原子层沉积系统(ALD)

原子层沉积系统 原子层沉积系统是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。原子层沉积系统是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法（技术）。 精品推荐
品牌： 美国SVT Associates 型号： ALD-05 产地：美国 供应商：美国SVTA公司中国办事处

美国SVT公司ALD原子层沉积系统自1990年来薄膜淀积设备顶级制造商。拥有独立的室内实验室用于材料研究和工艺开发。提供广泛的服务，包括淀积设备、淀积部件、集成传感器以及工艺控制设备制造和工艺技术的高度结合，为客户提供可靠的技术服务实验室7台应用淀积设备生长出世界级的材料多条设备生产线几乎覆盖了整个薄膜淀积设备市场在薄膜淀积领域拥有超过120台设备的顶级供应商。NorthStar ALD系统介绍：NorthStar ALD原子层沉积系统提供各种淀积方法，包括热淀积以及能量增强淀积。每台设备可以提供多达8个先驱源管路以及一个热壁淀积腔，使其应用范围极为广泛。设备的快速舱口盖或装载室（可选件）使样品操作快捷方便。NorthStar ALD系统不但能跟其他设备连接起来，还能连接多种测量仪器。原位测量工具以及RoboALD软件自动化系统提高了工艺的再现性。可以直接升级至超高真空提供工艺演示以及工艺培训服务为潜在客户提供免费样品测试。应用领域：High-K电介质纳米涂层MEMS光子晶体扩散阻挡层器件封装表面改性层技术参数：为科研客户量身打造最先进的原子层沉积系统。提供4"、6"、8"、12"等多种尺寸的样品平台。针对客户的需求，提供多种输气设计。---可控真空度: 1 Torr to UHV---气道加热---气体快速进出---样品尺寸: 4in standard, optional 12in---基底加热: up to 300 ℃, optional higher temp主要特点：最安全的设计，多样化的配置，全方位的测试手段。精确的控制手段打造完美的成膜质量。强大的科研团队铸就领先的科技实力。---气体离子化---臭氧输送装置---石英振荡器---四重质量分光计---实时温度显示---椭偏仪---进样室

品牌： 德国Diener 型号： P300 产地：德国 供应商：上海尔迪仪器科技有限公司

简介:聚对二甲苯（Poly-p-xylene），商品名帕里纶（Parylene），是通过化学气相沉积法制备的具有聚二甲撑苯撑结构的聚合物薄膜的统称，它有极其优良的电性能、耐热性、耐候性和化学稳定性，主要有 Parylene N（聚对二甲苯）、Parylene C（聚一氯对二甲苯）和 Parylene D（聚二氯对二甲苯）三种。它是采用真空热解气相堆积工艺制备，可制成极薄的薄膜，主要用作薄膜和涂层，用于电子元器件的电绝缘介质、保护性涂料和包封材料等。工作原理:将该二聚体进行高温裂解产生双自由基，再导入成膜室在成膜物体表面冷凝并迅速聚合，得到均匀致密的聚对二甲苯薄膜。聚对二甲苯薄膜涂层特点:聚对二甲苯薄膜无色透明,膜厚0.1μm 时仍无针孔。它的化学性能稳定 ,有优良的机\电\热和生物相容性,对气体有良好的阻挡作用,还能提高被抱覆物的耐摸性,同时是一种能防潮\防霉\防酸碱\耐辐照的高品质防护涂层。聚对二甲苯薄膜涂层的优良特性,使其在许多高科技领域具有广阔的应用前景 。Parylene涂层在电子领域应用极其广泛,主要用于:电路板,半导体器件,集成电路,混合微电路, 混合微电路,电容器,微型电机和铁氧体;在光学和光电领域主要用于光学光电器件,复印技术光电感光体,激光存储和记录器件;在生物医学领域用于人工假体,埋入式器件,血液分析器等;在航空航天领域主要用在航空航天器上,用于绝缘保护。Diener P300聚对二甲苯涂沉系统技术参数:涂层材料;聚对二甲苯 N,C,D涂层厚度:0.05~100μm加热炉:4kW/Max.850℃沉积室:Dia.700*H720mmGas injection:homogenous dispersal systemCarrousel:Dia.600mm*H600mmPumping system:two-stage rotary vane suction power 65m3/hUltimate pressure:1*10-3mbarContral:Full PC based contral system on Windows-basedCompressed air:6bars oil free and dryExhaust:40mm tubeDimensions:W2700*D2200*1600mmConnections:3phase/400V/16A/50,60Hz尔迪仪器提供优质的售前售后服务.

品牌： 德国Diener 型号： P30 产地：德国 供应商：上海尔迪仪器科技有限公司

简介:聚对二甲苯（Poly-p-xylene），商品名帕里纶（Parylene），是通过化学气相沉积法制备的具有聚二甲撑苯撑结构的聚合物薄膜的统称，它有极其优良的电性能、耐热性、耐候性和化学稳定性，主要有 Parylene N（聚对二甲苯）、Parylene C（聚一氯对二甲苯）和 Parylene D（聚二氯对二甲苯）三种。它是采用真空热解气相堆积工艺制备，可制成极薄的薄膜，主要用作薄膜和涂层，用于电子元器件的电绝缘介质、保护性涂料和包封材料等。工作原理:将该二聚体进行高温裂解产生双自由基，再导入成膜室在成膜物体表面冷凝并迅速聚合，得到均匀致密的聚对二甲苯薄膜。聚对二甲苯薄膜涂层特点:聚对二甲苯薄膜无色透明,膜厚0.1μm 时仍无针孔。它的化学性能稳定 ,有优良的机\电\热和生物相容性,对气体有良好的阻挡作用,还能提高被抱覆物的耐摸性,同时是一种能防潮\防霉\防酸碱\耐辐照的高品质防护涂层。聚对二甲苯薄膜涂层的优良特性,使其在许多高科技领域具有广阔的应用前景 。Parylene涂层在电子领域应用极其广泛,主要用于:电路板,半导体器件,集成电路,混合微电路, 混合微电路,电容器,微型电机和铁氧体;在光学和光电领域主要用于光学光电器件,复印技术光电感光体,激光存储和记录器件;在生物医学领域用于人工假体,埋入式器件,血液分析器等;在航空航天领域主要用在航空航天器上,用于绝缘保护。Diener P30聚对二甲苯薄膜涂层系统技术参数:涂层材料;聚对二甲笨 N,C,D涂层厚度:0.05~100μm加热炉:4kW/Max.700℃涂层腔体尺寸:D310*H500mmGas injection:homogenous dispersal systemCarrousel:Dia.150mm*H270mmPumping system:two-stage rotary vane suction power 25m3/hUltimate pressure:1*10-3mbarContral:Full PC based contral system on Windows-basedCompressed air:6bars oil free and dryExhaust:25mm tubeDimensions:W1400*D700*1700mmConnections:3phase/400V/16A/50,60Hz尔迪仪器提供优质的售前售后服务.

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