辉光放电质谱仪(GDMS)

辉光放电质谱仪 辉光放电质谱仪GDMS是辉光放电质谱法的简称。是利用辉光放电源作为离子源与质谱仪器联接进行质谱测定的一种分析方法。GDMS在多个学科领域均获得重要应用。在材料科学领域，辉光放电质谱仪GDMS成为反应性和非反应性等离子体沉积过程的控制和表征的工具。辉光放电质谱仪GDMS已成为无机固体材料，尤其是高纯材料杂质成分分析的强有力方法。 精品推荐
品牌： 英国Nu Instruments 型号： AstruM 产地：英国 供应商：Nu仪器（北京）有限公司

AstruM高分辨率辉光放电质谱仪是分析高纯物质杂质元素的低级仪器，广泛的得到高纯金属，半导体，光伏产业，钢铁等等行业的认可，检测的极限可以达到固体含量的ppt水平，支持无标准分析，低温样品池设计，低熔点的金属。 高分辨率辉光放电质谱仪主要用于高纯材料的杂质分析，例如高纯Si，As， Ge， Cu， Ga， Nb， Ta， 稀土等等，还有陶瓷，玻璃，功能材料等等，是半导体行业，材料行业，冶金行业，等等不可缺少的仪器技术参数： 连续可调高分辨率 1cps的背景 其他指标详询主要特点： 连续可调高分辨率 低背景，包括低质量数端的背景 针状，片状样品 高灵敏度，低检测限连续

品牌： 英国质谱 型号： Autoconcept GD90 产地：英国 供应商：北京众星联恒科技有限公司上海办事处

Autoconcept GD90是一个专为高精度元素分析所设计的高分辨辉光放电质谱仪。此辉光放电质谱仪（GDMS）提供了固体金属与绝缘体的直接分析检测。它具有非常宽的元素覆盖范围，可得到超过70种元素的有效数据，灵敏度高，轻元素重元素均可。 GDMS技术使原子化（碎片化）过程与离子化过程分开进行，故而可容易的对ppb至ppt级别的痕量杂质进行测量。此法还使得GDMS技术拥有最小的基体效应且无须特定参照材料。它可对金属与合金进行全扫描分析，可对半导体进行大量的测量分析，可对多层结构与镀层进行深度剖析。是包括金属、合金、半导体以及绝缘体（须配RF源）等高纯材料的生产与质量控制的理想工具。 主要特性： 高分辨率，特别是对于有干扰离子存在的测定而言十分重要。 广泛的元素涵盖范围，软件中包括70个元素相关的干扰离子数据。 由于原子化和离子化过程发生在不同区域，带来可忽略的基体效应。 低至亚ppb级的定量数据。 具有深度剖面同位素比值分析能力。 最少的样品制备过程。

品牌： 赛默飞世尔 型号： ELEMENT GD 产地：德国 供应商：赛默飞色谱质谱及痕量元素分析

Thermo Scientific ELEMENT GD结合了辉光放电离子源和双聚焦高分辨率质量分析器，可以定性定量分析固体样品中包括C、N、O在内的几乎所有元素，是直接、快速分析高纯样品杂志含量和镀层材料元素组成的最佳工具。ELEMENT GD集中了辉光放电和高分辨质谱的优势，在以下方面有杰出表现： 样品测试通量高：ELEMENT GD离子源和样品夹的设计使可缩短换样和分析时间，显著提高生产率； 检测器线性范围宽：检测器线性范围达12个数量级，可一次扫描同时检测基体和痕量元素组成； 具有固定宽度的低、中、高分辨率狭缝，采用高分辨率可直接分析有质谱干扰的同位素。

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