编纂者加热密闭情绪熔主要构造，看完毕附注

  高温真空气氛炉为真空炉的一种，以硅碳棒为加热元件，炉体采用双层炉壳结构，双层风冷系统，可以快速升降温，炉壳表面温度低，广泛用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材等领域。 结构： 炉体部分：炉膛采用莫来石聚轻砖砌筑，炉膛内上下用碳化硅棚板，炉内温度是加热元件在加热过程中经过碳化硅棚板传导（暗火加热），温度更均匀。炉壳密封。为提高高温真空气氛炉的密封垫的使用寿命在炉门口设有循环水冷套以降低密封处的温度。进气设炉膛底部，经加热腔预热后分多处进入炉内，排气经炉顶后部排出。保证炉内气氛均匀，减小炉内温差。 电气部分：电气部分采用与气氛炉炉体体化结构，整个电气元件安装在炉体底部的侧，结构紧凑、占用空间小。温控安装在炉体侧面板上，观察直观，调节方便，温控仪具有PID调节功能，可自动跟踪设定PID值，可任意设定测量分度密码，同时具备补偿功能，可使炉膛温度与显示值致。 高温真空气氛炉满足于不同工艺实验而殊制造，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。