
品牌: 日立 型号: NX9000 产地:日本 供应商:天美(中国)科学仪器有限公司 -高亮度场发射电子枪冷 冷场发射电子枪先天具有的高亮度和高能量分辨率的特点,使纳米量级分析研究成为可能,对超高分辨图像和电子全息摄影具有极大贡献。 -300kV高压系统 300kV高压系统具有更高的穿透能力,保证了厚样品的原子分辨率图像,降低了样品制备难度,尤其对于金属、陶瓷等高原子序数样品的观测十分有利。 -独特的分析能力 新引入了双重双棱镜全息摄影功能、高空间分辨率电子能量损失谱(EELS)和高精度平行纳米束衍射技术等独特的分析技术。
品牌: 日立 型号: NX2000 产地:日本 供应商:天美(中国)科学仪器有限公司 1.高分辨成像,高衬度成像分辨率:二次电子(3.5nm@1kV),二次离子(4nm@30kV); 2.可实时观察加工过程; 3.全自动TEM样品制备。
品牌: 日立 型号: MI4050 产地:日本 供应商:天美(中国)科学仪器有限公司 产品简介日立新型FIB系统 MI4050MI4050是高效率的聚焦离子束设备,它使用了全新的电子光学系统,具有世界领先的SIM图像分辨率,并且TEM样品制备效果优异。MI4050广泛用于截面观察、微电路修复、纳米图像制备和纳米沉积等。主要特点:1.高效率、高质量加工,二次离子分辨率:4nm@30kV2.高分辨、高衬度SIM成像3.全自动TEM样品制备4.大尺寸样品加工 应用领域:1.纳米材料微加工2.半导体及电子元器件材料3.生命科学
品牌: 美国FEI 型号: Tecnai™ 产地:荷兰 供应商:北京圣嘉宸科贸有限公司 FEI推出的Tecnai 系列透射电子显微镜 (TEMs) 在为生命科学、材料科学和电子行业提供了真正完整的成像和分析解决方案。 Tecnai G2 系列拥有数种型号,结合了现代技术和创新科学和工程团体的紧迫需求。其中Titan G2 60-300 是适用于二维和三维材料表征和化学分析的功能最强大的高分辨率扫描透射式电子显微镜 (S/TEM),具备最宽的 60-300kV 加速电压范围,分辨率可提升至原子级,并且允许单台仪器完美结合 Cs校正、单色仪和 新颖的超稳定高亮度电子枪 (X-FEG),具有卓绝的 STEM 和 TEM 成像性能。技术参数:样品电子源 (kV)放大倍数样品台相机 长度 (mm)EDS 立体 角 (srad)Tecnai Osiris 20 - 200 kV 22 x - 930 kx (TEM) X = ± 1 mm Y = ± 1 mm Z = ± 0.375 mm 30 - 4,500 0.9Tecnai 30 50 - 300 kV 58 x - 970 kx (TEM) 100 x - 5Mx (STEM) X = ± 1 mm Y = ± 1 mm Z = ± 0.375 mm 80 - 5,600 0.13Tecnai F30 50 - 300 kV 58 x - 970 kx (TEM) 150 x - 230 Mx (STEM) X = ± 1 mm Y = ± 1 mm Z = ± 0.375 mm 80 - 5,600 0.13Tecnai Spirit 20 - 120 kV 18 - 650,000 (TEM) X、Y 移动 2 mm样品尺寸 3 mm n/a n/aTecnai Polara 50 - 300 kV 18 - 650,000 (TEM) X、Y 移动 2 mm样品尺寸 3 mm n/a n/a
品牌: 美国FEI 型号: Titan 产地:荷兰 供应商:北京圣嘉宸科贸有限公司 自 2005 年FEI推出以来,Titan以其卓越的产品设计和已获证明的具有突破性的性能和结果成为全球各地杰出研究人员的首选扫描/透射电子显微镜 (S/TEM)。FEI Titan S/TEM 系列包括全球功能最强大的商用 S/TEM: Titan G2 60-300、Titan3 G2 60-300、Titan Krios 和 Titan ETEM (环境 TEM)。 所有 Titans 均使用革命性的 60-300 kV 电子镜筒,通过 TEM 和 STEM 模式在各种材料和工作条件下进行亚原子级的探索和研究。技术参数:产品能散点分辨率信息分辨极限STEM 分辨率Titan G2 60-300 0.2 - 0.8 eV 80 pm 80 pm 80 pmTitan ETEM 0.7 - 0.8 eV 0.1 nm (标准)0.12 nm (ETEM) 0.1 nm (标准)0.12 nm (ETEM) 0.136 nm (标准)0.16 (ETEM)Titan3 G2 60-300 0.2 - 0.8 eV 80 pm 70 pm 70 pmTitan Krios 0.7 - 0.8 eV n/a 0.14 nm 0.204 nm
品牌: 日立 型号: HD-2700 产地:日本 供应商:天美(中国)科学仪器有限公司 1.整体的解决方案 样品杆与日立FIB兼容,提供了纳米尺度的整体解决方案,从制样到数据获得和最终分析。 2.多种评价和分析功能可选 可同时获得和显示SE amp;BF、SE amp;DF、BF amp;DF、DF/EDX和DF/EELS像;可以配备ELV-2000型实时元素Mapping系统(DF-STEM像可以同时获得);可以同时观察DF-STEM像和衍射像;可以配备超微柱头样品杆进行三维分析(360度旋转)等。
品牌: 日立 型号: HT7800 产地:日本 供应商:天美(中国)科学仪器有限公司 HT7800具有优异的操作性与多样的自动功能,通过将CCD相机与显微镜主机的操作相统一,可以在显示器画面上轻松、简便地进行操作,高刷新率的CMOS荧光相机可以实现在明亮环境下操作,独特的双隙物镜可以实现高分辨率和高反差观察的一键切换,满足不同领域的需求。
品牌: 日立 型号: HT7830 产地:日本 供应商:天美(中国)科学仪器有限公司 HT7800具有优异的操作性与多样的自动功能,通过将CCD相机与显微镜主机的操作相统一,可以在显示器画面上轻松、简便地进行操作,高刷新率的CMOS荧光相机可以实现在明亮环境下操作,独特的双隙物镜可以实现高分辨率和高反差观察的一键切换,满足不同领域的需求。
品牌: 日立 型号: HF5000 产地:日本 供应商:天美(中国)科学仪器有限公司 HF5000作为一款球差校正冷场发射透射电镜,其分辨率达到了亚埃级,可以实现对样品的超细微观结构的观察和分析,适用于金属、陶瓷、半导体、纳米材料等的观察。同时,HF5000独特的TEM、STEM、SEM三位一体功能不仅可以实现对材料内部结构的研究,也可以获得材料表面的信息。原子级分辨率的二次电子探测器可以弥补TEM和STEM无法观察样品表面的缺陷,同时相比普通的SEM又具有更高的分辨率,可以满足样品表面高分辨形貌和结构观察的需求,与TEM和STEM形成互补。全自动化的球差校正过程又大大简化了球差校正透射电镜的使用难度,提高了观察效率,尤其适合测试平台和科研中心等用户。
品牌: 日立 型号: HF-3300 产地:日本 供应商:天美(中国)科学仪器有限公司 -高亮度场发射电子枪冷 冷场发射电子枪先天具有的高亮度和高能量分辨率的特点,使纳米量级分析研究成为可能,对超高分辨图像和电子全息摄影具有极大贡献。 -300kV高压系统 300kV高压系统具有更高的穿透能力,保证了厚样品的原子分辨率图像,降低了样品制备难度,尤其对于金属、陶瓷等高原子序数样品的观测十分有利。 -独特的分析能力 新引入了双重双棱镜全息摄影功能、高空间分辨率电子能量损失谱(EELS)和高精度平行纳米束衍射技术等独特的分析技术。
品牌: 日立 型号: H-9500 产地:日本 供应商:天美(中国)科学仪器有限公司 -高亮度场发射电子枪冷 冷场发射电子枪先天具有的高亮度和高能量分辨率的特点,使纳米量级分析研究成为可能,对超高分辨图像和电子全息摄影具有极大贡献。 -300kV高压系统 300kV高压系统具有更高的穿透能力,保证了厚样品的原子分辨率图像,降低了样品制备难度,尤其对于金属、陶瓷等高原子序数样品的观测十分有利。 -独特的分析能力 新引入了双重双棱镜全息摄影功能、高空间分辨率电子能量损失谱(EELS)和高精度平行纳米束衍射技术等独特的分析技术。
品牌: 日立 型号: HT7820 产地:日本 供应商:天美(中国)科学仪器有限公司 日立最新推出120kV透射电镜HT782机型,该机型继承了标准版HT7800高速CMOS荧光屏相机设计、全数字化、大集成等优点和创新点,仍然采用第二代双隙物镜的设计,设计使用高分辨物镜,标配LaB6灯丝,性能实现突破性提升。此机型分辨率可保证0.144nm(晶格像),广泛应用于生命科学、医学、纳米材料和软材料研究领域。主要特点广泛应用与纳米材料和软材料研究领域。1) 包括高分子聚合物在内的系列软材料,样品组成元素多为轻元素,高的加速电压下很难得到高衬度图像,在低的加速电压(120kV)下可以得到较为理想的图像。2) 高分辨物镜可保证0.144nm的分辨率,可满足用户对高分辨图像的要求。3) 在较低的加速电压下,仍保持较高的分辨率,在最大程度降低样品损伤的同时,获得高质量的高分辨图片。 主要技术参数分辨率晶格分辨率[0.144 nm(120 kV)、放大倍数Zoom×200~×300,000 (HC模式)x2,000~x800,000 (HR模式) Low Magx50~x1,000加速电压20~120 kV (100 V/step连续可调)视野旋转x1,000~x40,000 (HC模式)±90 ° 步长15 °样品台优中心测角马达台移动范围X、Y:±1 mm,Z:±0.3 mm最大倾斜角度±30 °主相机800万像素(纵:横 = 3:4) (可选其他相机)标准配置功能※2自动聚焦、自动轨迹记录、 自动马达驱动、自动拍照、自动电子枪对中、 实时FFT显示、测量 (手动/自动)、Low dose、API(自动预辐照功能)、 镜筒柔性烘烤、全视野图像导航(Whole View)、 自动漂移校正※2根据选配项,可能有变
品牌: 日本电子 型号: JEM-Z300FSC 产地:日本 供应商:捷欧路(北京)科贸有限公司 场发射冷冻电子显微镜JEM-Z300FSC (CRYO ARM™ 300)配备了冷场发射电子枪、柱体内能量过滤器(Ω能量过滤器)、侧插式液氮冷却样品台和自动样品交换系统,能够在冷冻低温下观察生物大分子。样品交换系统内最多可以存储12个样品,可以任意取出和交换一个或数个样品,能灵活地进行测试排序。
品牌: 日本电子 型号: JEM-Z200FSC 产地:日本 供应商:捷欧路(北京)科贸有限公司 场发射冷冻电子显微镜 JEM-Z200FSC CRYO ARMTM 200标配冷场发射电子枪、柱体内能量过滤器(Ω能量过滤器)、液氮冷却样品台和12位自动样品更换系统。新设计的Ω能量过滤器与无孔位相板的完美组合,进一步提高了生物样品的衬度。
品牌: 日本电子 型号: JEM-1400Flash 产地:日本 供应商:捷欧路(北京)科贸有限公司 从生物技术到纳米技术、高分子和高新材料,JEM-1400Flash被广泛应用在多个领域,而且用途越来越广。其中,以生物领域为首的高分子材料研究、医疗品、病理切片、病毒、由荧光显微镜做过标记的样品等的观察,首先用低倍率确认细胞组织或材料结构、样品位置、观察区域的整体情况,再用高倍率详细观察感兴趣的微细结构。近年来,对于这一系列的观察程序的简单化和获取高通量数据快速化的需求越来越迫切。为了满足这些需求,新款120kV透射电子显微镜JEM-1400Flash配备了高灵敏度sCMOS相机、超大视野的蒙太奇系统以及与光学显微镜图像的联动功能。
品牌: 日本电子 型号: EM-05500TGP 产地:日本 供应商:捷欧路(北京)科贸有限公司 TEM断层扫描系统实现了从获取连续倾斜图像到三维重构整个过程的自动化。为使电子断层扫描特有的各种调整能够自动化,TEM断层扫描系统采用了独特算法的软件(Recorder、Composer和Visualizer-Kai)。
品牌: 日本电子 型号: JEM-3200FS 产地:日本 供应商:捷欧路(北京)科贸有限公司 JEM-3200FS场发射电子显微镜配备了最高加速电压为300kV的场发射电子枪(FEG)和镜筒内置式Ω型能量过滤器,能为广泛的研究领域提供各种全新的解决方案。
品牌: 日本电子 型号: JEM-2100Plus 产地:日本 供应商:捷欧路(北京)科贸有限公司 JEM-2100Plus电子显微镜,不仅拥有信誉卓著的JEM-2100 的电子光学系统,还增加了最新的控制系统,大幅提高了可操作性。 多功能电子显微镜JEM-2100Plus性能优越,操作方便,简明易懂,在材料、医学、生物学等多个研究领域提供优异的解决方案。
品牌: 日本电子 型号: JEM-1000 产地:日本 供应商:捷欧路(北京)科贸有限公司 由于超高压透射电子显微镜的加速电压很高电子波长很短,即使增大物镜极靴之间的间隙,也能获得高分辨率的图像。此外,电子束具有很强的穿透能力,即使厚样品也能观察到清晰的图像,这是超高压透射电子显微镜的最大优点。
品牌: 日本电子 型号: JEM-ARM300F GRAND ARM 产地:日本 供应商:捷欧路(北京)科贸有限公司 JEM-ARM300F实现了世界最高扫描透射像(STEM-HAADF)分辨率,配备了JEOL自主研发的球差校正器,最高加速电压可达300kV,是一款原子级分辨率电子显微镜。实现了世界最高的STEM-HAADF像分辨率。
品牌: 美国FEI 型号: Themis Z 产地:美国 供应商:赛默飞世尔科技电子显微镜 用于材料科学领域最先进的电子显微镜Themis Z,具有无与伦比的性能,灵活性和可重复性。它所采用的新型S-CORR像差校正器,是唯一能够完全校正五阶像散A5和五阶球差C5的校正器,能够在最宽的加速电压范围内实现亚埃STEM分辨率。
品牌: 美国FEI 型号: Tecnai G2 系列 产地:美国 供应商:赛默飞世尔科技电子显微镜 FEI Tecnai™ 透射电子显微镜 (TEM) 旨在为生命科学、材料科学、纳米技术以及半导体和数据存储行业提供真正的通用成像和分析解决方案。
品牌: 美国FEI 型号: Talos 产地:美国 供应商:赛默飞世尔科技电子显微镜 Talos F200X S / TEM可在多个维度上提供最快,最精确的纳米材料定量表征。 Talos F200X S / TEM具有旨在提高产量,精度和易用性的创新功能,是学术,政府和工业研究环境中高级研究和分析的理想选择。
品牌: 美国FEI 型号: Titan Krios G2 产地:美国 供应商:赛默飞世尔科技电子显微镜 Titan Krios™ G2透射电子显微镜(TEM)专门用于蛋白质和细胞的成像。采用革新性的冷冻技术,具有很高的稳定性,可用于各种半自动化应用,包括:单颗粒分析、双轴细胞电子断层成像、冷冻电子显微镜,二维电子晶体学和亚细胞器官或细胞在含水状态下的冷冻电子显微镜观察。
品牌: 美国FEI 型号: Tecnai G2 Spirit 产地:美国 供应商:赛默飞世尔科技电子显微镜 Tecnai G2透射电子显微镜是FEI生产的新型、性能优越的艺术级仪器。Tecnai G2运行在Windows XP的操作系统下,提供了高性能和多功能, 用户在使用方便、个性化和安全环境下可轻易获得大量的高质量分析成果。Tecnai G2使透射电子显微镜的操作比以往更方便简捷。 在Tecnai G2上, 所有的操作和探测系统(包括透射扫描附件、视频监视器、CCD相机、EDX能谱仪、EELS电子能量损失谱和能量过滤器)可以全部集成到一个系统之中, 通过一个显示器、鼠标和键盘进行操作。
品牌: 美国FEI 型号: Tecnai G2 20 产地:美国 供应商:赛默飞世尔科技电子显微镜 对材料特性的全面认识是理解材料性能的基本前提。材料形态、晶体结构、化学成分、界面结构、表面以及缺陷都对材料的性能产生影响。透射电子显微镜已经被证实是在小到埃级尺寸研究各种普通材料和先进材料的非常有效的技术。它能够产生很多的信号, 这些信号携带了不同类型的有用信息。Tecnai G2 20经过特殊设计可以快速有效地采集和处理这些信号。将高分辨图像、明场/暗场图像、STEM图像、电子衍射和详细的微观分析有机的结合起来, 使Tecnai G2 20成为材料分析研究的重要仪器。
有关威思曼及其更多高压产品的信息,请致电 086-029-33693480或访问其网站:www.wismanhv.com 威思曼高压电源有限公司是世界具有领导地位直流高压电源和一体化X射线源供应商,同时提供标准化产品和定制设计服务。产品广泛应用于医疗,工业,半导体,安全,分析仪器,实验室以及海底光纤等设备。集设计,生产和服务为一体的工厂分布于美国,英国,及中国等地,并且我们销售中心遍布于欧洲,北美洲以及亚洲,我们将竭诚为您服务!
电子显微镜科技名词定义 中文名称:电子显微镜 英文名称:electron microscope 其他名称:电镜 定义1:按电子光学原理用电子束使样品成像的显微镜。 应用学科:机械工程(一级学科);光学仪器(二级学科);电子光学仪器-电子显微镜(三级学科) 定义2:一类用电子束为光源,显示标本超微结构的显微镜。分为透射电子显微镜和扫描电子显微镜等。 应用学科:细胞生物学(一级学科);细胞生物学技术(二级学科) 以上内容由全国科学技术名词审定委员会审定公布。 扫描式电镜电子显微镜常用的有透射电镜(transmissionelectronmicroscope,TEM)和扫描电子显微镜(scanningelectronmicroscope,SEM)。与光镜相比电镜用电子束代替了可见光,用电磁透镜代替了光学透镜并使用荧光屏将肉眼不可见电子束成像。与光镜相比电镜用电子束代替了可见光,用电磁透镜代替了光学透镜并使用荧光屏将肉眼不可见电子束成像。 电子显微镜 电子显微镜,简称电镜,是根据电子光学原理,用电子束和电子透镜代替光束和光学透镜,使物质的细微结构在非常高的放大倍数下成像的仪器。电子显微镜由镜筒、真空装置和电源柜三部分组成。镜筒主要有电子源、电子透镜、样品架、荧光屏和探测器等部件,这些部件通常是自上而下地装配成一个柱体。电子透镜用来聚焦电子,是电子显微镜镜筒中最重要的部件。一般使用的是磁透镜,有时也有使用静电透镜的。它用一个对称于镜筒轴线的空间电场或磁场使电子轨迹向轴线弯曲形成聚焦,其作用与光学显微镜中的光学透镜(凸透镜)使光束聚焦的作用是一样的,所以称为电子透镜。光学透镜的焦点是固定的,而电子透镜的焦点可以被调节,因此电子显微镜不象光学显微镜那样有可以移动的透镜系统。现代电子显微镜大多采用电磁透镜,由很稳定的直流励磁电流通过带极靴的线圈产生的强磁场使电子聚焦。 电子显微镜电子源是一个释放自由电子的阴极,栅极,一个环状加速电子的阳极构成的。阴极和阳极之间的电压差必须非常高,一般在数千伏到3百万伏之间。它能发射并形成速度均匀的电子束,所以加速电压的稳定度要求不低于万分之一。样品架样品可以稳定地放在样品架上。此外往往还有可以用来改变样品(如移动、转动、加热、降温、拉长等)的装置。探测器用来收集电子的信号或次级信号。真空装置用以保障显微镜内的真空状态,这样电子在其路径上不会被吸收或偏向,由机械真空泵、扩散泵和真空阀门等构成,并通过抽气管道与镜筒相联接。电源柜由高压发生器、励磁电流稳流器和各种调节控制单元组成。
电子显微镜按结构和用途可分为透射式电子显微镜、扫描式电子显微镜、反射式电子显微镜和发射式电子显微镜等。透射式电子显微镜常用于观察那些用普通显微镜所不能分辨的细微物质结构;扫描式电子显微镜主要用于观察固体表面的形貌,也能与X射线衍射仪或电子能谱仪相结合,构成电子微探针,用于物质成分分析;发射式电子显微镜用于自发射电子表面的研究。 透射电子显微镜(TEMTransmission Electron Microscopy,亦称投射式电子显微镜)因电子束穿透样品后,再用电子透镜成像放大而得名。它的光路与光学显微镜相仿,可以直接获得一个样本的投影。通过改变物镜的透镜系统人们可以直接放大物镜的焦点的像。由此人们可以获得电子衍射像。使用这个像可以分析样本的晶体结构。在这种电子显微镜中,图像细节的对比度是由样品的原子对电子束的散射形成的。由于电子需要穿过样本,因此样本必须非常薄。组成样本的原子的原子量、加速电子的电压和所希望获得的分辨率决定样本的厚度。样本的厚度可以从数纳米到数微米不等。原子量越高、电压越低,样本就必须越薄。样品较薄或密度较低的部分,电子束散射较少,这样就有较多的电子通过物镜光栏,参与成像,在图像中显得较亮。反之,样品中较厚或较密的部分,在图像中则显得较暗。如果样品太厚或过密,则像的对比度就会恶化,甚至会因吸收电子束的能量而被损伤或破坏。透射式电子显微镜镜筒的顶部是电子枪,电子由钨丝热阴极发射出、通过第一,第二两个聚光镜使电子束聚焦。电子束通过样品后由物镜成像于中间镜上,再通过中间镜和投影镜逐级放大,成像于荧光屏或照相干版上。中间镜主要通过对励磁电流的调节,放大倍数可从几十倍连续地变化到几十万倍;改变中间镜的焦距,即可在同一样品的微小部位上得到电子显微像和电子衍射图像。为了能研究较厚的金属切片样品,法国杜洛斯电子光学实验室研制出加速电压为3500千伏的超高压电子显微镜。在能量过滤透过式电子显微镜(Energy Filtered Transmission Electron Microscopy,EFTEM)中人们测量电子通过样本时的速度改变。由此可以推测出样本的化学组成,比如化学元素在样本内的分布。 扫描电子显微镜(SEM Scanning electron microscope)的电子束不穿过样品,仅以电子束尽量聚焦在样本的一小块地方,然后一行一行地扫描样本。入射的电子导致样本表面被激发出次级电子。显微镜观察的是这些每个点散射出来的电子,放在样品旁的闪烁晶体接收这些次级电子,通过放大后调制显像管的电子束强度,从而改变显像管荧光屏上的亮度。显像管的偏转线圈与样品表面上的电子束保持同步扫描,这样显像管的荧光屏就显示出样品表面的形貌图像,这与工业电视机的工作原理相类似。由于这样的显微镜中电子不必透射样本,因此其电子加速的电压不必非常高。 扫描式电子显微镜的分辨率主要决定于样品表面上电子束的直径。放大倍数是显像管上扫描幅度与样品上扫描幅度之比,可从几十倍连续地变化到几十万倍。扫描式电子显微镜不需要很薄的样品;图像有很强的立体感;能利用电子束与物质相互作用而产生的次级电子、吸收电子和X射线等信息分析物质成分。扫描式电子显微镜的电子枪和聚光镜与透射式电子显微镜的大致相同,但是为了使电子束更细,在聚光镜下又增加了物镜和消像散器,在物镜内部还装有两组互相垂直的扫描线圈。物镜下面的样品室内装有可以移动、转动和倾斜的样品台。 场发射扫描电子显微镜(FESEM)是一种比较简单的扫描电子显微镜,它观察样本上因强电场导致的场发射所散发出来的电子。假如观察的是透过样本的扫描电子的话,那么这种显微镜被称为扫描透射电子显微镜(Scanning Transmission Electron Microscopy,STEM)。 透射式电子显微镜常用于观察那些用普通显微镜所不能分辨的细微物质结构;扫描式电子显微镜主要用于观察固体表面的形貌,也能与X射线衍射仪或电子能谱仪相结合,构成电子微探针,用于物质成分分析;发射式电子显微镜用于自发射电子表面的研究。 1926年汉斯布什研制了第一个磁力电子透镜。1931年厄恩斯特卢斯卡和马克斯克诺尔研制了第一台透视电子显微镜。展示这台显微镜时使用的还不是透视的样本,而是一个金属格。1986年卢斯卡为此获得诺贝尔物理学奖。1938年他在西门子公司研制了第一台商业电子显微镜。1934年锇酸被提议用来加强图像的对比度。1937年第一台扫描透射电子显微镜推出。 电子显微镜 一开始研制电子显微镜最主要的目的是显示在光学显微镜中无法分辨的病原体如病毒等。1949年可投射的金属薄片出现后材料学对电子显微镜的兴趣大增。1960年代投射电子显微镜的加速电压越来越高来透视越来越厚的物质。这个时期电子显微镜达到了可以分辨原子的能力。1980年代人们能够使用扫描电子显微镜观察湿样本。1990年代中电脑越来越多地用来分析电子显微镜的图像,同时使用电脑也可以控制越来越复杂的透镜系统,同时电子显微镜的操作越来越简单。 1.透射电镜技术:透射电镜是以电子束透过样品经过聚焦与放大后所产生的物像,投射到荧光屏上或照相底片上进行观察。透射电镜的分辨率为0.1~0.2nm,放大倍数为几万~几十万倍。由于电子易散射或被物体吸收,故穿透力低,必须制备更薄的超薄切片(通常为50~100nm)。其制备过程与石蜡切片相似,但要求极严格。要在机体死亡后的数分钟钓取材,组织块要小(1立方毫米以内),常用戊二醛和饿酸进行双重固定树脂包埋,用特制的超薄切片机(ultramicrotome)切成超薄切片,再经醋酸铀和柠檬酸铅等进行电子染色。电子束投射到样品时,可随组织构成成分的密度不同而发生相应的电子发射,如电子束投射到质量大的结构时,电子被散射的多,因此投射到荧光屏上的电子少而呈暗像,电子照片上则呈黑色,称电子密度高(electrondense)。反之,则称为电子密度低(electronlucent)。 2.扫描电镜技术 扫描电镜是用极细的电子束在样品表面扫描,将产生的二次电子用特制的探测器收集,形成电信号运送到显像管,在荧光屏上显示物体。(细胞、组织)表面的立体构像,可摄制成照片。扫描电镜样品用戊二醛和饿酸等固定,经脱水和临界点干燥后,再於样品表面喷镀薄层金膜,以增加二波电子数.扫描电镜能观察较大的组织表面结构,由於它的景深长,1mm左右的凹凸不平面能清所成像,故放样品图像富有立体感。 在使用透视电子显微镜观察生物样品前样品必须被预先处理。随不同研究要求的需要科学家使用不同的处理方法。固定:为了尽量保存样本的原样使用戊二醛来硬化样本和使用锇酸来染色脂肪。 冷固定:将样本放在液态的乙烷中速冻,这样水不会结晶,而形成非晶体的冰 电子显微镜下的病毒。这样保存的样品损坏比较小,但图像的对比度非常低。脱干:使用乙醇和丙酮来取代水垫入:样本被垫入后可以分割。分割:将样本使用金刚石刃切成薄片。染色:重的原子如铅或铀比轻的原子散射电子的能力高,因此可被用来提高对比度。使用透视电子显微镜观察金属前样本要被切成非常薄的薄片(约0.1毫米),然后使用电解擦亮继续使得金属变薄,最后在样本中心往往形成一个洞,电子可以在这个洞附近穿过那里非常薄的金属。无法使用电解擦亮的金属或不导电或导电性能不好的物质如硅等一般首先被用机械方式磨薄后使用离子打击的方法继续加工。为防止不导电的样品在扫描电子显微镜中积累静电它们的表面必须覆盖一层导电层。在电子显微镜中样本必须在真空中观察,因此无法观察活样本。在处理样本时可能会产生样本本来没有的结构,这加剧了此后分析图像的难度。由于投射电子显微镜只能观察非常薄的样本,而普通的光学显微镜有可能物质表面的结构与物质内部的结构不同。此外电子束可能通过碰撞和加热破坏样本。现在的最新技术可以在电子显微镜中观察湿的样本和不涂导电层的样本(环境扫描电子显微镜,Environmental Scanning Electron Microscopes,ESEM)。假如事先对样本的情况比较清晰的话则可以基本上进行不破坏的观察。此外电子显微镜购买和维护的价格都比较高。
性能比较 电子显微镜观察分辨能力是电子显微镜的重要指标,电子显微镜的分辨能力以它所能分辨的相邻两点的最小间距来表示,它与透过样品的电子束入射锥角和波长有关。可见光的波长约为300~700纳米,而电子束的波长与加速电压有关。依据波粒二象性原理,高速的电子的波长比可见光的波长短,而显微镜的分辨率受其使用的波长的限制,因此电子显微镜的分辨率(约0.2纳米)远高于光学显微镜的分辨率(约200纳米)。当加速电压为50~100千伏时,电子束波长约为0.0053~0.0037纳米。由于电子束的波长远远小于可见光的波长,所以即使电子束的锥角仅为光学显微镜的1%,电子显微镜的分辨本领仍远远优于光学显微镜。光学显微镜的最大放大倍率约为2000倍,而现代电子显微镜最大放大倍率超过300万倍,所以通过电子显微镜就能直接观察到某些重金属的原子和晶体中排列整齐的原子点阵。电子显微镜的分辨本领虽已远胜于光学显微镜,但电子显微镜因需在真空条件下工作,所以很难观察活的生物,而且电子束的照射也会使生物样品受到辐照损伤。其他的问题,如电子枪亮度和电子透镜质量的提高等问题也有待继续研究。 图像传感器:130万像素,彩色CMOS,有效像素1280(H)*1024(V) 清晰度:650线以上 图像刷新率:15帧/秒 信噪比: 60dB 视频接口:标准VGA接口 VGA输出支持:1024X768 60Hz(默认),1024X768 75Hz 镜头接口:CS 控制功能:亮度,对比度,色饱和度,锐度,Cb偏移量, Cr偏移量,十字光标叠加,垂直镜像,水平镜像,负片 电源:5V DC允许10%偏差 工作电流:400mA 功率:2W 体积:48*60*100(mm)总放大倍数:7-150倍 物镜:0.7-4.5连续变倍 目镜:0.5X 升降范围:270mm 手轮调焦范围:65mm 中心距离:140mm 立柱直径:25mm 镜头接口直径:50mm 支架总高度:355mm 底座尺寸:390x270X28 净重:6KG 8寸工业液晶显示器。 显微镜的放大倍数可以根据需要最大可以600倍、观察面积可以到达30mm以上、使用方便等特点。 选配物件:XY移动平台、LED环形光源、1X、0.3倍目镜0.5倍、2倍物镜、底座有多款可选、可以选配多种摄像头。
品牌: 日本电子 型号: JSM-7001F 产地:日本 供应商:深圳市瑞盛科技有限公司 JSM-7001F热场发射扫描电子显微镜(Thermal Field Emission SEM),是能够满足与高分辨率和易用性同样的分析应用需求的理想平台。JSM-7001F具有大型、5轴、全对中马达驱动自动化样品台,还有单动作样品更换气锁、它的小束口压直径,即使在大电流和低电压时,也具有适用于EDS、WDS、EBSP和CL的理想结构的扩充性。样品室可处理直径最大为 200mm的样品。 计算机接口是新的Windows? XP系统,操作简单,具有快速简单地切换操作模式的功能键。最多可同时查看包括混合信号的四幅实时图像,单次扫描就可以记录并马上存储全部的四幅图像。 JSM-7001F扫描电子显微镜还支持与EDS、WDS、电子束光刻系统和图像数据库的整体化。标准的样品台自动化由计算机控制5轴:X、Y、Z、倾斜和对中自转。低真空操作JSM-7001FLV场发射扫描电子显微镜具有高分辨率性能,可以在中至高电压千伏(kV)和更高的束流下对非导电样品进行成像。因此无需在样品上镀金属膜或碳膜以供导电,即可施用EDS、背散射成像、EBSD等分析技术。这在以下情况中特别有用: 样品不能修改时,尚需后续测试时,或尚需返回产品线时。低真空模式规格样品室压力:最大50 Pa分辨率:3.0nm(30kV)(BEI)枪室压力:5 x 10-7 Pa或更小采用的气体:干燥氮气
品牌: 日本电子 型号: JSM-7001F 产地:日本 供应商:深圳市瑞盛科技有限公司 JSM-7001F热场发射扫描电子显微镜(Thermal Field Emission SEM),是能够满足与高分辨率和易用性同样的分析应用需求的理想平台。JSM-7001F具有大型、5轴、全对中马达驱动自动化样品台,还有单动作样品更换气锁、它的小束口压直径,即使在大电流和低电压时,也具有适用于EDS、WDS、EBSP和CL的理想结构的扩充性。样品室可处理直径最大为 200mm的样品。 计算机接口是新的Windows? XP系统,操作简单,具有快速简单地切换操作模式的功能键。最多可同时查看包括混合信号的四幅实时图像,单次扫描就可以记录并马上存储全部的四幅图像。 JSM-7001F扫描电子显微镜还支持与EDS、WDS、电子束光刻系统和图像数据库的整体化。标准的样品台自动化由计算机控制5轴:X、Y、Z、倾斜和对中自转。低真空操作JSM-7001FLV场发射扫描电子显微镜具有高分辨率性能,可以在中至高电压千伏(kV)和更高的束流下对非导电样品进行成像。因此无需在样品上镀金属膜或碳膜以供导电,即可施用EDS、背散射成像、EBSD等分析技术。这在以下情况中特别有用: 样品不能修改时,尚需后续测试时,或尚需返回产品线时。低真空模式规格样品室压力:最大50 Pa分辨率:3.0nm(30kV)(BEI)枪室压力:5 x 10-7 Pa或更小采用的气体:干燥氮气
品牌: 日本电子 型号: 日本电子 JSM-6510 产地:日本 供应商:深圳市瑞盛科技有限公司 JSM-6510A/ JSM-6510LA分析型扫描电子显微镜,与日本电子公司的元素分析仪(EDS),统合于一体。结构紧凑的EDS由显微镜主体系统的电脑控制,操作员只用一只鼠标,就可完成从图像观测到元素分析的整个过程。操作窗口直观的操作界面的设计,简明易懂便于迅速掌握操作。支持多用户单个用户可以根据常用功能设置相应的图标,营造快捷的操作环境。用户登录时,即可加载已注册过的设定。同时显示两幅图像画面上并列显示二次电子成像和背散射电子成像这两种实时图像。可同时观察样品的形貌和组成分布。微细结构测量适合于多种测量功能。可在观察图像上直接进行测量。也可将测量结果贴至SEM图像,保存在文件中。标准的全对中样品台,能收录三维照片3D Sight(选配件),能够进行平面测量和高度测量,实现立体俯视图。从图像观察到元素分析,配合连贯一条龙分析型扫描电子显微镜配备两台监视器,一台用于SEM图像观察和另一台用于元素分析(EDS)。一只通用鼠标即可同时控制两台监视器。大尺寸画面使操作更加简便与舒适。维护简便工厂预置中心灯丝,十分便于更换。因此,可长期保持稳定的高性能。此外,操作界面还能以映像形式显示灯丝维护的步骤说明。可信赖的真空系统真空系统使用高性能的扩散泵保证了洁净的高真空状态。扩散泵内部无活动部件,体现了操作稳定,维护简便的特色。
品牌: 日本电子 型号: JEM-2800 产地:日本 供应商:北京圣嘉宸科贸有限公司 日本电子株式会社(JEOL)推出了一款特殊设计的产品即JEM-2800 场发射透射电子显微镜,在兼顾高分辨高稳定性的同时,最求分析效率的最大化和操作的自动化。技术参数: 1. 点分辨率:0.21nm; 2. 晶格分辨率:0.1nm; 3. STEM 分辨率:0.16nm; 4. 二次电子分辨率:0.5nm; 5放大倍数:高达2,000,000 6. 能谱:可以安装两个超级能谱 7. 洛伦兹模式:标配
品牌: 日本电子 型号: JEM-F200 产地:日本 供应商:北京圣嘉宸科贸有限公司 2016年1月,日本电子株式会社(JEOL)即全球同步推出了新款场发射透射电镜JEM-F200。JEM-F200进行了全新设计,在保障各种功能达到极限的同时,追求操作的简单化和自动化,为用户提供透射电镜操作的全新体验。具体特点如下:(1)精炼的全新设计:在提高机械和电气稳定性的同时,凭借对透射电镜的丰富经验,对电镜整体进行了精炼全新设计,力求为用户提供全新感受;(2)高端扫描系统:在照明系统扫描功能之上又增加了成像系统的扫描功能(选购件)可以获得大范围的STEM-EELS;(3)电镜光源:冷场发射光源比其他电镜使用的肖特基热场发射光源能量发射度小,在TEM成像时相干性更好,图像质量大大提高;(4)聚光镜汇聚方式:新电镜采用四级聚光镜且亮度及会聚焦分开控制,很容易获得追加实验条件,避免了传统的聚光镜亮度与会聚焦同时控制,有时会相互干扰,无法达到最佳状态。(5)物镜汇聚方式:物镜上采用扫描方式,可以获得大范围的STEM-EELS
品牌: 日立 型号: HT7700 Exalens 产地:日本 供应商:北京圣嘉宸科贸有限公司 日立最新推出120kV透射电镜HT7700 Exalens,该透射电镜继承了标准版HT7700免荧光屏设计、全数字化、大集成等优点和创新点,仍然保留双隙物镜的设计,设计使用高分辨物镜,标配LaB6灯丝,性能实现突破性提升。此机型分辨率可保证0.144nm(晶格像),成为目前市场上唯一一款120kV透射电镜中分辨率最高的机型。产品特点:被广泛应用于纳米材料和软材料研究领域,可以满足客户对分辨率的要求1、高分辨物镜可保证0.144nm的分辨率,可满足用户对高分辨图像的要求。2、在较低的加速电压下,仍保持较高的分辨率,在最大程度降低样品损伤的同时,获得高质量的高分辨图片。
品牌: 日立 型号: HT7700 产地:日本 供应商:北京圣嘉宸科贸有限公司 HT7700型透射电子显微镜是一款全新设计的高级显微镜,专门用于生物和纳米材料的观察,具有极高的对比度和高分辨率的成像功能,是一款功能多合一的系统。将TEM操作统一于显示器上,无需直视荧光板,实现了无胶片化,可以在明亮的室内进行观察,以往在荧光板上发暗而难于识别的图像在显示器上也能够实现清晰地显示。标配电镜图像管理软件(EMIP-SP),自动将拍摄的图像注册到图像数据库,便于图像的管理与分类,进行长度测量和图像处理等功能。该设备采用分子泵真空系统,排气系统清洁干净。与之前型号相比,该设备耗电省,且能减少30%的二氧化碳排放量。主要参数:项目特点图像分辨率0.204 nm(晶格像)加速电压40 - 120 kV(100V增量)图像信号×200 ×200,000(高反差模式)×4,000 ×600,000(高分辨率模式)×50 ×1,000(低倍模式)样品倾斜度±30°, ±70° (*)主照相机像素尺寸(底部安装)1,024×1,024 像素 或 2,048×2,048 像素真空系统分子泵 ×1,机械泵 ×1电源单相交流100伏±10%,4千伏安
品牌: 日本电子 型号: JEM-ARM200F 产地:日本 供应商:富瑞博国际有限公司 日本电子JEM-ARM200F 透射电子显微镜 富瑞博国际有限公司代理多家国际知名仪器厂商产品
仪器简介: JEM-ARM200F的电子光学系统标准配备了一体化的球差校正器, 其扫描透射像分辨率(STEM-HAADF)达到了0.08nm,为商用透射电子显微镜分辨率的世界之最。 保证0.08nm的世界最高STEM (HAADF) 分辨率 ARM200F为电子光学系统标准配备了一体化球差校正器,电气和机械性能的稳定性也达到极限水平, 使扫描透射像(STEM-HAADF)分辨率达到0.08nm, 成为商用透射电子显微镜中的世界之最。电子束在像差校正之后, 束流密度比传统的透射电子显微镜高出一个数量级。因为束流更亮更细、电流密度高, ARM200F能够在进行原子水平分析的同时, 还能缩短检测时间和提高样品处理能力。 电气稳定性的提高 要达到原子水平的分辨率, 控制电子光学系统的电源需要稳定。ARM200F把高压和物镜电流变动降低到传统透射电子显微镜50%, 大幅度地提高了电气的稳定性。 机械稳定性的提高 照射系统和成像系统采用像差校正器,实现原子水平的分析和成像,需要控制原子水平的振动和变形。 ARM200F整体机械强度比传统透射电子显微镜增大两倍,通过增大镜筒尺寸,提高了刚度,优化了操作台结构,增强了机械的稳定性。 高扩展性的STEM 分析能力 暗场检测器因STEM检测角度的不同有两种类型(其中一种为标配), 它和明场检测器(标准配备), 背散射电子检测器 (选配件) 可以同时安装。新的扫描成像获取系统能够同时收集4种不同类型的信号, 可以同时观察这4种图像。 环境对策 装置设置室的温度变化和杂散磁场也能引起原子水平的振动和变形。为降低外部影响,ARM200F特别标配了热屏蔽和磁屏蔽系统。另外,对镜筒加外覆盖以免受周围空气对流所引起的镜筒表面温度变化的影响。 用于成像系统的球差校正器 (选配件) 使用选配的成像系统球差校正器, 透射电子显微镜的图像(TEM)分辨率能提高到0.11 nm。 JEM-ARM200F 规格
品牌: 法国Cameca 型号: LEAP 5000 产地:美国 供应商:法国cameca公司 三维原子探针显微术(3DAP),也称为原子探针断层分析术(APT),是一种具有原子级空间分辨率的测量和分析方法。基于“场蒸发”原理,三维原子探针通过在样品上施加一个强电压脉冲或者激光脉冲,将其表面原子逐一变成离子而移走并收集。3DAP的特性就是从最小的尺度来逐点揭示材料内部结构,不论简单亦或复杂。可以轻松获得纳米尺度结构的细节化学成分和三维形貌,因而专门应对材料研发中令人棘手的小尺度结构的测量与分析问题。例如,沉淀相或团簇结构的尺寸、成份及分布;又比如元素在各种内界面(晶界、相界、多层膜结构中的层间界面等)的偏聚行为等等。 以前,由于对样品有导电性的要求以及制作针尖形状样品有一定难度等一些问题,原子探针的应用曾经在很长一段时间内局限于金属材料,仅仅做纯科学的探索。进入2000年以来,仪器本身在一些关键技术上的突破性进展,加上汇聚离子束制样技术的成熟,大大拓展了原子探针的应用范围,可研究的对象涵盖金属、半导体、存储介质,到先进材料(纳米线、量子阱)等广泛的材料类型;应用上从纯学术研究到汽车、航空发动机、核设施、半导体芯片、LED、光伏材料等等应用科学甚至直接的生产过程监控。从无机材料到有机材料《Nature》曾报道了利用这一技术对动物头盖骨的研究。时至今日,3DAP技术因其独到的分析视角正在为越来越多的材料研发人员所认识,已经逐渐加入TEM、SIMS等工具的行列,成为材料分析的主流分析技术之一。 局部电极 和 微尖阵列 局部电极(Local ElectrodeTM)是原子探针的关键部件。LEAP局部电极原子探针(Local ElectrodeTM Atom Probe)即取名于此。局部电极的应用改善了原子探针的易用性和数据质量,也因为局部电极,原子探针可以利用微尖阵列(MicrotipTM arrays)一次装载多个样品,大大提高原子探针的实验效率。 反射镜 高质量分辨率 和 大视场 新一代 LEAP 5000R 配备了新型能量补偿反射镜(Reflectron),在优化质量分辨率的同时获得了大视场(可达250nm)。对于工作在电压脉冲模式下的那些应用(例如,传统的金属材料),将获得出色的质量分辨率。 小束斑UV激光 在激光模式下工作时,LEAP 5000XR使用了聚焦到很小束斑的UV波长激光。小束斑保证了优异的质量分辨,UV波长保证了对包括许多绝缘体在内的众多材料都可以给出更好的结果。更多内容请阅读绑定资料,并请浏览我公司网页:http://www.cameca.com/instruments-for-research/atom-probe.aspx
透射电镜/透射电子显微镜 仪器网透射电镜/透射电子显微镜产品导购专场为您提供透射电镜/透射电子显微镜功能原理、规格型号、性能参数、产品价格、详细产品图片以及厂商联系方式等实用信息,您可以通过设置不同查询条件,选择满足您实际需求的透射电镜/透射电子显微镜产品,同时透射电镜/透射电子显微镜产品导购专场还为您提供精品优选透射电镜/透射电子显微镜产品和透射电镜/透射电子显微镜相关技术资料、解决方案、招标采购等综合信息。