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更新时间：2019-08-14 14:23:473627
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款PECVD系统配置：1.1200度开启式双温区真空管式炉2.等离子射频电源3.多路质量流量控制系统4.真空系统（可选配中真空或高真空）
PECVD系统产品应用：
PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。
PECVD系统产品组成：
此款PECVD系统配置：
1.1200度开启式双温区真空管式炉
2.等离子射频电源
3.多路质量流量控制系统
4.真空系统（可选配中真空或高真空）
PECVD系统产品特点：
生长温度低；沉积速率快；成膜质量好，适用范围广，设备简单。
系统名称
1200℃双温区PECVD系统
系统型号
PECVD-12II-3Z/G
PECVD-12II6-3Z/G
zui高温度
1200℃
加热区长度
420mm
610mm
恒温区长度
280mm
400mm
温区
双温区
双温区
石英管管径
50/ 60/ 80
80/ 100
额定功率
3.2Kw
4.8Kw
额定电压
220V
220V
温度控制
国产程序控温系统50段程序控温；
控制精度
1℃
炉管zui高工作温度
＜1200℃
气路法兰
本实用新型在密封法兰与管件连接的地方采用多环密封技术，在密封法兰与管外壁间形成了密封，在管件外径误差较大的情况下密封仍然有效，该密封法兰的安装只需在*次使用设备的时候安装
气体控制方式
质量流量计
气路数量
3路（可根据具体需要选配气路数量）
流量范围
0-500sccm(标准毫升/分，可选配）氮气标定
精度
1%F.S
响应时间
4sec
工作温度
5-45℃
工作压力
进气压力0.05-0.3Mpa(表压力）
系统连接方式
采用KF快速连接波纹管、高真空手动挡板阀及数显真空测量仪
规格
中真空
高真空
系统真空范围
10Pa-100Pa
1x10-3Pa-1x10-1Pa
真空泵
双极机械泵理论极限真空度1x10-1Pa，抽气速率4L/S,出气口配有油污过滤器，额定电压220V，功率0.55Kw
真空分子泵理论极限真空度
1x10-4Pa抽气速率160L/S
额定电压220V 功率2Kw
信号频率
13.56MHz 005%
功率输出范围
5W-500W
zui大反射功率
200W
射频输出接口
50 ，N-type,temale
功率稳定度
0.1%
谐波分量
-50dbc
供电电压
单相交流（187V-253V)频率50/60HZ
整机功率
70%
屏幕显示
正方向功率，匹配器电容位置，偏置电压值
炉体外形尺寸
340 580 555mm
480 770 605mm
系统外形尺寸
530*2310*750mm
530*2310*750mm(不含高真空）
系统总重量
270kg
350kg
