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试样磨制
镶嵌好的试样磨光和抛光，少量的可用手磨光的抛光机进
行，大批量的可用自动机进行。
试样抛磨方法通常是采用逐次变细的磨料，最后可用600粒
磨料或者更细的磨料，对固定的试样进行研磨．在研磨过程中，
研磨表面应垂直子覆层表面，为此可在研磨前，在平行研磨表面
韵外侧划一记号，通过简单的测量，可以发现研磨中是否发生倾
斜，以及发生多大的倾斜。研磨应施加合适的压力，而研磨方向
可和覆层表面成45°，每当磨料向较细变换一次，研磨方向与前
次方向改变90°进行。研磨中应注意发现有无异常现象，以便随
对加以排除
覆层和基体材料间界线不明显时，为了便于观测，则往往需
要先将磨好的试样(磨片)进行化学腐蚀，如测量铝上氧化膜之
类的，界限较为明显，则可不进行腐蚀，通常视其具体情况而
定．为了界线的浸蚀清晰，选用合适的浸蚀剂是必要的，
列出了测量镀层厚度所常用的浸蚀剂。试样通过浸蚀可消除硬金
属在软金属上的划痕。对于不明显的界线或呈现覆层厚度的不规．
律性变化，应通过补充抛光和浸蚀达到呈现清晰的界面．
测量
对于厚的覆层厚度测量，放大倍数应该使视场直径是膜厚的
1．5一3倍，这不包括保护层。对于薄的覆层厚度测量，同样放大
倍数满足不了视场直径与膜厚的上述关系，还应尽可能适当地选
择较大的放大倍数。
测量可采取目镜观测，也可投影到毛玻璃上，还可拍摄，或
者是用校正的刻度尺测量，总之可根据具体情况和要求进行。
测量仪器一般采用螺丝游动测微计和目镜测微计，后者准确，
度较差．测量试样的覆层厚度时，磨片表面与光轴应尽可能准确
垂直。利用的视场直径一般不大于其本身的2／3，光栏孔径不大
于物镜孔径的2／3。
测量前和测量后应对仪器进行标定，标定和测量应由同一操
作者完成。目镜测微计重复标定误差应小于1％，载物台测微计
的两条线的间距应在0．2微米或0．1％以内。目镜测微计移动的回
程间隙也会引起误差，通常在对位过程中，将测微计十字线交叉
的一边调到与待钡4覆层的一边相重合，然后再与另一边相重合，
并且每次测量都以同一方向旋动对准，从而消除回程间隙所引起
的误差。
测量一般对每个测点至少应测3次，对于严格要求的仲裁
性测量，则应在每一个测量点上测量10次．
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