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产品简介
NILT主要产品包括:
- 热压和紫外压印服务
- 纳米压印模版
- 纳米压印设备
热压和紫外压印服务
高分子聚合物中间层压印技术可以实现纳米压印/热压印非平面化的压印，同时高分子聚合物中间层的热塑弹性材料实现纳米结构的转移和复制。可保护昂贵的母板因多次转印而损坏，同时用于母板的复制。材料方面
应用方面
Silicon NIL 硅纳米压印模板
硅纳米压印光刻用于热纳米压印光刻或作为母板的聚合物生产。 由客户提供的一项决议规定下任何图案分辨率达20nm纳米和宽比可达1:10。
微透镜阵列的定制模板
模板与凹形或凸形的微透镜阵列用于通过热压印或注塑生产使用。
熔融石英NIL 压印模板
熔融二氧化硅纳米压印光刻模板用于紫外纳米压印光刻技术。
NILT提供熔融石英模板，由客户指定的任何模式下低于30nm和宽比可达1:5。
微流体和LOC垫片
通过热压印或注塑定制垫片的镍生产微流体和实验室级芯片(LOC)系统。
Nickel Shims镍垫片
镍垫片被用于热压印和辊到辊子设置。 NILT提供镍与邮票大小达600mm x 600mm，厚度降低到50µm。镍垫片可以用图形化的微结构和纳米结构。
PDMS NIL 压印模板
PDMS模板是由硅或熔融石英大师铸造。 NILT提供的PDMS，分辨率降低到100 nm，具有高宽比可达1：2。
聚合物NIL 压印模板
聚合物纳米压印光刻是由硅或石英玻璃制成的母板，典型地由热纳米压印光刻工艺。 NILT任何聚合物并与客户指定的任何模式提供聚合物模板。最小i 分辨率I50nm，纵横比可以高达1:3。
65-压印模板
由熔融二氧化硅和用于紫外线步进 - 重复过程。 分辨率下降到50 nm，可定任何模式，纵横比高达1：5。
纳米压印模版Microlens Array 微透镜阵列标准印记含有紧密堆积排列为蜂窝形状与各个透镜之间三维交叉点的微透镜的结构
直线和圆弧工程风口
专为一组多功能设计扩散器的研发工作，以及对产品和工艺的开发。
线栅型偏振Wire Grid Polarizer理想的生产线栅偏振器的通过纳米压印光刻，用于测试目的。邮票的特点为 12 mm x 12 mm，50 nm的线条和空间的大型活动区域。光栅光栅标准压印成本低， 可印链路和支柱光栅图案，客户可根据不同规格来选择。防反光Anti-Reflective是大面积和高性价比的功能标准邮票镍具有渐变折射率分布，并与不断变化的有效折射率。多点模式Multi-Pattern多模式标准压印是最佳的纳米压印工艺试验NIL设备和测试。本标准邮票带有线宽下降到50nm。亚微米Sub-Micro标准压印是最佳的内部纳米压印光刻技术和热压测试和工艺开发。压印包含4种不同尺寸和4种不同的模式。大面积支柱型压印大面积的支柱标准邮票是在硅谷高品质标准的印章与光子晶体和防反射结构的大面积图案。它有4个区域，每次1cm x 1cm，方形阵列的支柱。Micro Test方形结构阵列500nm非常适合纳米压印光刻技术和热压领域内工艺试验。压印的特点是具有3，5，10和20微米大小的方形石柱/孔阵列微型标准压印是最佳的内部纳米压印光刻技术和热压测试和工艺开发。印模含有3种不同尺寸3个不同的图案。
65-Stamps线寬至100nm.微型注射针头结构The micro-needle standard stamp 微针标准戳记包含的微针的逆结构 - 即微针形孔。微针标准戳记可用于生产微针或者通过热压印或铸造。Diffraction Grating衍射光栅光栅的间距在这两种情况下为500nm和光栅的平均深度为250nm。纳米压印设备
CNI - Thermal NIL Tool
EZI - UV NIL Tool
NIL Simprint Core v2.1 - 仿真软件
NILT CNI 实验用纳米热压印机是专为实验室和研发机构设计和开发的简单易用、性能稳定的研发型设备，用户可以通过CNI设备高效、低成本地实现高精度的纳米热压工艺，许多知名的研发机构均购买了CNI的设备。NILT CNI热压设备，占地小、操作简便，可实现高质量的图形复制，可实现纳米热压设备的一切功能，而无需昂贵的工艺设备。
典型应用：
在硅片上制作纳米级光栅
压印易碎的材料(例如III-V族材料)
微结构加工
制作压印印章
保护母版的适用寿命
热压高深宽比结构图形
主要性能：
可加工4英寸以下任意尺寸衬底
拥有专利技术的卡盘设计，可保证快速升温、降温并保持良好的温度均匀性。
EZImprinting（EZI）纳米压印技术平台（NTP）是一个独立的纳米压印站包括自动释放™功能的纳米压印模块和自动印记控制器。
PLC屏幕程序控制
客户可自由设置工艺参数
晶圆与模板由真空卡盘固定
兼容传统的UV固化压印胶工艺
4“晶圆，压印区域为2”
压印范围：0 - 25PSI (可升级到100PSI)
压印模板尺寸： 5 x 0.090"
产量预计： 5分钟/片
为了支援纳米压印用户，节省了宝贵的时间在实验室上的印记参数的优化，NILT提供Simprint仿真软件。
该软件提供了残积层厚度 (RLT)的变化模拟，并协助确定最佳工艺参数。
主要性能：
- 残留层厚度模拟
- Fast full-chip 模拟
- 支援UV-NIL及热压NIL
- 模拟粗糙的基材的影响
Simprint Core v2.1 - 仿真软件
