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2017年8月10日，由PHI-China高德英特（北京）科技有限公司主办的“ULVAC-PHI表面分析应用与技术用户会”于汕头大学圆满结束。此次会议有清华大学、南京大学等国内各高校相关专业的多位老师与专家及学生参加.
会议开始，PHI（China）的执行总监叶上远先生首先致辞，欢迎全国从事表面分析研究与分析的新老朋友共聚一堂，共同探讨XPS的前沿发展、分享最新应用、使用仪器的心得。随后就PHI XPS粉末微区分析表征上的最新研发进展做了详细的报告，并对“IPES 反光电子能谱UPS联用的应用”和“ULVAC-PHI 仪器多种联用技術”分别做了专题报告，得到了与会者的一致认可。 此外，此次会议还特邀台湾中央研究院薛景中先生就“Ion gun co-sputtering XPS Applications X” 做了相关专题报告及学术探讨。
作为嘉宾的ULVAC-PHI 亚洲区销售经理 Mr. Takuji Shibasaki 柴崎琢自先生就如何进行更好使用 “ULVAC-PHI Ellipsometer 椭偏仪”进行详细介绍和说明。另一位嘉宾ULVAC-PHI原厂科学家张熏匀博士则对“Tof-SIMS 最新材料应用”相关研究进展做了细致详尽的讲解；并与会者分享“ XPS和AES数据处理技巧”，同时就大家一些问题做了热烈、充分的讨论。
与会者一致认为，通过此次用户会，对PHI公司及其产品有了更加深入的认识与了解，对科研过程中碰到的一些问题也有了新的思路与方法。 我们也感谢各位与会者的参与和支持，希望通过用户交流会，为原厂、用户和学校及科研机构搭建的技术交流和共享平台，在此平台中，老师们对相关领域的探讨碰撞出更多的思维火花，并能在以后的科研中取得更多的新成果。 PHI与XPS研究者共同进步！
