荧光分光光度法在胶粘剂测定上的应用

荧光分光光度法在胶粘剂测定上的应用

天津港东科技股份有限公司  应用分析部

摘要：

随着现代电子行业对产品功能可靠性的重视，共性覆膜被越来越多的生产厂商所提及。它是通过涂覆胶粘剂（涂覆胶、三防胶）使线路板表面形成一个绝缘和防潮层，隔离灰尘和颗粒以避免短路，从而起到保护密封元器件减少与环境的接触并阻挡腐蚀，保护电子装置中的金属接点免受环境的损坏的作用。此工艺使产品的防水防潮，防烟雾和防静电等的恶劣环境可靠性有一个质的飞跃。

由于大部分的胶粘剂在涂覆之后都会呈现出无色透明状，肉眼很难检查涂覆效果进行判断。所以在实际使用过程中会向胶粘剂里添加一定量的荧光剂，通过测试涂覆之后产品的荧光现象来检查胶黏剂的涂覆与否及其均匀程度。

应用分子荧光分光光度计测试涂覆胶黏剂（涂覆胶、三防胶）后产品的荧光发射谱图，通过谱图寻找荧光特征峰、比较荧光峰的荧光强度来判断该样品是否涂覆了胶黏剂或者是否涂覆均匀，此方法操作简单，效果显著。

 

关键词：胶黏剂；涂覆胶；三防胶；分子荧光分光光度法

 

一、原理：

分子荧光分光光度法是一种对荧光物质进行定性鉴别、定量的有效方法。根据胶粘剂中添加荧光物质的种类和含量不同，通过观察荧光谱图确定最佳激发波长和最佳发射波长，比较荧光峰处的荧光强度判断胶黏剂涂覆是否均匀。

产品涂覆与未涂覆胶黏剂在紫外光照射下对比图

二、实验条件：

1、仪器及附件：

   主机：天津港东 F-380型荧光分光光度计      1台

   附件：固体样品支架                         1个

   其它：石英载玻片                           同样品数量

         玻璃毛细管                           同样品数量

2、分析条件：

测量类型

波长扫描

三维扫描

扫描模式

激发光谱/发射光谱

3D扫描

激发狭缝

5nm

5nm

发射狭缝

5nm

5nm

扫描速度

1200nm/min

30000nm/min

灵敏度

0.1s

0.004s

增 益

1

1

电压

400V

400V

光谱校正

否

否

备注：此分析条件仅供参考。不同胶黏剂添加的荧光物质及含量不尽相同，选择的分析条件也会不同，以实际测试为主。

 

三、实验方法

以三种样品为例：硅胶（黑色）、热熔胶（白色）、UV胶（蓝色）。

用玻璃毛细管沾取三种样品分别均匀地涂抹在石英载玻片上。其中热熔胶样品需在烘箱里110℃加热，使之溶解后再涂抹。

 

四、测定结果

1、硅胶（黑色）

（1）激发375nm，扫描样品发射谱图

（2）发射431nm，扫描样品激发谱图

（3）三维谱图

（4）重复性

将样品涂抹于石英基底，固定在固体样品支架上，石英面对着光源，重复测试三次。

2、热熔胶（白色）

（1）激发377nm，扫描样品发射谱图

（2）发射433nm，扫描样品激发谱图

（3）三维谱图

（4）重复性

将样品涂抹于玻璃基底，固定在固体样品支架上，样品面对着光源，重复测试三次。

3、UV胶（蓝色）

（1）激发375nm，扫描样品发射谱图

（2）发射431nm，扫描样品激发谱图

（3）三维谱图

（4）重复性

将样品涂抹于玻璃基底，固定在固体样品支架上，样品面对着光源，重复测试三次。

五、结论

应用分子荧光分光光度计对涂覆胶黏剂的产品进行荧光扫描，可以快速的分析出产品中是否含有荧光物质及其含量多少，从而判断胶黏剂是否被涂覆上及其涂覆均匀程度。此方法操作简单，重复性好，结果可靠，是研究产品涂覆效果的理想方法。

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