镀膜机

镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜。溅射镀膜，利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。 精品推荐
品牌： 韩国ECOPIA 型号： AP-MMS1 产地：韩国 供应商：上海载德半导体技术有限公司

Ecopia科研用小型磁控溅射镀膜机 - 极高性价比！型号：AP-MMS1产地：韩国原装进口仪器特点：1/ 沉积材料：金属；2/ 膜厚均匀性：≤ ± 5 % (4英寸基底)；3/ 沉积方式：直流磁控溅射；4/ 极限真空：1.0 x 10 -3 Torr；技术规格：1/ 最大样品尺寸：4英寸；2/ 基底旋转：0~10rpm；3/ 不锈钢腔体，ID250 x H300 mm；4/ 真空泵：机械泵，150L/Min；5/ 靶枪：2英寸直径 (选配：3英寸)；6/ 直流电源：2KW(800V - 2.5A)；7/ 气体传输模块：MFC控制，氩气，100sccm；

品牌： 韩国ECOPIA 型号： AP-MTE1 产地：韩国 供应商：上海载德半导体技术有限公司

Ecopia科研用小型热蒸发镀膜机 - 极高性价比！型号：AP-MTE1产地：韩国原装进口仪器特点：1/ 沉积材料：金属；2/ 膜厚均匀性：≤ ± 5 % (4英寸基底)；3/ 沉积方式：热蒸发舟；4/ 极限真空：5.0 x 10 -6 Torr；技术规格：1/ 最大样品尺寸：4英寸；2/ 基底旋转：0~10rpm；3/ 不锈钢腔体，ID250 x H300 mm；4/ 真空泵：机械泵，150L/Min；扩散泵，215L/Sec；5/ 薄膜厚度监控：石英振荡传感器实时厚度控制；6/ 厚度精度：0.5%；7/ 热蒸发源：4英寸热蒸发舟，交流电源；

品牌： 美国Veeco 型号： Fiji G2 Plasma ALD 产地：美国 供应商：香港电子器材有限公司

Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学，05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止，Veeco在ALD设备已有15年多的经验，全球已安装五百多台ALD设备。方式: Plasma Thermal ALD优势: 标准自动加载锁定集成、加热、薄箔ALD trap薄膜: 氮化物AlN, Hf3N4, SiN, TiN, GaN, InN, AlGaN, BN, NbN, NbTiN, VN, TiVN, WN, WCN, TaN, CoN 金属Ni, Pt, Ru 氧化物Al2O3, HfO2 , Nb2O5, NiO, SiO2, Ta2O5, TiO2, ZnO, ZrO2, Li2O, LiPON, La2O3, SnO2, In2O3, ITO, Ga2O3, MgO, MgxZn1-xO 硫化物ZnS, SnS, Cu2S, In2S3, Cu2ZnSnS4,PbS, CoS, ZnOS等反应腔体大小: 可达200 mm设备尺寸: 1845 x 715 x 1920 mm操作模式: 连续模式(传统Thermal ALD) 曝光模式(超高深宽比) 等离子体模式(等离子体加强ALD)功率: 220-240 VAC, 4200 W per reactor (不包含泵)最高温度: 标准200mm衬底加热至500°C / 可选100mm衬底加热至800°C沉积均一性: 1σ均一性 / Thermal Al2O3 -1.5%, Plasma Al2O3 -1.5%循环时间:  2s per cycle with Al2O3 at 200°C兼容: 标准四端口，可增加至六端口。每一个源瓶均可放固态/液态/气态前驱体，可独立加热至200°C阀门: 工业标准ALD阀门(最小响应10ms)前驱体源瓶: 50cc(最多填充25ml)不锈钢气瓶载气/排气: 100 sccmAr precursor carrier gas MFC  / 500 sccmAr Plasma gas MFC / 100 sccm N2 plasma gas MFC / 100 sc100 sccm H2 plasma gas MFC / cm O2 plasma gas MFC原位分析选项: H2S兼容配件, 原位QCM, 原位椭便仪, RGA端口, 光发射光谱仪, 样品高度高达57mm的晶圆臭氧发生器, LVPD, 集成手套箱, 衬底偏压​

品牌： 美国Veeco 型号： Phoenix G2 ALD System 产地：美国 供应商：香港电子器材有限公司

Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学，05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止，Veeco在ALD设备已有15年多的经验，全球已安装五百多台ALD设备。方式: Thermal batch ALD优势: 大批量热ALD镀膜，可靠成熟，设计灵活，易于使用，并具有许多操作界面，许多内置安全功能薄膜: 高达370 mm x 470 mm (Gen 2.5 Panels) / 100mm 晶片 - 240 to 360 / 150mm 晶片 - 80 to 160 / 200mm 晶片 - 80 to 100 / 300 mm 晶片 - up to 40 / 其它3D 对象自定义支架设备尺寸: 900 mm x 1370 mm x 1700 mm功率: 208 VAC 3 Phase, 8500 W (包含泵)最高温度: 可达285°C沉积均一性: Al2O3 晶片 1.5% / Al2O3批量 1% 前驱体源瓶: 3.1 l 源瓶或 600 ml载气/排气: N2 or Ar MFC flow control原位分析选项: 臭氧发生器, LVPD,集成手套箱, 半自动负载自动负载, SECS/GEM 界面

品牌： 美国Veeco 型号： Firebird 产地：美国 供应商：香港电子器材有限公司

Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学，05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止，Veeco在ALD设备已有15年多的经验，全球已安装五百多台ALD设备。Firebird Batch Thermal ALD System​方式: Thermal batch ALD优势:完全自动化的批量生产系统，最佳生产能力（每月最多40000片），最低的成本，最高的产量，极优的一致性针对脆弱/温度敏感的衬底解决方案，包括LNO/LTO/玻璃模块化热管理，以实现最佳工艺灵活性和产量薄膜: 氧化物薄膜，包含封装层、光学涂层氧化物薄膜，包含封装层、光学涂层反应腔体大小:  无缝晶片尺寸转换能力高达300mm

品牌： 美国Gatan 型号： 682 产地：美国 供应商：科扬国际贸易（上海）有限公司

仪器简介：型号682精密刻蚀镀膜仪（PECS） 用于SEM、TEM和EM方面的精密刻蚀镀膜系统 PECS是一台理想的具有斜面切割，样品刻蚀和离子溅射镀膜功能的仪器，其刻蚀和溅射镀膜系统中独一无二的离子束能够形成镀膜范围大、干净以及可视的样品满足扫描电镜（SEM），透射电镜（TEM）以及光学显微镜（LM）的需求。PECS中独一无二的设计结构使其成为非常通用的仪器，可选配型号682.40000的斜面切割工具，它是用于切割横截面部分的独特工具。技术参数：规格： 离子枪 三个潘宁离子枪与微型稀土永磁体 离子束能量 1.0 KeV 到10.0 KeV 离子束直径 刻蚀枪 5mm FWHM；溅射枪 1mm FWHM 离子电流密度 峰 10mA/cm2 气体流量 氩气 0.1cc/分/枪 刻蚀范围 根据离子枪能量为7mm-10mm不等 刻蚀速率 10.0keV下，硅材料约10m/小时，钨材料约3m/小时 Airlock组装 样品载台 接纳1英寸（31mm）金相套和多种SEM短截线 样本旋转速率 可变速率10-60 rpm 样品倾斜角度 固定角度或可变摇摆角度（0° - 90°） 样品摇摆速率 可变速率5°/秒 - 36°/秒 选配 用于侧插TEM的TEM适配器或SEM样品载台 镀膜速率 10.0KeV下约0.5 /秒 碳 及 1.5 /秒 铬 镀膜范围 均匀直径超过30mm 耙材装置 一方双重耙材，可在真空状态下从外直接选择耙材 耙材材质 四种耙材选择（见详细清单） 厚度监控器 标准-显示镀膜速率和全部镀膜厚度 干燥泵系统 两个部分，隔膜泵搭配一个70 升/秒涡轮泵 压力 5E-6 托（6.6E-4Pa）基本压力 6E-5 托（8E-3Pa）工作压力 真空计 样品腔冷阴极规，搭配固态压力传感器 样品调换 Gatan专利 WhisperlokTM，样品更换时间＜1分钟 液态氮阀 约5小时容量（标准） 活性碳过滤器 真空排气装置，以减少碘蒸汽排放到安全标准 尺寸及功率 总尺寸 560mmW x 480mmD x 430mmH (22W x 19D x 17H) 货运重量 45kg （100 lbs） 电源要求 通用电压 100VAC-240VAC，50/60Hz 用户需确定电源型号以保证正确的线路 能量消耗 运行时需200瓦特，离子枪关闭时需100瓦特 气体需求 氩气 70psi （4.82 bar） 替代气体（其它惰性）20psi （1.38 bar） 碘蒸汽用于反应离子束刻蚀（结晶碘由用户自行提供）主要特点：湿化学刻蚀的替代或补充 可控的重复性结果（离子枪电压，离子束电流和刻蚀时间） 刻蚀和镀膜在同一真空腔内进行减少样品处理 样品刻蚀后立即镀膜，排除样品污染 包括一个膜厚度监控器精确控制薄膜厚度 高样品生产量，专利Whisperlok能快速、简单进行样品交换 Whisperlok具有使样品同时旋转和摇动保证刻蚀和镀膜均匀的特点 反应离子束刻蚀（RIBE系统） 无化学处理或操作安全 PECS使用手册 一般来说，如果材料的组成具有不同的化学性质，通过常规化学刻蚀方法不可能揭示一种不同组成的材料其各个相的结构。但离子束刻蚀技术在这些实例中效果不错。这种方法在金相学中比较重要的一个用途是用于具有极端不同化学潜能的金属化学物的刻蚀。应用实例显示，通过离子束刻蚀方法可以证明不同种类材料是通过不同加工工艺制得。 测试过程和结果 PECS（精密刻蚀镀膜系统）中包含离子束刻蚀系统。系统中的大离子束源产生一个光束直径为10mm的垂直入射离子束源给样品，根据离子枪参数（离子枪电压和离子束电流）。使试样倾斜，如改变入射角以及刻蚀过程中旋转试样，刻蚀直径可以进一步扩大。虽然金属的各种化学组成非常不同，离子束刻蚀却可以同时且完全地揭示各化合物的结构。DIC（微分干涉对比）可以用来增强由离子轰击产生的刻蚀引起的特性反差。单个化合物溅射范围在优化离子束刻蚀复合材料方面具有重要作用。虽然表面层和底层化学特性有巨大差异，但是其溅射范围相近。
型号682.40000斜面切割工具（SC-Tool）- 提供均质/非均质材料横截面可组合切割并最小化减少其机械变形或损坏。 使用精密刻蚀镀膜仪（PECS）的SEM技术是一本32页的小册子，配以使用Gatan PECS得到的高质量照片以及利用PECS如何达到最佳结果的“方法”。主要包括清洁、镀膜、刻蚀、金相、EBSD、DIE包覆、以及碳、铬、铂、金、钯的溅射速率表。。

品牌： 德国普发真空 型号： pfeiffer classic系列 产地：德国 供应商：伯东企业（上海）有限公司

伯东公司德国普发pfeiffer 镀膜机-灵活设计适合技术研究、开发和生产,可实现高真空蒸发镀膜,磁控溅射镀膜,离子镀.Pfeiffer Classic 系列镀膜机（高真空镀膜系统）经过大量实验和技术知识积累研发设计主要应用领域: 光学,微电子学,显示屏,光电工程,生物医学工程等行业.价格电议：021-50463511Pfeiffer 镀膜机主要型号包含:Pfeiffer Classic 250 镀膜机(低成本实验室系统,用于开发研究)Pfeiffer Classic 500 镀膜机(最受欢迎的镀膜机,用于系统研究、开发和批量生产)Pfeiffer Classic 570 镀膜机 (紧凑设计适合工业使用)Pfeiffer Classic 580 镀膜机 (通用的制造系统,满足最高工业需求)Pfeiffer Classic 590 镀膜机 (高吞吐量,通用的制造系统,满足最高工业需求)Pfeiffer Classic 620 镀膜机 (最大吞吐量)pfeiffer 镀膜机主要优势:可搭配多种泵组(涡轮分子泵、低温泵或油扩散泵)pfeiffer 镀膜机真空腔体可冷却可加热,极限真空度最高可达 5 10-7 mbar,腔体漏率 1 10-5 mbar l/s真空腔体大小 35 至 1300 l(特殊尺寸可定制)镀膜机各种尺寸大小,根据实际应用和气体吞吐量决定内置各种标准配件,坚固耐用满足严苛工业环境低运营成本,易维护,兼容洁净室通过附加配件升级镀膜机功能pfeiffer 镀膜机所有真空腔体均是不锈钢材质pfeiffer 镀膜机工艺:pfeiffer 镀膜机蒸镀过程优势:抗反射涂层耐划伤性涂料激光面镜接触金属化合金的沉积(Co-evaporation)pfeiffer 镀膜机磁控溅射介绍:除了高真空蒸镀系统，伯东公司德国普发pfeiffer 也提供磁控溅射腔体可选load-lock.相应型号Classic 250 to 570,有标准版本供选择或根据溅射过程选择(SP)定制版本可用于：金属层(金、铜、铝、铬、…)电介质层(二氧化硅,氧化铝,…)透明导电层(ITO磁层合金的沉积(co-sputtering)伯东公司 主要经营产品 德国 Pfeiffer 涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵; 应用于各种条件下的 真空测量(真空计, 真空规管); 氦质谱检漏仪；质谱分析仪；真空系统以及 Cryopump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源.伯东公司协助客户选型并提供完善的售后服务,我司将竭诚为您服务！若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请登录我们网站: www.hakuto-vacuum.cn或与市场部: 叶南 小姐联系Tel: 86-21-5046-3511转106Fax: 86-21-50461490Mobile: 86 13816124243E-mail: ec@hakuto-vacuum.cn

品牌： 美国泰德派勒 型号： 108 Manual 产地：美国 供应商：广州竞赢化工科技有限公司

108 manual是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统，特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。

品牌： 徕卡显微系统 型号： EM ACE200 产地：德国 供应商：天津徕科光学仪器有限公司

Leica EM ACE 镀膜仪 全新一代ACE系列镀膜仪是徕卡与前沿科学家合作研发的结晶，它涵盖了您在样品制备过程中所需的所有镀膜需求，从常温镀膜到冷冻断裂/冷冻镀膜. 样品进行扫描电镜观察前，通常需要对其表面镀一层金属膜，以便减少观察时产生的荷电，并增强二次电子或背散射电子信号，获得更好的信噪比。 Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪，可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能，或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求，也可用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制，简单方便。 碳丝蒸发的新纪元 厚达40nm的碳膜可以被精确设定并准确获得，通过脉冲碳丝蒸发，结合连续膜厚监控（石英片膜厚控制），和独特的软件控制来实现。碳膜因此实现高度可重复性和均匀性。得益于可拆卸式玻璃门，挡板和样品室屏蔽内壁，镀膜源和样品台，样品室内部清洁工作非常简便。主要特点:少…? 操作者干预时间和专业知识? 投入成本? 桌面占用面积? 密封表面-单门式设计? 清洁工作-可拆卸式玻璃门，样品室屏蔽内壁和挡板? 操作工作-简易的插入式连接设计-无需借助工具…即是多? 直观的触摸屏设计和自动化过程控制? 可定制硬件配置，软件可升级? 实验室空间? 可视化，装样简便，抽真空快速? 镀膜高效，使您的工作时间更自由? 镀膜更纯，膜厚更精准，结果重复性更好技术指标： 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电（用于网格表面亲水化） 专利设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度 可选石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程 触摸屏控制，简单方便 真空度7×10-3mbar 溅射电流：0-150mA可调 方形样品仓专利设计，样品仓尺寸：140mm（宽）×145mm（深）×150mm（高） 工作距离调节范围：30mm-100mm

品牌： 美国MVSystems 型号： MVS－PECVD 产地：美国 供应商：上海瞬渺光电技术有限公司

薄膜沉积设备PECVD MVS公司简介MVSystems, Inc. 由曼登博士（Dr. Arun Madan）创建于1989年。曼登博士曾在英国丹迪大学从师于斯皮尔（Walter Spear)教授，是1970年代最早从事非晶硅材料和器件研究的人员之一。曼登博士在非晶硅薄膜晶体管（TFT)方面进行了开创性的研究，这是他的博士论文的主要内容之一。非晶硅薄膜晶体管现已成为平板显示器中必不可缺的重要器件。公司在薄膜半导体技术和先进的高真空半导体薄膜沉积设备方面拥有14项专利，包括：多腔室PECVD沉积系统 主要产品 ? 用于柔性衬底的Reel-to-reel多室系统 - 主要产品碳热丝化学气相沉积设备 掺氟纳米硅（微晶硅）材料P型宽带隙非晶硅材料 掺氟二氧化锡绒面透明导电膜（与日本Asahi公司合作）公司生产制造的80多台设备已销往全世界23个国家和地区。公司生产的主要薄膜材料和器件产品包括：材料器件非晶硅（a-Si:H)薄膜硅太阳电池纳米(微晶)硅 (nc-Si)薄膜晶体管氮化硅(SiNx)，氧化硅(SiOx)，氮氧化硅(SiON)成像器件氧化锌(AZO)，铟锡氧化物(ITO), 二氧化锡(SnO2)X光探测器MVSystems公司设计，制造和提供各类单腔室和多腔室薄膜沉积设备。另外，根据用户的需求，各种PECVD，HWCVD，和PVD腔室可以单个制造，也可配备到现有的团簇型（星型）或是直线型沉积系。我们公司的工程设计部门尽可能为用户着想，以使用户们获取他们最需要的且价格合适的设备。R D toProduction可用于研发和生产?PECVD等离子化学气相沉积?HWCVD热丝化学气相沉积?Sputter溅射?Anneal退火处理R D Cluster toolsCluster tool w/ 8 port locations具有8个腔室的团簇型沉积系统15.6x15.6cm substrates衬底尺寸为15.6x15.6cmComputer controlled可完全由电脑程序控制操作运行PECVD, HWCVD and Sputter capability制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积，及溅射R D Cluster toolsCluster tool w/ 10 port locations具有10个腔室的团簇型沉积系统15.6x15.6cm substrate衬底尺寸为15.6x15.6cmComputer controlled可完全由电脑程序控制操作运行PECVD, HWCVD, Sputter capability and in-vacuum characterization module制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积，以及溅射。另外，该系统还带有一个测试腔， 用于在真空中测试所制备样品的光电子性能。R D Cluster toolsCluster tool w/ 8 port locations具有8个腔室的团簇型沉积系统30x40cm substrate衬底尺寸为30x40cmComputer controlled可完全由电脑程序控制操作运行PECVD, HWCVD and Sputter capability 制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积，及溅射。Silicon Nitride Coating Systems for Multi-crystalline Silicon Solar Cells用于制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备In-Line PECVD system for HIT junctions用于制备高效异质结太阳电池的直线型等离子体化学气相沉积系统Throughput: 18Reel to Reel Cassette SystemCassette houses flexible material卷筒用于装载柔性衬底材料Cassette transported from one process chamber to another via a robotic handler制备薄膜时，卷筒可由真空机器手从一个腔室输送至另一个腔室Advantages 此沉积系统的优点- Eliminates cross-contamination 在制备多层膜器件时消除了交互掺杂影响- Flexibility to adjust parameters on any part of the process. 制备薄膜时，能灵活控制各种运转沉积参数- Down time reduced, i.e. each chamber can be serviced independently 因每个腔室可单独维护，减少了停机非运转时Reel to Reel Cassette Cluster toolsCluster tool w/ 8 port locations具有8个腔室的团簇型沉积系统15cm and 30cm webwidth柔性衬底的宽度可从15cm至30cmComputer controlled可完全由电脑程序控制操作运行PECVD, HWCVD and Sputter capability制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积，及溅射Amorphous silicon- intrinsic and doped (n+ and p+ type).非晶硅本征和掺杂(n+ and p+ 型)膜。Nano (or micro) crystalline silicon (intrinsic and doped)纳米（或者微晶）硅 (本征和掺杂)膜。Dielectrics (SiNx, SiOx)介质薄膜(如SiNx, SiOx)。Transparent conducting oxides (ITO, AZO)透明导电薄膜 (如ITO，AZO)。Solar cells, TFT’s, imaging and memory devices etc. 太阳电池，非晶硅薄膜晶体管，电子成像和存储器件等。In-house Cluster ToolSubstrate: 30x40cmDC, RF, pulsed-RF, VHF

品牌： 北京博远 型号： ETD-100AF 产地： 供应商：北京意力博通技术发展有限公司

仪器简介：原理：ETD-100AF 是高真空热蒸发式小型镀膜机。采用电阻式蒸发原理，利用大电流加热钼舟或钨丝蓝或固定支架上的镀膜材料，使其在高真空下蒸发，沉积在被镀样品上以获得最佳镀膜效果。适用范围： 电子显微镜样品制备和清洁光栏，以及科研、教学和企业中的实验活动、工艺试验。技术参数：配置和参数：* 真空室： 直径230mm，高度：280mm * 靶材料： 碳、金等。 * 电极(两对)： 一对用于钼舟或钨丝栏，一对蒸碳。 * 最大电流： 100A * 最大电压： 10V * 极限真空： 1×10 Pa * 工作真空： 2×10 Pa * 加热功率： 1000W* 机械泵：4 升/每秒，AC 220V/50Hz * 复合分子泵： 600升/秒，AC 220V/50Hz(风冷)主要特点：特点：使用了大抽速、高压缩比、自然风冷却复合分子泵，确保喷镀时能够迅速抽掉蒸发源和样品放出的气体；正常情况下喷镀室内极少有油蒸气回流，非常清洁。可蒸发的材料： 碳、金等。

品牌： 英国Cressington 型号： Cresstington 108Auto/208HR 产地：英国 供应商：溢鑫科创科技集团

Cressington 108Auto/208HRSPUTTER COATER 超高分辨溅射镀膜仪分子泵超高分辨镀膜，放大倍率可到30-60万倍也不会看到镀膜颗粒，适用于现阶段超高分辨场发射或双束电镜使用如FEI Nova,Megglen,Verios,Helios等; Hitachi SU8000,SU8200,S4800,9000等; JEOL 7600F 7800F等; ZEISS Merlin,Ultra,Auriga;?专利磁控冷态喷镀专利冷态镀膜设计使用真正的“平衡磁控管”没有等离子体电流在样品，在得到高分辨非晶镀膜层同时避免样品受到热损伤，对热损伤或辐照损伤敏感样品尤为适合?广泛的镀层靶材选择特殊双极磁控管头设计和有效的气体离子处理使得208HR拥有广泛多种镀层靶材选择?全自动化设计自动的换气与泄气功能，溅射电流和电压通过磁控头的传感线监控，蒸发源作为反馈回路中的一部分被控制保证了均匀一致的膜厚，和最佳的导电喷镀效果。?超高精度膜厚监控设计使用可选MTM-20全自动高分辨膜厚监控仪可优化设计镀膜条件达到0.1nm膜厚可控效果?多用途样品托设计独立的旋转，水平和倾斜 3轴移动设计优化了多样品以及不规则样品的均匀一直镀膜?可变的样品室几何设计为了优化镀层结构样品室几何设计可用于调整喷镀速度从1.0纳米每秒到0.002纳米每秒?广泛的操作气体压力独立的电压，电流以及压力回路控制系统允许可操作氩气压力从0.2-0.005mbar真空度?紧凑型时尚桌面式设计节能，紧凑设计消除了对于楼层空间要求，水要求和专业电气连接要求镀膜不同多样样品超高分辨208HR镀膜系统现在针对喷镀不同电镜样品提供了最理想的解决方案。为了减小喷镀晶粒尺寸影响，208HR提供一套全系列的镀膜靶材材料和前所未有的膜厚镀层控制条件。为了更小优化充电效果，208HR的特殊样品台设计和大范围的操作压力提供了高精度的镀膜一致性和统一性。 高低样品室的配置也提供了更为方便的工作距离调整。可调式旋转倾斜水平样品台超高分辨全自动膜厚监控仪 MTM-20208HR超高分辨镀膜仪技术规格：样品仓尺寸： 150mm 直径， 可调高度： 165mm - 250mm，高强度不锈钢结构溅射管头：低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩喷镀靶材：铬，铂/钯 标配， 金，钨，铜，铝，铱，银等选配，其他材料按客户需求提供溅镀优点：基于微处理器反馈控制，远程电流/电压感应；提供真空安全联锁装置，最大180A，配有过流保护，数字化可选电流（20，40，60 或80毫安）样品台：可放置12个标准EM样品座，0到90度倾斜可调的旋转水平样品座，石英晶体探头模拟计量：真空 Atm - 0.001mb 电流: 0 100mA控制方式： 全自动喷镀控制，自动卸真空自动进气功能，使用可编程电压控制和计时数字计时 (0 300秒)以及暂停设计；全自动真空监测系统真空系统： 标配无油分子泵真空以及机械泵真空系统，泵抽速达到每秒80L，1.5分钟内抽到真空度到1x10-4 mbar, 极限真空优于5x10-6 mbar，附带减震台的桌面式真空泵设计，全金属耦合系统全自动超高分辨膜厚监控仪技术规格：MTM-20 基于微处理控制，4位显示系统，6MHZ晶体监探器，每秒5次实时监控 MTM-20膜厚监控范围： 0到999.9纳米分辨率： 优于0.1纳米密度范围：0.50到30.00gm/cm3安装环境要求：电源：200-240 VAC, 50/60Hz功率：550VA氩气要求：99.99% 纯氩气，压力设定0.5/0.6 bar, 6.0mm管路接口设备尺寸：宽600mm， 深600mm，高450mm, 重量40kG 备注：为保证销售渠道正规，配套方案先进及统一的市场管理和售后服务，英国cressington在各个国家都只设唯一授权代理，中国官方授权总代为：溢鑫科创Yi Xin Technology，详细信息请参考英国原厂官方网址:

品牌： 沈阳科晶 型号： VTC-100PA 产地： 供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

VTC-100PA真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。主要特点1、真空吸附方式固定样件，操作简便。2、使用定位工具可将样件很容易地放在中心位置，以减少偏心而造成的震动或飞片。3、根据样件规格可以配用不同的吸盘，且更换方便简单。4、设有12组程序，每组包含6个运行阶段。5、电机启动快速稳定，可以保证涂层厚度的一致性和均匀性。技术参数1、电机功率：50W/24V2、速度范围：500-10000rpm3、程序运行：可储存12组程序，每组程序包含6个运行阶段4、增减速率设置范围：100rpm/s-2000rpm/s5、时间范围：0-60s6、吸盘：Φ19mm、Φ60mm7、本机可选配加热功能1）加温范围：室温150℃2）加热盖，水槽及吸盘采用耐高温材质聚四氟3）温度单独控制，与主机程序控制无关联产品规格尺寸：450mm×280mm×340mm重量：20kg标准配件1、真空吸盘（含O型圈）2、中心定位器（含4个定位柱）3、滴胶注射器（20ml）4、注射器支架5、无油真空泵6、橡胶管（含卡箍）可选配件过滤器（真空泵用）

品牌： 沈阳科晶 型号： PTL-HT 产地： 供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

PTL-HT高温提拉涂膜机能够提供温度高达1000℃的提拉涂膜环境，广泛用于各种高温提拉涂膜研究。例如，陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜。本机能够适应未来高温条件下成膜技术的发展需要。主要特点1、普通提拉涂膜机都是提供200℃以下的温度环境，本机可以提供1000℃以下的高温环境，便于特殊材料的涂膜制备。2、可以在氮气、氩气等惰性保护气体气氛中使用，也可以在氧化气氛中使用。3、设有三段温区，且每段提拉速度均为无级调整。4、采用彩色触摸控制屏，方便数据输入，操作简单快捷。5、已通过CE认证。技术参数1、电源：220V2、功率：3KW（包括加热部分）3、提拉速度：1-200mm/min4、温度：RT-800℃产品规格尺寸：560mm×470mm×1550mm标准配件1、载样架2、载料杯3、高温提拉丝可选配件特殊提拉卡具

品牌： 沈阳科晶 型号： PTL-MM01 产地： 供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

PTL-MM01提拉涂膜机通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。本机采用单板机控制，运行平稳准确，是大专院校、研究院所实验室的理想设备。主要特点1、可配用高达200℃恒温箱，提供稳定的恒温环境进行提拉涂膜。2、已通过CE认证。技术参数1、电源：220V2、功率：50W3、提拉速度：1-200mm/min4、速度稳定性：±0.05%5、样件尺寸：75mm×25mm×2.5mm产品规格尺寸：320mm×260mm×560mm重量：18kg标准配件1、防摆动控制座2、样件夹具3、载料杯4、提拉丝可选配件1、快速样件夹具2、提拉丝

品牌： 沈阳科晶 型号： PTL-MM02 产地： 供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

PTL-MM02程控提拉涂膜机是专为研究液相外延薄膜而设计的，通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。本机采用PLC程序控制，可设定提拉速度、停留时间、入液速度、循环次数。主要特点1、采用彩色触摸屏，方便参数设置及调整。2、已通过CE认证。技术参数1、提拉速度：1-200mm/min2、速度稳定性：±0.05%3、样件尺寸：75mm×25mm×2.5mm产品规格尺寸：320mm×260mm×560mm重量：17kg标准配件1、样件夹具2、载料杯3、提拉丝

品牌： 沈阳科晶 型号： PTL-MM02-8P 产地： 供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

PTL-MM02-8P提拉涂膜机是专为研究液相生长薄膜而设计的精密设备，通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜，广泛应用于大专院校、科研院所等研究领域。本机采用高精度速度控制系统，以及触摸屏参数输入端，同时实现5个样件提拉涂膜的全自动控制。主要特点1、8个工位可分别设置不同的提拉速度、停留时间、干燥时间2、适用范围广。技术参数1、电源：220V 50Hz2、X轴速度：500-5000mm/min3、Z轴速度：1-200mm/min4、行程：65mm5、样件尺寸：75mm×25mm×2.5mm6、同时提拉样件数量：5个7、提拉工位：8个8、停留、干燥时间：1-999s9、循环次数：1-999次产品规格尺寸：900mm×520mm×540mm重量：20kg标准配件1、载料杯固定板2、夹子固定板3、载料杯4、夹子5、防护罩可选配件1、可根据您的需要订做不同尺寸的载料杯及载料杯固定架2、恒温水箱（功率：800W；恒温温度：RT-70℃；温度精度：不考虑环境影响为±1℃；容积：25L）

品牌： 沈阳科晶 型号： PTL-MM02-200 产地： 供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

PTL-MM02-200程控垂直提拉涂膜机是专为研究液相生长薄膜而设计的精密设备，通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。本机采用高精度速度控制系统，以及触摸屏参数输入端，实现提拉涂膜全过程的自动控制。主要特点可设定提拉速度、停留时间、入液速度、循环次数。技术参数1、电源：220V2、提拉速度：1-200mm/min3、速度稳定性：±0.05%4、行程：270mm5、样件尺寸：310mm×260mm 厚度1-5mm6、提拉负荷：≤5.5kg标准配件1、控制盒2、浸液槽

品牌： 沈阳科晶 型号： PTL-MMB01 产地： 供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

PTL-MMB01恒温提拉涂膜机是专为研究液相外延薄膜而设计的，在恒温环境中，通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。主要特点1、提供稳定的恒温提拉涂膜环境。2、已通过CE认证。技术参数1、提拉速度：1-200mm/min2、速度稳定性：±0.05%3、温度：RT-100℃4、样件尺寸：75mm×25mm×2.5mm产品规格尺寸：450mm×500mm×970mm标准配件1、样件夹具2、载料杯3、提拉丝

品牌： 沈阳科晶 型号： PTL-MMB02-200 产地： 供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

PTL-MMB02-200恒温垂直提拉涂膜机是专为研究液相生长薄膜而设计的精密设备，在恒温场内通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。本机采用高精度速度控制系统，以及触摸屏参数输入端，实现提拉涂膜全过程的自动控制。主要特点由驱动器细分两相混合式步进电机的步进角度。技术参数1、电源：220V 50Hz2、加热功率：2.3KW3、提拉速度：1-200mm/min4、行程：250mm5、温度：80℃-200℃6、温度精度：±1.5℃7、熔断器：15A8、样件尺寸：407mm×229mm 厚度1-10mm9、提拉负荷：≤5kg产品规格尺寸：636mm×680mm×1520mm标准配件1、控制盒2、浸液槽

品牌： 沈阳科晶 型号： PTL-OV5P 产地： 供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

PTL-OV5P全自动5工位恒温提拉涂膜机用于同一样件在不同液相中的多层涂膜，最多可达到5层。本机广泛用于纳米、化工、金属等材料领域，更是广大高等院校、研究院所涂膜的理想设备。主要特点1、采用触摸控制屏，根据实际需要设置提拉速度、下降速度、停留时间。2、涂膜全程处在恒温环境中。3、完成一种液相涂层后，自动转入下一工序。4、5工位液相载盘按照程序自动旋转。5、已通过CE认证。技术参数1、提拉速度：1-200mm/min2、速度稳定性：±0.05% 3、温度：RT-100℃4、样件尺寸：75mm×25mm×2.5mm产品规格尺寸：450mm×500mm×1060mm重量：45kg标准配件1、涂膜卡具2、载料杯（150ml）3、提拉丝

品牌： 沈阳科晶 型号： PTL-OV6P 产地： 供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

PTL-OV6P 6工位提拉涂膜机在相同外界条件下，对多个样件在不同液相中进行提拉涂膜，主要用于纳米材料研究、表面处理及其它材料的提拉涂膜。主要特点1、设有6个工位，适合一次多个样件的提拉涂膜。2、采用程控提拉速度、浸没时间、干燥时间。3、已通过CE认证。技术参数1、电源：220V2、功率：800W3、提拉速度：1-200mm/min4、温度：RT-100℃5、载料杯：Φ60mm 150ml6、样件尺寸：50mm×25mm×2.5mm产品规格尺寸：450mm×500mm×1060mm重量：40kg标准配件1、涂膜卡具2、载料杯3、提拉丝可选配件多种卡具

品牌： 沈阳科晶 型号： PTL-UMB 产地： 供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

PTL-UMB微米级恒温提拉涂膜机是以微米为计量、专为在液相中提拉涂膜而设计的，通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。本机采用PLC程序控制系统，以彩色触摸屏为数据输入输出端，显示提拉速度、提拉高度、提拉往返次数、间隔时间等参数。主要特点1、采用彩色触摸屏，界面清晰，方便参数设置。2、提拉涂膜的全过程在恒温温度场内进行，有利于薄膜形成及固化。3、操作安全可靠，简单易懂。4、已通过CE认证。技术参数1、电源：220V2、提拉速度：1μm/s-500μm /s3、速度稳定性：±0.05%4、温度：RT-100℃5、样件尺寸：75mm×25mm×2.5mm产品规格尺寸：450mm×500mm×970mm标准配件1、涂膜卡具2、载料杯3、提拉丝

品牌： 沈阳科晶 型号： SPC-1 产地： 供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

SPC-1微型丝印涂层机是一款手动精密的丝网印刷机和电路涂布机，最大印刷面积为70mm×50mm，可精确的调整X、Y、Z三个方向，采用真空衬底方便装卸。主要特点1、可在丝网框架内快速更换所需丝网。2、配有适用于印刷材料的刮板。技术参数1、丝网印刷面积：最小16mm×12mm，最大70mm×50mm2、位置调整及精度：X、Y、Z三个方向可调 X方向20mm，±0.01mm Y方向20mm，±0.01mm Z方向3mm，±0.05mm3、丝网角度调整：±10°可调4、基片支架：真空衬底5、丝网框架：上部框架外侧180mm×130mm，里侧156mm×106mm 底部框架外侧125mm×108mm，里侧105mm×88mm 丝网框架外侧180mm×130mm，里侧126mm×109mm产品规格尺寸：关闭上部框架时300mm×240mm×170mm，开启上部框架时300mm×240mm×330mm重量：11kg可选配件真空泵

品牌： 沈阳科晶 型号： GSL-1800X-ZF4 产地： 供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的蒸发镀膜仪，特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Ti、Al、Au等），也可蒸镀各种氧化物材料。本机设有4个蒸镀加热舟，且每个蒸镀舟都带有挡板。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜，可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求，是一款镀膜效果理想且性价较高的实验设备。主要特点1、真空控制单元全部集合在一个控制盒内。2、采用独立的蒸镀电流控制器，操作方便快捷。3、真空腔体设有1个KF40旁抽阀（直接与前级机械泵相连，方便快速取放样品，提高效率）、1个CF150闸板阀（直接与 分子泵相连）、1个KF16法兰（安装电阻规）、5个CF35法兰（1个安装电离规，4个备用，便于安装其他设备）。4、在腔体底部配有5个水冷电极，可支持4个蒸镀加热舟。5、4个蒸镀加热舟上方配有独立的可移动挡板，有效地避免蒸发时相互污染。6、样品台安装在腔体的顶部。7、腔内可装高分辨率的薄膜测厚仪，精度为10埃。8、可使用循环水冷机。技术参数1、输入：单相AC220V，50/60Hz，最大功率≤3.2KW2、蒸发输出：电压AC0-8V连续可调，最大蒸发电流200A3、真空腔：Φ300mm（内径）×400mm，不锈钢，内壁经电抛光处理4、腔门：Φ200mm5、观察窗：Φ95mm，采用无氧铜密封圈密封6、真空泵：高抽速涡轮分子泵，抽速600L/s7、真空度：5.0×10-6torr（泵开启40min后）8、极限真空度：5.0×10-7torr （加热温度为100℃-150℃）9、漏率：5.0×10-7Pa/s10、样品台：Φ140mm11、蒸发舟与样品台间距：260mm12、冷却水需量：15L/min产品规格尺寸：650mm×1200mm×1600mm重量：600kg

品牌： 沈阳科晶 型号： OTF-1200X-RTP-II 产地： 供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

OTF-1200X-RTP-II近距离蒸发镀膜（CSS）炉是一款快速蒸发管式炉，专门用于PVD或CSS法制作薄膜；其炉管外径为11″，炉管内载样盘可放置3″的圆形或2″×2″的方形基片；加热元件为两组红外灯管，分别安装在腔体顶端和底部，升温速率高达20℃/s；温控系统采用PID30段程序化控制，控温精度为±1℃，并且仪器面板上带有RS485接口，若仪表内配有控温软件，就可将升温程序和曲线导出。主要特点1、为了减小热辐射和达到快速冷却的效果，加热元件被嵌在水冷机构上。2、紧贴顶部加热元件上装有一氮化铝基片（Φ76mm×0.5mm），使得样品基片上的温度更加均匀。3、3″的石墨坩埚可放于底部加热元件上，用于盛放蒸发料。4、真空法兰通过两个硅胶O型圈进行密封，通过机械泵其腔内真空度可达10-2torr，通过分子泵真空度可达10-5torr。5、两个真空法兰都可以通过手动操作进行上下移动。6、一个数字式真空显示计安装在法兰顶部，可以精确测量腔内真空度。技术参数1、电源：单相AC208-240V（需20A的空气开关）2、真空腔体：高纯石英管，外径280mm，内径275mm，高229mm3、加热元件：两组IR红外灯管，额定功率800W，总功率1600W4、热电偶：S型热电偶2个，分别安装于上下法兰上5、工作温度：两个加热区域单独工作的最高温度≤650℃，两加热区域最大温差≤350℃6、加热速率： 8℃/s7、冷却速率： 10℃/s（600℃-100℃）8、真空法兰：316不锈钢制作，配有1个KF-25接口、2个1/4″软管接头9、真空计：数字式真空显示计可选配件1、PC控温软件 2、两路混气系统3、多路浮子混气系统4、多路质子混气系统5、真空泵6、水冷机

品牌： 沈阳科晶 型号： GSL-1100X-SPC-16 产地： 供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子溅射仪，可进行金、铂、铟、银等多种金属的溅射镀膜，样品直径可达50mm，镀膜厚度可达300埃，特别适用于SEM样品的镀膜。主要特点1、设有真空表、溅射电流表，可实时监控工作状态。2、通过调节溅射电流控制器、微型真空气阀，控制真空室压强、电离电流及选择所需要的电离气体，以获得最佳镀膜效 果。3、钟罩边缘橡胶密封圈采用特殊设计，可保证长期使用不出现玻璃钟罩崩边现象。4、陶瓷密封高压电极接头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。5、根据电场中气体电离特性，采用大容量溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。6、已通过CE认证。技术参数1、电源：220V2、总功率： 2000W（包括真空泵）3、真空室：Φ160mm×120mm4、样品台：Φ50mm，且高度可调，可同时进行8个SEM样品的镀膜5、最大均匀镀膜：Φ45mm产品规格尺寸：400mm×300mm×400mm重量：30kg标准配件1、金靶材2、进气针阀3、保险丝可选配件金、铟、银、铂等各种靶材

品牌： 沈阳科晶 型号： GSL-1100X-SPC-16-3 产地： 供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪是依据二极（DC）直流溅射原理设计而成的最简单、可靠、经济的镀膜设备。本机特别之处是在一个真空室内安装了三个靶，旋转样品台可依次在同一样品上涂覆三种材料。因此，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导体材料实验电极的制作。主要特点1、设有真空表、溅射电流表，可实时监控工作状态。2、通过调节溅射电流控制器、微型真空气阀，控制真空室压强、电离电流及选择所需要的电离气体，以获得最佳镀膜效 果。3、钟罩边缘橡胶密封圈采用特殊设计，可保证长期使用不出现玻璃钟罩崩边现象。4、陶瓷密封高压电极接头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。5、根据电场中气体电离特性，采用大容量溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。6、已通过CE认证。技术参数1、靶：Φ45mm2、真空室：Φ160mm×120mm3、最高真空度：≤4×10-2mbar4、靶位：3个5、最大电流：50mA6、可设定最长时间：900s7、微型真空气阀：连接Φ3mm软管8、最高电压： 1600V DC9、机械泵：2L/s标准配件1、金靶材2、银靶材3、铝靶材4、进气针阀5、保险丝可选配件金、铟、银、铂等各种靶材

品牌： 沈阳科晶 型号： GSL-1100X-SPC-16C 产地： 供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪配备了热蒸发附件，具有溅射和蒸发两种功能。不但可以用等离子溅射的方式镀金属膜，也可以用蒸发的方式得到碳或其他金属单质的薄膜。本机能够满足扫描电子显微镜样品的制备和非导体材料实验电极的制作，也可以用于材料研究中各种新材料性能的实验。主要特点配备了热蒸发附件，可以蒸发碳丝或者其他材料，如铝、不锈钢等材料，同时具有溅射和蒸发的功能。因此扩展了应用范围，特别适用于扫描电镜样品的制备。技术参数1、靶：Φ50mm2、样品台：Φ50mm3、真空室：Φ160mm×110mm4、真空度：4×10-1mbar-2×10-2mbar5、最大电流：50mA6、可设定最长时间：9999s7、最高电压：1600V DC可调8、真空泵：4L两级机械旋转泵，极限真空2×10-2mbar标准配件1、金靶材2、碳绳3、钨丝篮4、热蒸发附件5、进气针阀6、保险丝可选配件金、铟、银、白金等各种靶材

品牌： 沈阳科晶 型号： GSL-1100X-SPC-16M 产地： 供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极（DC）直流溅射原理设计而成的最简单、可靠、经济的镀膜设备，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导体材料实验电极的制作。主要特点1、设有真空表、溅射电流表，可实时监控工作状态。2、通过调节溅射电流控制器、微型真空气阀，控制真空室压强、电离电流及选择所需要的电离气体，以获得最佳镀膜效 果。3、钟罩边缘橡胶密封圈采用特殊设计，可保证长期使用不出现玻璃钟罩崩边现象。4、陶瓷密封高压电极接头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。5、根据电场中气体电离特性，采用大容量溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。6、溅射头采用Peltier制冷技术，可得到高性能、精细颗粒的涂层。7、可用水冷溅射头、水冷载物台。技术参数1、靶：Φ50mm2、真空室：Φ160mm×120mm3、最高真空度：≤4×10-2mbar4、最大电流：50mA（100mA）5、可设定最长时间：9999s6、微型真空气阀：连接Φ3mm软管7、最高电压：1600V DC8、机械泵：2L/s产品规格尺寸：360mm×300mm×380mm标准配件1、金靶材2、进气针阀3、保险丝可选配件金、铟、银、铂等各种靶材

品牌： 沈阳科晶 型号： GSL-1100X-SPC-15E-LD 产地： 供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸镀仪特别适合蒸镀一些轻金属，如、Al、Mg、和Li等；同时也可对样品进行镀碳处理，最大可处理的样品直径为50mm。主要特点1、配有直连式双旋机械泵（装有油污过滤器和防回油装置），可使真空腔体真空度达到10-2torr。2、配有KF25波纹管和卡箍。3、可进行镀碳处理。4、已通过CE认证。技术参数1、输入电压：AC208V-240V 50/60Hz2、功率： 2000W3、真空腔体：熔融玻璃管，Φ160mm×110mm4、载物台：Φ50mm5、最大蒸镀区域：Φ45mm6、钨丝舟：3个7、真空度：≤10-2torr（双旋机械泵）产品规格尺寸：360mm×300mm×380mm重量：50kg标准配件1、钨丝舟2、碳纤维注意事项1、对于蒸镀对氧较敏感的材料，建议使用涡旋分子泵。2、为了达到较高的无氧环境，至少要用高纯惰性气体对真空腔体清洗3次。

品牌： 沈阳科晶 型号： GSL-1100X-SPC-12 产地： 供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪专门为在基底上镀金属膜（如金、铂、铟、银等）而设计，最大放置样品尺寸直径为40mm，膜厚可达300?，特别适用于为SEM样品镀金而作为导电极。主要特点1、可以调节电流大小，可设置溅射时间。2、已经过CE认证。技术参数1、输入电源：208V-240V 50Hz/60Hz2、样品台：Φ60mm，高度可调节3、石英腔体：Φ100mm×130mm4、进气口：内部装有阀门，可以向腔体内通入各种气体5、靶材：纯度为4N的金靶，Φ57mm×0.12mm 产品规格尺寸：480mm×320mm×150mm重量：20kg可选配件1、Au（Φ57mm×0.12mm，4N）2、Pt（Φ57mm×0.12mm，4N）3、Ag（Φ57mm×0.5mm,4N）

品牌： 英国Quorum 型号： SC7620 产地：英国 供应商：南京覃思科技有限公司

仪器简介：SC7620溅射镀膜仪英国Quorum的SC7620是一台结构紧凑、价格低廉的磁控离子溅射镀膜仪。如与镀碳附件(CA7625F)结合使用，为理想的低价位扫描电镜溅射、镀碳系统。SC7620耐用、易操作。SC7620适合预算有限、需要高质量镀膜、仪器易操作的用户。对于常规应用,SC7620具有φ100(4″)的玻璃腔室，使用磁控溅射头，带有易更换的圆片靶（标配为金/钯合金）。溅射头为方便的铰链式，并具有电安全互锁装置。高压电缆带有屏蔽功能，以预防意外损坏。通过氩气针阀调整真空度，以改变等离子电流；气体注入系统可预设等离子放电。必备：推荐使用50l/m双级旋转机械泵（E5005F），随机配有油雾过滤器。如果想使用已有的旋转机械泵，确保它的容量为50l/m或更优是非常重要的。可选附件-镀碳仪SC7620可选配(CA7625F)镀碳装置，包括蒸发电源和碳丝头。镀碳附件很容易安装。用碳丝头替换铰链式连接的溅射头即可。为确保暴露在外的溅射头不被供电，安装了机电互锁装置，以确保溅射头断电。SC7620定单信息选择靶金/钯合金作为标配。与金相比，颗粒更细。金：通常为首选。铂：溅射颗粒尺寸比金和金/钯合金还要细小。溅射速率减慢，价格比金和金/钯合金昂贵一些。银：与其它金属比较，银镀层容易取下，较适用于博物馆和法院的样品镀膜。钯：用于X-射线微量分析时，常用来取代金、金/钯和铂。请访问:www.tansi.com.cn查看详细资料技术参数：靶所有的靶尺寸均为57mm直径x0.1mm厚（除非另外指定）SC502-314A 金靶SC502-314B 金/钯合金靶SC502-314E 银靶SC502-314F 钯靶SC502-314A/0.2MM 金靶，厚度0.2mmSC502-314B/0.2MM金/钯合金靶，厚度0.2mmSC502-314C/0.2MM铂靶，厚度0.2mm泵E5005F 50 l/m双级旋转机械泵，带有油雾过滤器（115/230 50/60Hz）E5006 替换的油雾过滤器可根据要求选用其它的泵，可选用国产泵。镀碳CA7625F蒸碳电源220 - 240V尺寸：340 x 355 x 375mm头：带有碳丝A0819(1m)的碳丝头CA0762F主要特点：价格低易操作磁控溅射头紧凑设计快速循环时间（典型为2-3分钟）可选碳丝蒸镀样品台高度可调快速换靶（标配为金/钯合金）符合所有新的安全标准：包括机电互锁，以确保使用镀碳附件时溅射头断电可靠耐用

品牌： 四川毕克 型号： BK802 产地：成都 供应商：四川毕克科技有限公司

对干膜或湿膜的厚度进行严格的控制。在做常规质量控制及研究开发试验时，涂料的遮盖力、不透明性、耐擦洗能力、抗流挂性能及其它质量试验都要求有一个一致性好重复性佳的涂层。

仪器网镀膜机产品导购专场为您提供镀膜机功能原理、规格型号、性能参数、产品价格、详细产品图片以及厂商联系方式等实用信息，您可以通过设置不同查询条件，选择满足您实际需求的镀膜机产品，同时镀膜机产品导购专场还为您提供精品优选镀膜机产品和镀膜机相关技术资料、解决方案、招标采购等综合信息。