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球墨铸铁合金均质结构金相分析专业显微镜
3.51wt%C、2.49wt%Si之无合金铁素体系球墨铸铁，以热膨胀仪进行不同温度与时间
之奥氏体化处理。主要在探讨铁素体系球墨铸铁之奥氏体变态机构
，及均质化与温度对奥氏体变态机构之影响，并比较球墨铸铁与钢之奥氏体化反应
的差异及其原因。
经均质化处理后之球墨铸铁，其奥氏体优先成核位置为球墨／铁素体界面，
而在球墨周围之奥氏体成长，主要是依靠碳原子的扩散进行，而未均质化球墨铸铁的优
先成核、成长位置，包括球墨／铁素体界面与共晶胞晶界；而在共晶胞晶界奥氏体的成长，
则包括碳原子的上坡扩散。均质化与未均质化者，均可以Avrami方程式来表示奥氏体
的反应动力学。
在大部分的奥氏体变态过程中，均质化的变态速率均大于未均质化者 。
此外，实验亦证实铁素体系球墨铸铁的奥氏体化反应为碳原子扩散控制机构；
而其反应过程可分为四个阶段，即
(1)快速成核，(2)等方性奥氏体成长，(3)非等方性奥氏体成长，
(4)奥氏体碳含量增加至饱和碳含量为止。
对未均质化者而言，在摄氏880～950度，碳原子扩散是以在奥氏体相中的体扩散
与铁素体中的晶界扩散组合为主；在摄氏1000～1100度，则以在奥氏体相中的
体扩散为主。而此扩散形式的差异，应是造成高、
低温区奥氏体化反应活化能差异的原因之一
