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正通远恒邀您出席SEMICON CHINA2017

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放大字体  缩小字体    发布日期:2021-07-14  来源:仪器网  作者:Mr liao  浏览次数:47
核心提示:2017.03.14-16号,SEMICON CHINA 2017将在上海新国际博览中心拉开帷,SEMICON CHINA是全球最大的半导体产业盛会,是中国半导体界的"扛把子”。我公司也将与世界ALD引领品牌Picousn Oy

      2017.03.14-16号,SEMICON CHINA 2017将在上海新国际博览中心拉开帷,SEMICON CHINA是全球最大的半导体产业盛会,是中国半导体界的"扛把子”。我公司也将与世界ALD引领品牌Picousn Oy共同出席这次会议,并带来最新的产品信息.

      我们的展台是 W2-2453,北京正通远恒科技有限公司诚邀您的莅临!
· SEMICON CHINA是全球高规格的产业聚会
   历经持续增长,已连续6年成为全球最大、影响面最广的集技术、产业、投资于一身的半导体产业盛会,吸

   引了全球半导体产业精英汇聚上海。
· 前沿技术的研讨平台
   SEMICON China 是一个全球合作交流、拓展商机的理想社交平台。与展会同期举办多场高端论坛和技术研

   讨会,探讨全球产 业势、前沿技术和市场机会。

· 中国半导体发展的历史见证者
   SEMICON China 见证了中国半导体制造业茁壮成长、加速发展的历史,也必将为中国半导体制造业未来强

   盛壮大作出贡献。

Picosun是一家专注于ALD的全球化公司,致力于提供一流的ALD薄膜方案。Picosun工业型ALD已经在多家IC、电力电子器件、TFT、LED、MEMS、生物医疗器件、OLED、光学部件等先进工厂中被使用。

ALD是一种表面自限制性的化学气相沉积技术。具备以下优势:

● 具有极好的保形性(100%保形性:平面、深沟槽、3D样品表面等都可均匀镀膜)。

●可以在几纳米至几十纳米的IC工艺中生长足够薄的薄膜。

● 生长的薄膜致密无针孔,绝缘、钝化、防潮效果非常好。

● 较低的沉积温度(100-500℃之间)。

● 可沉积叠层薄膜,使薄膜具有更高的击穿电压、更好的漏电等性能。

更多精彩内容您可以关注我们的微信公众号或者前往我司网站了解。
我们的公众号是:HONOPROF;网址:www.honoprof.com.cn

 

 
 
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