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产品简介 产地类别 国产 旋涂机 型号:KW-4B
适合半导体硅片的匀胶镀膜等其用途广泛包括适合硅片,晶片,基片,ITO导电玻璃等各种胶体的工艺制版表面涂覆或光刻工艺匀胶。
详细介绍
旋涂机 型号:KW-4B
适合半导体硅片的匀胶镀膜等其用途广泛包括适合硅片,晶片,基片,ITO导电玻璃等各种胶体的工艺制版表面涂覆或光刻工艺匀胶。
详细介绍: 匀胶机(英文名:Spin Coater)
行业俗称:匀胶台,甩胶机,涂胶机,镀膜机,涂层机,旋涂机,旋涂仪等。
产品概述:
同德品牌KW型匀胶机适应于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆.
Ⅰ档 调速范围:10-10000转/分
1、调速范围和匀胶时间:Ⅰ档 匀胶时间:0-999秒
Ⅱ档 调速范围:10-10000转/分
Ⅱ档 匀胶时间:0-999秒
2、兼容基片: 5- 120mm硅片及其它材料等匀胶
3、显示方式:双LED数字显示实时速度与倒计时时间
4、转速稳定度: 0.5%
5、膜的均匀性: 1%
6、电机功率:40W
7、供电方式:单相110-240V供电
8、真空泵抽气速率: 60升/分
9、仪器尺寸:210 220 160mm
10、匀胶机重量:6.5KG
11、泵重量:9KG
12、特色功能:1.全机身采用304不锈钢材质
2.单按键控制电机启动,暂停,复位
3.单片机延时控制电磁阀启动与停止
13、配套片托:5-120mm
产品名称:烤胶机 烘胶机
产品型号:SC-H
烤胶机 烘胶机 型号:SC-H
SC系列烤胶机(热板)适应于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆后,薄膜烘干,固化。热板温度稳定度高,重复性好。可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。
产品主要特点:
1、稳定性能非常好,温度稳定度可达 0.5℃。
2、温度调节范围宽:室温-500℃
2、采用闭环控制,升温速度快。
3、具有定时功能。同时带倒计时显示功能。
4、采用数字按键控制温度与时间,温度与时间设定更加精确。
5、机身全部采用不锈钢,耐酸耐碱耐腐蚀。
6、针对客户基片尺寸大小,提供加热板定制服务。
性能指标:
1、温度范围:室温-400℃,温控连续可调。
2、恒温波动度: 0.5℃
3、温度均匀性: 3%(zui高温度时,工作台板上各处温度均匀性)
4、定时范围:0-999分钟(当定时设定为0时,定时不起作用)
5、电源电压:单相110-240V供电
6、加热板尺寸:200x200mm
7、仪器尺寸:210 220 160mm
8、重量:6.5KG
1、温度范围:室温-500℃,温控连续可调。
2、恒温波动度: 0.5℃
3、温度均匀性: 3%(zui高温度时,工作台板上各处温度均匀性)
4、定时范围:0-999分钟(当定时设定为0时,定时不起作用)
5、电源电压:单相110-240V供电
6、加热板尺寸:200x200mm
7、仪器尺寸:210 220 160mm
8、重量:6.5KG
产品名称:乙酸乙酯皂化反应测定装置
产品型号:ZHFY-Ⅰ
乙酸乙酯皂化反应测定装置 型号:ZHFY-Ⅰ
本测定装置采用电导法测定化学反应速率常数,并通过图解法求二级反应的速率常数。
一体化设计,同时具有电导功能及计数功能。外形美观,操作简便。
该实验装置不仅能进行乙酸乙酯皂化反应速率常数的测定,还可进行电导率的测定实验。
可选配和计算机连接的RS232C串行口。
技术指标:
* 测量范围:0~2 105us/cm
* 基本误差: 1.2%
* 温度补偿范围:(10~40)℃
* 计时范围:0~99.9分钟
* 模拟信号输出:0~10mV(DC)
* 消耗功率:20W
* 可选配SYP系列玻璃恒温水浴
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