光刻机

激光刻蚀机 激光刻蚀机实际上狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。广义上来讲，刻蚀成了通过溶液、反应离子或其它机械方式来剥离、去除材料的一种统称，成为微加工制造的一种普适叫法。刻蚀最简单最常用分类是：干法刻蚀和湿法刻蚀。它们的区别就在于湿法使用溶剂或溶液来进行刻蚀。 精品推荐
品牌： 美国Tera print 型号： M 产地：加拿大 供应商：北京培科创新技术有限公司

聚合物笔无掩模光刻纳米制造系统（polymer pen lithography）聚合物笔纳米无掩模光刻制造系统PPL, 使用可达160000笔尖的阵列，采用蘸笔光刻DPN的方式，将待沉积的材料（墨水）浸蘸在笔尖阵列上，笔尖可控的与基底表面接触，从而在基底表面批量成型所需图案，加工纳米微米图案无需光掩膜，且在平方厘米范围内达到200纳米以下的分辨率，可应用于纳米粒子合成，蛋白阵列，单细胞排布，纳米电路构造、生物芯片、化学检测、微尺度催化反应、分子马达等领域。此设备在国际上属于首个基于聚合物笔光刻(PPL)技术的纳米制造系统，PPL技术是美国Tera-print公司独有的技术。

激光刻蚀机 仪器网激光刻蚀机产品导购专场为您提供激光刻蚀机功能原理、规格型号、性能参数、产品价格、详细产品图片以及厂商联系方式等实用信息，您可以通过设置不同查询条件，选择满足您实际需求的激光刻蚀机产品，同时激光刻蚀机产品导购专场还为您提供精品优选激光刻蚀机产品和激光刻蚀机相关技术资料、解决方案、招标采购等综合信息。