雷射清洗机的机能及形态

等离子清洗机是一种全新的高科技技术，利用等离子来达到传统清洗方法无法达到的效果。等离子体是一种物质状态，也称为第四种物质状态。向气体施加足够的能量使其电离，使其变成等离子体状态。等离子体的 活性 成分包括离子、电子、活性基团、受激核素(亚稳态)、光子等。等离子清洗机就是利用这些活性成分的特性来处理样品表面，从而达到清洗等目的。
  等离子清洗机中产生等离子体的装置是将两个电极放置在一个密封的容器中形成电场，用真空泵实现一定的真空度。随着气体变得越来越薄，分子间距和分子或离子的自由运动距离变得越来越长。在正负极电场的作用下，它们碰撞形成等离子体。这些离子具有足够高的活性和能量来破坏几乎所有的化学键，并在任何暴露的表面上引起化学反应。不同气体的等离子体具有不同的化学性质。例如，氧等离子体具有高氧化性能，可以氧化光刻胶产生气体，从而达到清洗效果。腐蚀性气体的等离子体具有良好的各向异性，能够满足刻蚀的需要。辉光是在等离子体处理过程中发出的，因此被称为辉光放电处理。
  等离子清洗机主要依靠等离子体中活性粒子的 活化 来去除物体表面的污渍。就反应机理而言，等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发成等离子体状态;气相物质吸附在固体表面;被吸附的基团与固体表面分子反应生成产物分子;分析产物分子以形成气相;反应残留物从表面分离。等离子清洗机的特点是它可以处理金属、半导体、氧化物和大多数聚合物材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺、聚氯乙烯、环氧树脂甚至聚四氟乙烯，而不管要处理的基材类型如何。它还可以清洁整体、局部和复杂的结构。
  等离子清洗机的等离子清洗可以与处理对象无关地进行。它可以处理各种材料，无论是金属、半导体、氧化物还是聚合物材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂和其他聚合物)都可以用等离子体处理。因此，它特别适用于不耐热和耐溶剂的材料。还可以选择性地对材料的整体、局部或复杂结构进行局部清洗。当清洁和去污完成时，材料本身的表面性能可以得到改善。例如改善表面的润湿性和改善膜的粘附性，这在许多应用中是非常重要的。