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湿电子化学品是指微电子.光电湿法工艺(主要包括湿法蚀刻.清洗.显影.工艺中使用的各种电子化学材料，如互联等。按用途可分为通用化学品(也称超净高纯试剂)和功能化学品(以光刻胶试剂为代表)。
其中，超净高纯试剂需求占88%，其次是硫酸.双氧水.氨水.氢氟酸.异丙醇.硝酸和磷酸；功能性化学品占12%，其次是半导体显影液。.刻蚀液.面板用显影液.剥离液和缓冲蚀刻液。
梅特勒托利多电位滴定仪广泛应用于电子湿化学中，典型应用如下：
电位滴定仪
1.通用湿电子化学品
硫酸铈法测定过氧化氢的含量
过氧化氢的滴定含量通常包括高锰酸钾法和硫酸铈滴定法。由于硫酸铈作为滴定液非常稳定，因此可以直接制备，而不需要校准，因此可以等待标准溶液，使用非常方便。
取0.1~0.5g双氧水，加DI水至锥形瓶20mL刻度，加20mL20%硫酸用0.1mol/L滴定硫酸铈标液，滴到终点。
过氧化氢含量结果
过氧化氢含量采用高锰酸钾法测量，操作简单，检测速度快(3-5)min），测量结果准确，测量重复性相对标准偏差可控制在1%以内。
仪器配置：电位滴定仪，DMi140-SC氧化还原电极，DV1010滴定管
其他通用化学解决方案
2.功能性湿电子化学品
显影液-四甲基氢氧化铵测定
梅特勒托利多电位滴定器可以有效控制四甲基氢氧化铵的含量，参考方法SJ/T测定电位滴定法，11636-2016电子工业显影液中的四甲基氢氧化铵。
方法:准确称取适量样品(精确到0.0001g），放入滴定杯中，加入50mL去离子水，用0.1N盐酸滴定液用于滴定，四甲基氢氧化铵的含量按第一等点计算。
四甲基氢氧化铵的测定结果采用两种方法准确最大绝对误差小于0.01%。
仪器配置：电位滴定仪，DGi111-SC/DGi115-SC酸碱滴定电极，DV1020滴定管。
缓冲刻蚀液-氟化铵和氢氟酸
缓冲蚀刻液主要用于蚀刻晶圆上的深槽SiO2氧化膜。当温度一定时，氧化膜的腐蚀速度主要取决于腐蚀液的比例和比例SiO2.参差不齐。腐蚀性液体的比例由梅特勒托利多电位滴定仪测量，测量结果准确，重复性好。
精确称取适量样品，加入50ml水稀释，用0.1mol/L氢氧化钠滴定，滴定过程中有两次跳跃，第一次跳跃是HF滴定终点，第二个突飞为氟化铵滴定终点。
HF的pKa为3.45，NH4+的pKa为9.所以第一次跳跃是25，所以HF滴定终点，第二个突点NH4F滴定终点HF和NH4+为了解决平衡常数之间的差异，可以通过一步滴定来测量HF和NH4F的浓度。
仪器配置：电位滴定仪，DGi111-SC/DGi115-SC酸碱滴定电极，DV1010滴定管
铝刻蚀液-硝酸.磷酸.醋酸
滴定三元混酸含量
方法一，主要采用铝蚀蚀液原料监测：
测定刻铝酸含量(4%)HNO3.75%H3PO4.10%HAc）
滴定剂（0.2MKOH-2-Isopronal）
乙醇：丙二醇=1：1
仪器：电位滴定仪+DGi113-SC非水酸碱滴定电极
方法二，主要用于铝蚀刻液生产罐监测-分步滴定。原因:铝等离子体在生产中的样品会影响测定
第一步：采用00采用氧化还原法.1N硫酸亚铁铵滴定HNO3
溶剂:硫酸水(4:1)
第二步：采用酸碱滴定，采用0.5NNaOH滴定H3PO4和HAc
以饱和氯化钠水溶液为溶剂：V1是硝酸+第一个磷酸H，V2是HAc第二个磷酸H
其他功能性湿电子化学测量解决方案
3.DispenSix全自动取样.在线滴定系统
在线分析系统的所有化学分析部件均采用模块化设计，玻璃、玻璃等完全耐腐蚀的高性能材料，PTFE,PVDF和FEP。在实际应用中，用户可以根据测试指标进行配置，并根据工厂的生产要求设置最合适的分析周期。自动收集样品并进行分析和测量。分析过程结束后，仪器自动用去离子水清洗反应杯，向仪器屏幕显示分析结果，并通过以太网将数据传输到中央控制室LabX软件工作站labX也可以实现工作站LIMS.ERP等待系统的数据对接，真正实现24小时无人值守监控。
全自动高精度取样单元LiquidHandler它是一个滴定管功能，有6个阀门，能准确吸收液体.液体溃疡和准备，可在生产线上实时监测槽液酸.碱.铜离子等含量。Liquidhandler在线测量六价铬和在线测量铀含量的方案，可见梅特勒托利多在线滴定系统的多样化。
模块化设计，任何零件磨损或老化都可以更换和维修，维修方便简单，经过培训，客户可以自行更换和维修。
如今，中国已成为世界上最大的半导体消费市场。5G通信人工智能等下一轮终端需求为中国大陆半导体产业的发展创造了新的机遇。我们在电子湿度化学中有丰富的应用方法和案例，可以提供多种解决方案。
今日是《半导体行业观察》为您分享的第3069内容。
