
品牌: 法国KLOE 型号: UV-KUB 3 产地:法国 供应商:浙江扬清芯片技术有限公司 桌面型紫外掩膜对准机是全球shoukuan装备有紫外LED光源的mask aligner,是掩膜对准器中的理想冷光源紫外掩膜对准曝光机。能够在4英寸工作面积上实现2微米微结构,对准精度高达3微米,广泛用于光刻掩膜对准曝光,适用于微流体芯片,微电子,光学微结构,MEMS等微纳器件的光刻制作。
品牌: 法国KLOE 型号: UV-KUB 2 产地:法国 供应商:浙江扬清芯片技术有限公司 UV-KUB 2是一款基于UV-LED技术的小型多功能曝光光刻设备,广泛地应用于高校、研究所以及企业研发机构的MEMS实验室、微流控实验室、光电实验室以及生物技术实验室等,其具有下列特点: -低成本,结构紧凑,占地面积小; -LED单色光全幅面曝光,均匀性好,效率高; -使用UV-LED 冷光源,实时对温度控制减小温差对材料的影响; -光源寿命超过10000小时; -开机后无需预热; -可实现垂直沟槽的制作,发散角 2°; -触摸屏操作,简单易行。
品牌: 浙江扬清 型号: URE-2000/35 产地:杭州 供应商:浙江扬清芯片技术有限公司 创新采用三柔性支点实现高精度自动调平;真空接触自动曝光;样片升降、调平、接触、曝光、复位实现自动化控制;采用积木错位蝇眼透镜实现高均匀照明;可连续设定分离间隙;采用双目双视场显微镜实现高对准精度。整机具有性能可靠、操作方便、自动化程度高等特点。
品牌: 法国KLOE 型号: Dilase 250 产地:法国 供应商:浙江扬清芯片技术有限公司 主要优势 ► 小巧桌上型系统 ► 掩膜板制作及激光直写 ► 375nm 或405nm 激光源 ► 兼容所有光刻胶 ► 高深宽比: 1 x 20
品牌: 徕卡显微系统 型号: LMD6 产地:德国 供应商:北京安麦格贸易有限公司 徕卡激光显微切割系统LMD6带来了全球领先的显微切割技术。 与传统激光显微切割系统不同,徕卡激光显微切割系统无需移动样品,而是通过移动激光、重力收集,最大限度地避免样品污染,为您提供可即时分析的完美切割组织样品。
品牌: 徕卡显微系统 型号: LMD7 产地:德国 供应商:北京安麦格贸易有限公司 徕卡激光显微切割系统LMD7带来了全球领先的显微切割技术。 与传统激光显微切割系统不同,徕卡激光显微切割系统无需移动样品,而是通过移动激光、重力收集,最大限度地避免样品污染,为您提供可即时分析的完美切割组织样品。
品牌: 徕卡显微系统 型号: LMD7 产地:德国 供应商:北京德利卡生物技术有限公司 徕卡激光显微切割系统LMD7带来了全球领先的显微切割技术。 与传统激光显微切割系统不同,徕卡激光显微切割系统无需移动样品,而是通过移动激光、重力收集,最大限度地避免样品污染,为您提供可即时分析的完美切割组织样品。
品牌: 徕卡显微系统 型号: LMD6 产地:德国 供应商:北京德利卡生物技术有限公司 徕卡激光显微切割系统LMD6带来了全球领先的显微切割技术。 与传统激光显微切割系统不同,徕卡激光显微切割系统无需移动样品,而是通过移动激光、重力收集,最大限度地避免样品污染,为您提供可即时分析的完美切割组织样品。
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