研磨剂

研磨剂是指用磨料、分散剂(又称研磨液)和辅助材料制成的混合剂，习惯上也列为磨具的一类。研磨剂用于研磨和抛光，使用时磨粒呈自由状态。由于分散剂和辅助材料的成分和配合比例不同，研磨剂有液态、膏状和固体的3 种。

研磨剂是一种含有摩擦材料的研磨用品，其分类方法如下：

1、研磨剂使用范围不同分类

研磨剂可分为普通型研磨剂和透明漆研磨剂。

普通型研磨剂中作为摩擦材料的一般都是坚固的浮岩，根据浮岩颗粒的大小，分为深切(或称重度)、中切(或称中度)和微切(或称轻度)三类，主要用于处理普通漆不同程度的氧化、划痕和褪色等漆膜缺陷。坚硬浮岩如用在透明漆上很快就会把透明漆层打掉，因此它们不适合透明漆的研磨。透明漆研磨剂中的摩擦材料为微晶体颗粒和合成磨料，它们具有一定的切割功能，但不像浮岩那样坚硬。

2、研磨剂切割方式分类

研磨剂可分为物理切割方式的研磨剂、化学切割方式的研磨剂和多种切割方式的研磨剂。

物理切割方式的研磨剂有浮岩型和陶土型两种;化学切割方式的研磨剂有微晶体型;多种切割方式的研磨剂主要是中性研磨剂。

水性研磨剂是采用极细小的高硬度磨料制成。因此磨料硬度极高，具有多个尖角原因，能轻松研磨高硬度漆面。因为磨料粒子极小的原因，研磨作业后不留太阳纹。还添加了固态松香粉和水溶性树脂。固态松香粉在研磨初期，因其干涩的特性增加摩擦力，使磨料的研磨效能急剧增加。

研磨后期，因研磨高温作用，松香粉化为液体，起润滑作用。水溶性树脂在研磨后期高温作用下变为粘稠液体，包裹在磨料表面，防止磨料飞散，降低磨料研磨力度，并配合松香的润滑性能，演绎出不产生太阳纹的极致抛光效果。

水性研磨剂的特点：

1、更加环保

近年来为治理越来越严重的雾霾等环境问题北京2017年开始禁止使用油性油漆，全不要改成环保的水性漆，自然研磨剂也逐步改成环保的水性研磨剂。

2、更好清洗，不需要脱脂

现在镀晶镀膜项目很普遍，但是抛光后为了保证镀晶层的附着力都要走一次脱脂的步骤。传统油性研磨剂不溶于水洗干净后还是有油脂残留在漆面上，导致镀晶层附着力下降，脱皮。所以必须要做一次脱脂(脱脂剂可以让残留油脂挥发掉。水性研磨剂抛光后只用洗车液就可以洗干净残留油脂，提高作业效果。

3、施工更为直观

油性研磨剂里的油脂在研磨过程中起到几个作用：提亮的作用这一作用对于施工者来讲有好的一面和坏的一面。

好的一面是：抛光时漆面快速透亮，并且收完蜡后的亮度也比水性要好一点点。

不好的一面是：施工过程中油脂渗透到细微的划痕缝隙里面，这样一来施工者看不到未抛完的那些细小缺陷，从而容易误导施工者，而且洗车后漆面完全暴露。

水性研磨剂在施工过程中大大降低油脂遮盖现象，施工者可以实时监控漆面的真实情况。

4、强切削，收尾快

少了油脂的润滑作用，切削力更加强筋，收尾更快。

稀土抛光粉的主要成分是见氧化铈(CeO2)，它是研磨剂中的佼佼者。

过去，被用作研磨剂的主要有二氧化硅(SiO2)、二氧化硅(SiO2)和三氧化二铁(Fe2O3)，但它们都没有稀土抛光粉的研磨效果好，所以才逐渐被稀上抛光粉所取代。

经过几十年的研制、生产和应用，稀土抛光粉已经形成三大类品级：

①低品级抛光粉内含CeO245%-50%，用量最多;

②中品级抛光粉内含CeO285%-90%，用量较少;

③高品级抛光粉内含CeO290%-99%，用且更少。

国外于60年前便开始生产三大类品级稀土抛光粉，至今已形成标准化、系列化，产品牌号已达30多种。完全可以满足各工业部门的需要。我国起步较晚，从60年代中期到70年代末期虽然已经初步完成三大类品级稀土抛光粉的生产，但尚未形成标准化系列化，还不能完全满足各工业部门的需要。

生产稀土抛光粉的原料主要有两种:

①氟碳铈矿精矿。用它生产抛光粉虽然价格便宜，但由于产品质量差，所以用途不广。

②混合氯化稀土。用它生产抛光粉虽然价格贵些，但由于产品质量好，所以用途较广。

用氟碳铈矿精矿生产稀土抛光粉的工艺过程是：原料→配料→焙烧→细磨→筛分→检测→产品。

用混合氯化稀土生产稀土抛光粉的工艺过程是：原料→配料→沉淀→煅烧→细磨→筛分→产品。

国内外的生产实践证明，用稀土抛光粉取代Fe2O3会显示出如下一些优点:①抛光效率高，抛光能力可提高3倍-4倍;②可使被抛光的工件合格率提高30%以上;③可使被抛光制品获得较高的光洁度;④使用寿命可提高9倍且不污染环境;⑤粒度细而均匀，化学活性好，可使抛光模具有较好的吻合。

稀土抛光粉研磨剂目前已被广泛应用于各种平板玻璃、光学玻璃、精密金属制品、显像管、示波管、眼镜片、半导体晶片等产品的抛光。

眼下，生产稀土抛光粉的国家主要有美、法国、独联体、日本和中国。据统计，全世界的稀土抛光粉年生产能力为5500吨，实际年生产量为5000吨，实际年消耗量为4800吨。我国稀土抛光粉的生产能力，生产量和消耗量分别占全世界总数的13%和10%。我国1994、1995和2000年稀土抛光粉的年产量分别为500吨、600~650吨和1000吨。