匀胶机

匀胶机是在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备。膜的厚度取决于匀胶机的转速和溶胶的黏度。匀胶机主要用于晶片涂光刻胶，有自动、手动和半自动三种工作方式。匀胶机有一个或多个滴胶系统，可涂不同品种的光刻胶。匀胶机滴胶的方式有晶片静止或旋转滴胶。随着晶片尺寸的增大，出现了多点滴胶或胶口移动式滴胶。 精品推荐
品牌： 浙江扬清 型号： EZ4-S-PP 产地：杭州 供应商：浙江扬清芯片技术有限公司

TOP1：功能清晰，易操作 文本显示器，中英文可选；清晰的功能按键；手套箱过渡舱内进出。 TOP2：材料先进，耐腐蚀 易清洁注塑内腔；HDPE材料真空吸盘；耐溶剂PC涂层盖。 TOP3：设计合理，性能稳定 75W直流无刷电机，单片机控制；不易进胶堵胶设计；旋涂内腔易拆卸清理更换。

品牌： 浙江扬清 型号： AC200-S-PP 产地：杭州 供应商：浙江扬清芯片技术有限公司

【优势一】伺服电机，功能强大 高精度伺服控制系统，转速精准至1rpm；点内置100组可编辑匀胶程序，提高工艺重复性；真空负压可调，减少薄片变形，不易破碎；全新套盘更换设计，更方便，更可靠。 【优势二】全新设计，旋涂更为均匀稳定 PP外壳设计，HDPE超高分子材料内腔；大尺寸套盘式载物盘，旋转更稳定；内腔深度增加45%，减少腔内气流干扰；增设独立下抽风口，便于控制腔内气流。 【优势三】人性化操作，使用灵活，安全可靠 7寸触屏控制面板操作系统，更方便操作；数显压力表实时显示负压，反应灵敏，防止飞片；防进胶设计，避免光刻胶等污染物进入设备内部；互锁感应传感器，确保盖子安全闭合；加强式开合盖采用嵌扣设计，更牢靠，更安全。

品牌： 美国劳瑞尔 型号： WS-650-23NPPB 产地：美国 供应商：迈可诺技术有限公司

匀胶机(英文名：Spin Coater)适合半导体硅片的匀胶镀膜 详细介绍：匀胶机(英文名：Spin Coater Spin Processor) 行业俗称：匀胶台、匀胶机、旋涂仪、涂胶机、镀膜机、涂层机一、产品概述：匀胶机WS-650Mz-23NPPB适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆。美国Laurell匀胶机具有稳定的转速和快速的启动，可以保证半导体中胶厚度的一致性和均匀性，这正是650S 型匀胶机的特点。二、匀胶机工作原理： 匀胶机WS-650Mz-23NPPB（spin coater）的工作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上，甩胶机常用于各种溶胶凝胶（Sol-Gel）实验中的薄膜制作，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。三、匀胶机WS-650Mz-23NPPB主要性能指标： 1、腔体尺寸：9.5英寸 (241 毫米)；2、Wafer芯片尺寸：10-150mm直径的材料，方片125x125mm，小于10mm提供3mm的转接托盘）；3、转动速度：0-12,000rpm， 4、旋涂加速度：0-30000rpm/sec（空载）；5、马达旋涂转速：稳定性能误差 ±1%；6、转速调节精度： 0.2rpm，重复性 0.2rpm；7、工艺时间设定：1-5999.9 sec/step 0.1 精度；8、匀胶机材质：NPP天然聚丙烯材质，抗腐蚀性和抗化学物性，美观大方；9、高精度数码控制器：PLC控制，设置点精度小于0.006%。10、程序控制：可存储20个程序段，每个程序段可以设置51步不同的速度状态；11、分辨率：分辨率小于0.5转/分，可重复性小于±0.5转/分，美国国家标准技术研究院（NIST）认证过的，并且无需再校准！]12、配套真空泵系统：无油型 220~240伏交流，50/60赫兹；13、配套分析软件：SPIN3000操作分析软件；14、原装进口水平测试仪； 可选配置：IND构造为湿站系统设计，带远程控制；OND构造为手套箱系统设计，带远程控制；UD自动滴胶装置：UD-3带倒吸装置的多喷嘴可编程针筒，EBR(Edge Bead Remover)：晶圆去边，机械装置；

品牌： 美国劳瑞尔 型号： EDC-650Mz-8NPP 产地：美国 供应商：迈可诺技术有限公司

匀胶显影机(英文名：Developing)产地：美国 一、产品概述： 650型匀胶显影机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面显影。一般匀胶显影机由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压 (水)辊、涂胶槽等部分组成。二、匀胶显影机工作原理：显影系统具有可编程阀，它可以使单注射器试剂滴胶按照蚀刻、显影和清洗应用的要求重复进行，如冲洗（通常是去离子水或溶剂），然后干燥（通常是氮气）等最后的处理步骤。采用此序贯阀门技术的晶圆片和管道在完全干燥的环境中开通和关闭处理过程。隔离和独立的给水器可处在静态的位置还可以盖内调节。匀胶显影机还有可选择的动态线性或径向滴胶的特性。三、匀胶显影机主要性能指标： 1、腔体尺寸：12.5英寸 (318 毫米)；2、Wafer 芯片：直径8英寸（200毫米）的晶圆片或者7x7英寸（175毫米）的方片；3、非真空托盘：聚丙烯材质非真空托盘，可承载2、3英寸及200毫米的晶圆片-并带有背面清洗功能；3、转动速度：0-12,000rpm，5、马达旋涂转速：稳定性能误差 ±1%；6、工艺时间设定：1-5999.9 sec/step 0.1 精度；7、高精度数码控制器：PLC控制，设置点精度小于0.006%；8、程序控制：可存储20个程序段，每个程序段可以设置51步不同的速度状态；9、分辨率：分辨率小于0.5转/分，可重复性小于±0.5转/分，美国国家标准技术研究院（NIST）认证过的，并且无需再校准！]10、腔体开关盖板：透明ECTFE材质圆顶盖板，便于实时进行可视化操作；11、腔体材质说明：用聚丙烯材质制成的带有联动传感触点的合瓣式舱体；12、配套分析软件：SPIN3000操作分析软件；13、配套真空泵系统：无油型 220~240伏交流，50/60赫兹；四、适用工艺（包括但不限于下述湿法制程）光刻胶显影（KrF/ArF）SU8厚胶显影显影后清洗PostCMP清洗光罩去胶清洗光刻胶去除金属Lift-off处理刻蚀微刻蚀处理

品牌： 德国SPS-保罗 型号： POLOS200 产地：德国 供应商：迈可诺技术有限公司

一、产品概述： POLOS系列匀胶显影机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面显影。一般匀胶显影机由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压 (水)辊、涂胶槽等部分组成。二、匀胶显影机工作原理：POLOS系列显影系统具有可编程阀，它可以使单注射器试剂滴胶按照蚀刻、显影和清洗应用的要求重复进行，如冲洗（通常是去离子水或溶剂），然后干燥（通常是氮气）等最后的处理步骤。采用此序贯阀门技术的晶圆片和管道在完全干燥的环境中开通和关闭处理过程。隔离和独立的给水器可处在静态的位置还可以盖内调节。匀胶显影机还有可选择的动态线性或径向滴胶的特性。三、匀胶显影机主要性能指标：1、腔体尺寸：302毫米；2、Wafer 芯片：260毫米的晶圆片或者6x6英寸（125毫米）的方片；3、非真空托盘：聚丙烯材质非真空托盘，可承载2、3英寸及260毫米的晶圆片-并带有背面清洗功能；3、转动速度：0-12,000rpm， 5、马达旋涂转速：稳定性能误差 ±1%；6、工艺时间设定：1-5999.9 sec/step 0.1 精度；7、高精度数码控制器：PLC控制，设置点精度小于0.006%；8、程序控制：可存储20个程序段，每个程序段可以设置51步不同的速度状态；9、分辨率：分辨率小于0.5转/分，可重复性小于±0.5转/分，美国国家标准技术研究院（NIST）认证过的，并且无需再校准！]10、腔体开关盖板：透明ECTFE材质圆顶盖板，便于实时进行可视化操作；11、腔体材质说明：用聚丙烯材质制成的带有联动传感触点的合瓣式舱体；12、配套真空泵系统：无油型 220~240伏交流，50/60赫兹；

品牌： 德国SPS-保罗 型号： SPIN150i 产地：德国 供应商：迈可诺技术有限公司

一、产品概述： SPIN150i型匀胶机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆。MYCRO的SPIN系列匀胶机具有稳定的转速和快速的启动，可以保证半导体中胶厚度的一致性和均匀性，这正是SPIN150i型匀胶机的特点。二、匀胶机工作原理： 匀胶机（spin coater）的工作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上，匀胶机常用于各种溶胶凝胶（Sol-Gel）实验中的薄膜制作，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。三、匀胶机主要性能指标：1、腔体直径：8英寸 (202 毫米)；2、Wafer芯片尺寸：10-160mm直径的材料，4英寸方片；3、转速范围: 1~12000RPM**，±1rpm steps；4、最大加速度：30000RPM/S；5、转速精度: ±0.1rpm；6、程序段数：无限制；7、操作步数：无限制；8、旋转时间：无限制*，±0.1 Second steps；9、旋转方向：顺时针，逆时针，交换摆动；10、扩展接口：1个USB接口；11、马达保护：20-50kPa,2-5l/min,Tube OD ? 6mm（可关闭）；12、排废连接：1” M-NPT；13、触屏控制：全彩触摸屏控制界面；产品相关关键字：匀胶机旋涂仪镀膜机匀胶台甩胶机

品牌： 美国劳瑞尔 型号： WS-650MZ-23NPPB 产地：美国 供应商：武汉迈可诺科技有限公司

MYCRO迈可诺公司提供美国原装进口匀胶旋涂仪，请您放心选购！ 美国LAURELL匀胶机湿法台授权MYCRO迈可诺技术为中国独家代理商 MYCRO美国原装进口的旋涂仪，自1985年开始，我们便为提供化工半导体材料清洁涂敷处理等特殊工艺。公司拥有WS系列各类旋转涂敷系统，目前客户已遍布全球。

品牌： 美国劳瑞尔 型号： WS-650MZ-8NPPB 产地：美国 供应商：武汉迈可诺科技有限公司

美国LAURELL匀胶机湿法台授权MYCRO迈可诺技术为中国独家代理商 MYCRO美国原装进口的旋涂仪，自1985年开始，我们便为提供化工半导体材料清洁涂敷处理等特殊工艺。公司拥有WS系列各类旋转涂敷系统，目前客户已遍布全球。

品牌： 美国劳瑞尔 型号： WS65023N 产地：美国 供应商：武汉迈可诺科技有限公司

MYCRO美国原装进口的旋涂仪，自1985年开始，我们便为提供化工半导体材料清洁涂敷处理等特殊工艺。公司拥有WS系列各类旋转涂敷系统，目前客户已遍布全球。

品牌： 美国劳瑞尔 型号： OSSILA 产地：英国 供应商：武汉迈可诺科技有限公司

英国Ossila公司提供的匀胶机，方便实用，结构小巧紧凑，占地空间小，为实验室提供了理想的解决方案！ 英国Ossila公司旋转涂布机，采用创新专利设计的旋涂盘，无需真空泵或充氮气，就能达到很好的旋涂效果，操作简单方便，旋涂均匀，可对大小不同规格的基片进行旋涂。 Ossila旋涂机内置调整水平装置，最大限度的保证旋涂均匀。

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