电子束蒸发系统-91化工仪器网

纳米微米压痕划痕测试仪；近场扫描光学显微镜；接触角测量仪；表面张力仪；LB膜分析仪；开尔文探针系统(功函数测量)；表面等离子共振谱仪(SPR)；轮廓仪；摩擦计；(显微)硬度计；磁控溅射仪；热蒸发电子束蒸发沉积；等离子增强气相沉积系统(PECVD)；原子层沉积系统(ALD)；快速退火炉；霍尔效应仪；探针台；光致发光扫描仪(PL)；椭偏仪；膜厚仪；气溶胶发生器，粒径谱仪，稀释器；滤料测试系统；烟雾发生器；空气示踪器；zeta电位分析仪；内表面粗糙度测量仪；(氙灯)光反应器；太阳模拟器；高压反应釜；

 科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )为多家国外高科技仪器厂家在中国地区的代理。科睿公司一贯秉承『诚信』、『品质』、『服务』、『创新』的企业文化，为广大中国用户提供仪器、设备，最周到的技术、服务和完美的整体解决方案。在科技日新月异、国力飞速发展的中国，纳米科学研究、薄膜材料(包括半导体)生长和表征、表面材料物性分析、生物药物开发、有机高分子合成等等领域，都需要与欧美发达国家完全接轨的仪器设备平台来实现。科睿设备有限公司有幸成长在这个火热的年代，我们愿意化为一座桥梁，见证中国科技水平的提升，与中国科技共同飞速成长。
      科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)总部设在中国香港，在中国上海设立了分公司，在国内多个城市设立了办事处或维修站，旨在为客户提供全方位的产品和服务。2010年，科睿设备有限公司在上海设立备品仓库及维修中心，同时提供在大陆的各项技术服务和后期的维修保障服务，我们拥有专业的应用维修人员，并且都曾到国外厂家进行了专门的培训。上海配备了多种维修部件，能使我们的服务更加快捷和方便。我们承诺24小时电话响应，72小时内赶到现场维修。以利于更好、更快的为中国大陆服务！ 
      因为信任,所以理解.我们理解用户的困难和需求。我们已经为国内众多科研院所和大学根据用户的要求配制和提供了上百套系统，主要用户包括：中科院物理所，中科院半导体所，中科院大连化学物理研究所，国家纳米中心，上海纳米中心，北京大学，清华大学，中国科技大学，南京大学，复旦大学，上海交通大学，华东理工大学，浙江大学，中山大学，西安交通大学，四川大学，中国工程物理研究院，香港大学，香港城市大学，香港中文大学，香港科技大学等。

仪器简介：

全球专业的沉积设备制造商，为各个领域的客户提供完善的薄膜沉积解决方案：电子束蒸发系统、热蒸发系统、超高真空蒸发系统、分子束外延MBE、有机分子束沉积OMBD、等离子增强化学气相淀积系统PECVD/ICP Etcher、电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积、离子泵等；


E -Beam Evaporation System
2.高真空统High Vacuum E -Beam Evaporation System
3.超高真空Ultra-high Vacuum (UHV) E -Beam Evaporation System
4.离子辅助蒸发系统Ion Beam Assisted Evaporation System
5.离子电镀系统Ion Plating System
6.Cluster Tool E -Beam Evaporation System
7.在线电子束蒸发系统In-line E -Beam Evaporation System

技术参数：

1.电子束源 电源
      单个或者可自由切换换电子束源：
       --蒸发室数量 1 ~ 12(标配: 4, 6)
       --坩埚容量：7 ~ 40 cc (最大可达200 cc)
       --标准：25 cc (4 or 6 Pocket), 40 cc (4 Pocket)
       --最大：200 cc (156cc for UHV) 可用于长时间的沉积
       --偏转角度：180o, 270o
       --输出功率：6, 10, 15, 20 kW
       --支持两个或者三个电子束源在一个系统上
       --可连续或者同时沉积两种或三种材料
       --高速率沉积

    2.薄膜沉积控制：
      IC-5 ( or XTC, XTM) 和计算机控制
      --沉积过程参数可控
      --石英晶体振荡传感器
      --光学检测系统用于光学多层薄膜沉积：测量波长范围350-2000 nm，分辨率1 nm
      --薄膜厚度检测和处理过程可通过计算机程序控制
      --薄膜厚度检测和沉积速率可通过计算机程序控制
      --支持大面积沉积
      --支持在线电子束蒸发沉积
      --基底尺寸：20~100英寸
      --薄膜均匀性 1.0 to 5.0 %
 
    3.真空腔体：
      --圆柱形腔体
      --直径： 500 ~ 1,500 mm
      --高度：800 ~ 1500 mm
      --方形腔体
      --根据客户的需求定制

    4.真空泵和测量装置：
      --低真空：干泵和convectron真空规
      --高真空：涡轮分子泵，低温泵和离子规
      --超高真空：双级涡轮分子泵，离子泵和离子规

    5.控制系统PLC和 触摸屏计算机：
      --硬件: PLC, 触摸屏计算机
      --包括模拟和数字输入/输出卡
      --显示器: LCD
      --自动和手动程序控制
      --程序控制：加载，编辑和保存
      --程序激活控制：
      --泵抽真空，蒸发沉积，加热， 旋转等
      --膜厚度检测和控制多层薄膜沉积
      --系统状态，数据加载等
      --问题解答和联动状态

扩展功能：

1、质量流量控制器：反应和等离子体辅助惰性气体控制
    2、离子源和控制器：等离子体辅助沉积
    3、射频电源：基底预先处理
    4、温度控制器：基底加热
    5、热蒸发器：1 or 2 boat
    6、蒸镀源cell：1 or 2 for doping
    7、冷却器：系统冷却