脉冲激光沉积 PLD

脉冲激光沉积 PLD-18L
上海伯东代理 AdNaNo 铠柏科技旗舰款脉冲激光沉积设备 PLD-18L, 它可以与溅射枪, 积液池, 高压流变, 激光束控制相结合, 可以放置 8 1 英寸的样品或 4 2 英寸的样品, 在真空状态下通过 load lock chamber 进行更换, 使用高速激光扫描仪, 可以很容易地作出大规模的结果.
AdNaNo 铠柏科技的 PLD 系统共分两型, PLD-12L 与 PLD-18L, L代表激光加热. PLD 最适合长氧化物与多元薄膜, 在氧化物生长的时候要通入大量的氧气, 而氧气会造成一般加热器的损伤甚至断掉. 而铠柏科技激光加热器没有这个缺点, 可以在高氧压甚至臭氧下工作. 最高工作温度可达 1000摄氏度以上. PLD-12L 的优点是腔体小, 速度快. 可以兼容两只磁控溅射靶或束源炉. 可使用 mask. PLD-18L 的扩充性强大, 可以装4只束源炉或是 plasma cell, 靶材台可装6个1寸靶或者3个2寸靶. 两种系统均可装配高气压高能电子枪 ( High Pressure RHEED ) PLD-18 可加装椭圆仪, 及时监控. 特殊的激光视窗保护机构可保护视窗,
可沉积材料如: Heterostructure metal oxides (e.g. Fe / SrTiO3, Nb / SrTiO3, BiFeO3, etc), high temperature superconducting materials, silicon oxides, high k oxides, metal nitrides, ferroelectric materials, etc.
脉冲激光沉积 PLD-18L 特点
base pressure: 5E-10 torr
RHEED system
4 axis substrate manipulator with rotation and XYZmovement
Pumping throughput control
All metal leak valve
Laser Heater