表面光学特性分析扫描近场光学显微镜

什么是表面电场分布的扫描静电力显微镜技术？

原子力显微镜技术已俨然成为扫描探针显微镜的入门技术。
原子力显微镜在纳米级表面形貌分析的成功经验，

使得研究人员得以更广泛利用原子力显微镜的架构从事各种物理量的二维扫描侦测、分析与研究，
也因此衍生出应用于表面磁性分析的扫描磁力显微镜技术(magnetic force microscopy，MFM)；

应用于表面电场分布的扫描静电力显微镜技术(electrostatic force microscopy，EFM)

；应用于表面光学特性分析的扫描近场光学显微镜技术(scanning near-field optical microscopy，SNOM)；

应用于表面电性分析的扫描电流显微镜技术(conductive atomic force microscopy，C-AFM)、扫描展阻显微镜技术(scanning spreading resistance microscopy，SSRM)
与扫描电容显微镜技术(scanning capacitance microscopy，SCM)；
以及应用于表面硬度分布的原子力超音波显微镜技术(atomic force acoustic microscopy，AFAM)等。

电性扫描探针显微镜技术包括扫描电容显微镜、扫描电流显微镜、扫描展阻显微镜以及静电力显微镜四个主要技术领域，