径:46.3mm所用靶的直径:1.0 0.02"(25.4mm)靶材的zui大厚度: 1/8" (3mm) 磁环:NdFeB稀土永磁铁 杆的直径: 3/4" O.D.
所需功率
DC (zui大) 250 W
RF （zui大）100 W
zui大阴极溅射电流
3A
阴极溅射电流
200 - 1,000 V
可选压力范围
~1 mTorr 至1 Torr
溅射厚度均匀性图
注意：此图是采用磁控溅射得的到一个200nm的薄膜，所用靶材为1英寸的铜靶。薄膜是沉积在氧化的硅片上，实验参数为：功率：直流150W真空环境：10mTorr(Ar)靶材与基片的距离：75mm
水冷却
所需水流量： 1/2 GPM进水温度： 20 C水管接头：0.25" O.D快插头接头
电路连接接头：标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配本公司会赠送一高真空快速接头此快速接头的内径为0.75"，可将溅射头安装在真空腔体上，真空腔体上的安装孔直径为1英寸，真空腔体的壁厚不得大于1英寸
产品长度
14英寸（355.6mm)
产品重量
1.36kg
倾斜装置
溅射头相对于杆zui大可倾斜+/- 45度倾斜装置上有刻度线，可观察到靶头倾斜的角度可选配件
循环水冷机，流量为16L / min ，水箱容积为6L本公司可提供各种配件可与HVMSS-SPC-1-LD配套，让客户自己搭建磁控溅射仪质保期
一年质保期终生维护
应用
在真空腔体中HVMSS-SPC-1-LD磁控溅射头可制作各种薄膜，下面是一些应用：薄膜涂覆半导体器件磁记录介质超导薄膜量子计算器件MEMS生物传感器纳米技术超晶格颗粒膜记忆合金组合薄膜沉积光学薄膜*验证码: = 请输入计算结果（填写阿拉伯数字），如：三加四=7
