辉光放电光谱仪

辉光放电光谱仪 辉光放电光谱仪是解密镀层工艺、解析镀层结构的强有力手段，可以通过元素变化获得镀层结构、层间扩散、元素富集、表面处理、镀层均一性等信息，从而改善工艺条件等。辉光放电光谱仪主要应用行业有金属冶金、半导体器件、LED芯片、薄膜太阳能电池、锂电池阴阳极、光学玻璃、核材料等。非常适合于导体和非导体复合镀层的分析，操作简单、便于维护，是镀层材料研发、质控的理想工具。 精品推荐
品牌： 法国HORIBA JY 型号： Profiler 2 产地：法国 供应商：北京国嘉恒业科学仪器有限公司

GD-Profiler 2是一款可进行超快镀层分析的理想工具，非常适合于导体（和/或）非导体复合镀层的分析。可分析70多种元素，其中包括C、H、O、N和Cl。一次测试可轻松获取镀层元素深度分布、镀层厚度、镀层均一性及表面/界面等信息。 GD-Profiler 2可分析几纳米到200微米的深度，深度分辨率小于1纳米。GD-Profiler 2采用了脉冲式射频辉光源，可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。此外，还采用了多项专利技术，如高动态检测器（HDD）可测试ppm-100%的浓度范围，专利Polyscan多道扫描的光谱分辨率为18pm~25pm等。主要应用领域包括镀锌钢板、彩涂板、新型半导体材料、LED晶片、硬盘、有机镀层、锂电池、玻璃、陶瓷等等。技术参数：1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短，表面信息无任何失真。2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜，也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。3、Polyscan多道（同时）光谱仪可全谱覆盖，光谱范围从110nm-800nm，可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有最大的光通量，因而拥有卓越的光效率和灵敏度。5、高动态检测器（HDD）可快速、高灵敏的检测ppm-100%含量的元素。动态范围为5×1010。6、宽大的样品室方便各类样品的加载。7、功能强大的Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。8、HORIBA独有的单色仪（选配）可极大地提高仪器灵活性，可实现固定通道外任意一个元素的同步测试，称为n+1。9、适用于ISO14707和16962标准。更多指标参数请访问HORIBA官网

品牌： 法国HORIBA JY 型号： Profiler HR 产地：法国 供应商：北京国嘉恒业科学仪器有限公司

GD-Profiler HR拥有独一无二的超高光谱分辨率，为解决复杂基体中的疑难问题提供了适宜、便利的方法。技术参数：1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短、表面信息无任何失真。2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜，也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。3、Polyscan多道（同时）光谱仪可全谱覆盖，光谱范围从110nm-800nm，可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有最大的光通量，因而拥有卓越的光效率GD敏度。5、高动态检测器（HDD）可快速、高灵敏地检测ppm-100%含量的元素。动态范围为5×1010。6、宽大的样品室方便各类样品的加载。7、功能强大的Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。8、HORIBA独有的单色仪（选配）可极大的提高仪器的灵活性，可实现固定通道外任意一个元素的同步测试，称为n+1。9、适用于ISO14707和16962标准。10、GD-Profiler HR多色仪焦距为1米，光谱分辨率可达14pm，最多可同时分析60种元素。11、GD-Profiler HR可选配焦距为1米的单色仪，最高光谱分辨率达9pm。更多指标参数请访问HORIBA官网

品牌： 日本堀场 型号： GD-Profiler HR 产地：法国 供应商：天津东方科捷科技有限公司

仪器简介： GD-Profiler HR拥有独一无二的超高光谱分辨率，为解决复杂基体中的疑难问题提供了适宜、便利的方法。 详细指标参数可访问http://www.horiba.com/cn/scientific/products技术参数： 1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短、表面信息无任何失真。 2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜，也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。 3、Polyscan多道（同时）光谱仪可全谱覆盖，光谱范围从110nm~800nm，可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。 4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有最大的光通量，因而拥有卓越的光效率GD敏度。 5、高动态检测器（HDD）可快速、高灵敏地检测ppm-100%含量的元素。动态范围为5 x 1010。 6、宽大的样品室方便各类样品的加载。 7、功能强大的Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。 8、HORIBA独有的单色仪（选配）可极大的提高仪器的灵活性，可实现固定通道外任意一个元素的同步测试，称为n+1。 9、适用于ISO14707和16962标准。 10、GD-Profiler HR多色仪焦距为1米，光谱分辨率可达14pm，最多可同时分析60种元素。 11、GD-Profiler HR可选配焦距为1米的单色仪，最高光谱分辨率达9pm。

品牌： 法国HORIBA JY 型号： GD-Profiler 2 产地：法国 供应商：天津东方科捷科技有限公司

仪器简介： GD-Profiler 2是一款可进行超快镀层分析的理想工具，非常适合于导体（和/或）非导体复合镀层的分析。可分析70多种元素，其中包括C、H、O、N和Cl。一次测试可轻松获取镀层元素深度分布、镀层厚度、镀层均一性及表面/界面等信息。 GD-Profiler 2可分析几纳米到150微米的深度，深度分辨率小于1纳米。GD-Profiler 2采用了脉冲式射频辉光源，可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。此外，还采用了多项专利技术，如高动态检测器（HDD）可测试ppm-100%的浓度范围，专利Polyscan多道扫描的光谱分辨率为18pm~25pm等。主要应用领域包括镀锌钢板、彩涂板、新型半导体材料、LED晶片、硬盘、有机镀层、锂电池、玻璃、陶瓷等等。 详细指标参数可访问：http://www.horiba.com/cn/scientific/products技术参数： 1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短，表面信息无任何失真。 2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜，也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。 3、Polyscan多道（同时）光谱仪可全谱覆盖，光谱范围从110nm~800nm，可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。 4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有最大的光通量，因而拥有卓越的光效率和灵敏度。 5、高动态检测器（HDD）可快速、高灵敏的检测ppm-100%含量的元素。动态范围为5 x 1010。 6、宽大的样品室方便各类样品的加载。 7、功能强大的Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。 8、HORIBA独有的单色仪（选配）可极大地提高仪器灵活性，可实现固定通道外任意一个元素的同步测试，称为n+1。 9、适用于ISO14707和16962标准。

品牌： 日本堀场 型号： Profiler 2 产地：法国 供应商：厦门通创检测技术有限公司

解密镀层工艺、解析镀层结构Profiler 2辉光放电光谱仪是解密镀层工艺、解析镀层结构的强有力手段，可以通过元素变化获得镀层结构、层间扩散、元素富集、表面处理、镀层均一性等信息，从而改善工艺条件等。主要应用行业有金属冶金、半导体器件、LED芯片、薄膜太阳能电池、锂电池阴阳极、光学玻璃、核材料等。GD-Profiler 2作为超快镀层分析的理想工具，非常适合于导体和非导体复合镀层的分析，操作简单、便于维护，是镀层材料研发、质控的理想工具。 使用脉冲式射频辉光源，可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。 采用多项专利技术，如高动态检测器（HDD），可测试ppm-100%的浓度范围，专利Polyscan多道扫描的光谱分辨率为18pm~25pm等。 分析速度快（2-10nm/s）技术参数：1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短，表面信息无任何失真。2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜，也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。3、Polyscan多道（同时）光谱仪可全谱覆盖，光谱范围从110nm-800nm，可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有最大的光通量，因而拥有卓越的光效率和灵敏度。5、高动态检测器（HDD）可快速、高灵敏的检测ppm-100%含量的元素。动态范围为5×1010。6、宽大的样品室方便各类样品的加载。7、功能强大的Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。8、HORIBA独有的单色仪（选配）可极大地提高仪器灵活性，可实现固定通道外任意一个元素的同步测试，称为n+1。9、适用于ISO14707和16962标准。仪器原理：辉光放电腔室内充满低压氩气，当施加在放电两极的电压达到一定值，超过激发氩气所需的能量即可形成辉光放电，放电气体离解为正电荷离子和自由电子。在电场的作用下，正电荷离子加速轰击到（阴极）样品表面，产生阴极溅射。在放电区域内，溅射的元素原子与电子相互碰撞被激化而发光。更多指标参数请访问HORIBA官网：www.horiba.com/cn/scientific

品牌： 日本堀场 型号： Profiler HR 产地：法国 供应商：厦门通创检测技术有限公司

GD-Profiler HR拥有独一无二的超高光谱分辨率，为解决复杂基体中的疑难问题提供了适宜、便利的方法。技术参数：1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短、表面信息无任何失真。2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜，也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。3、Polyscan多道（同时）光谱仪可全谱覆盖，光谱范围从110nm-800nm，可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有最大的光通量，因而拥有卓越的光效率GD敏度。5、高动态检测器（HDD）可快速、高灵敏地检测ppm-100%含量的元素。动态范围为5×1010。6、宽大的样品室方便各类样品的加载。7、功能强大的Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。8、HORIBA独有的单色仪（选配）可极大的提高仪器的灵活性，可实现固定通道外任意一个元素的同步测试，称为n+1。9、适用于ISO14707和16962标准。10、GD-Profiler HR多色仪焦距为1米，光谱分辨率可达14pm，最多可同时分析58种元素。11、GD-Profiler HR可选配焦距为1米的单色仪，最高光谱分辨率达9pm。更多指标参数请访问HORIBA官网注：具体价格、配置请咨询当地销售工程师

品牌： 德国斯派克 型号： SPECTRO GDA750 产地：德国 供应商：德国斯派克分析仪器公司

在金属分析领域中，辉光放电分析是浓度分析和表面分析最理想的手段。表面处理工艺过程，如表面渗碳硬化或渗碳热处理等，都可以通过分析被处理材料的表面和近表层区域实现质量控制。采用浓度分布分析功能可以精确地测量涂（镀）层厚度及化学成分。 对于传统的分析方法不能解决的材料分析问题，辉光放电光谱技术可以作为优先选用的方法。采用可选的射频光源（GDA750辉光放电光谱仪）可以分析非导体材料和涂层，如玻璃，陶瓷，釉质和油漆涂层。 GDA750可以配备60个以上的分析通道，并且能充分地满足高分辨率和高精度的分析要求。涂（镀）层的深度可测量至200µm。表面分析和获得的分辨率达1个原子层。分析软件具有强大功能并且灵活易用；化学成分可以与其他特性，如被分析区域中的密度和质量分布同时测定。 通过比较涂（镀）层工艺过程（CVD，PVD）前后的表面特性，确保生产工艺过程最佳化和最大程度地避免废品浪费。GDA750也可用于块状样品的分析（如金属合金的化学成分），为复杂基体材料的分析提供具有良好线性的工作曲线。 采用可选的射频辉光放电光源，GDA750可用于分析非导电性材料，如陶瓷，玻璃和油漆涂层。主要特点：1.涂（镀）层材料和均相材料化学成分的分析，痕量和微量合金元素的检测和测量2.浓度分布测定和表层测量数据的定性/定量评价3.测定被分析表面层内部的相/相比4.软件基于Windows 2000环境，日常分析功能采用易用的软件界面，使用户能很快地熟悉仪器的使用5.具有许多适于用户的软件功能选项，如显示输出、数据传输和数据格式

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