KRI 离子源应用

KRI 离子源应用
上海伯东代理美国 KRI 考夫曼离子源主要应用于真空环境下的离子束辅助沉积, 纳米级的干式蚀刻和表面改性.

 Ion Beam Modification of Material Surface Properties 离子束材料和表面改性
 - Surface polishing or smoothing 表面抛光
 - Surface nano structures and texturing 改变纳米结构和纹理
 - Ion figuring and enhancement 离子刻蚀成形
 - Ion trimming and tuning 离子表面优化
 - Surface activated bonding

 Ion Beam Etching 离子蚀刻
 - Reactive Ion Beam Etching 反应离子蚀刻
 - Chemically Assisted Ion Beam Etching 化学辅助离子蚀刻

 Ion Beam Sputter Deposition 磁控溅射辅助沉积
 - Reactive Ion Beam Sputter Deposition 反应离子磁控溅射沉积
 - Biased Target Ion Beam Sputter Deposition 偏压离子束磁控溅射

 Direct Deposition 直接沉积
 - Hard and functional coatings 硬质和功能膜

作为一种新兴的材料加工技术, 美国 KRI 考夫曼离子源凭借出色的技术性能, 协助客户获得理想的薄膜和材料表面性能. 行业涉及精密光学, 半导体制造, 传感器, 医学等多个领域.