亚硝酸盐、干膜、爆出及显影剂晶圆该词书籍

光化学反应仪主要用于研究气相或液相介质、固定或流动体系、紫外光或模拟可见光照、以及反应容器是否负载TiO2光催化剂等条件下的光化学反应。具有提供分析反应产物和自由基的样品，测定反应动力学常数，测定量子产率等功能，广泛应用化学合成、环境保护以及生命科学等研究领域
光化学、干膜、曝光及显影制程术语手册1、Absorption 领受，吸入
指被领受物会进入主体的内部，是一种化学式的吸入步履。如光化反映中的光能领受，或板材与绿漆对溶剂的吸入等。还有一近似词 Adsorption 则是指吸附而言，只附着在主体的概略，是一种物理式的亲和吸附。
2、Actinic Light(or Intensity，or Radiation) 有用光
指用以完成光化反映各类光线中，其Z有用波长规模的光而言。例如在360～420 nm 波长规模的光，对偶氮棕片、浅显吵嘴底片及重铬酸盐感光膜等，其等反映均Z快Z且功用Z大，谓之有用光。
3、Acutance 解像尖锐度
是指各类由感光编制所取得的图像，其线条边缘的尖锐景象抽象 (Sharpness)，此与解像度 Resolution 不合。后者是指在必定宽度距离中，可以了了的显像(Develope)解出若干良多多少组 线对 而言(Line Pair，系指一条线路及一个空间的组合)，普简易称只说解出机条 线 而已。
4、Adhesion Promotor 附出力增进剂
多指干膜中所添加的某些化学品，能促使其与铜面发生 化学键 ，而增进其与底材间之附出力者皆谓之。
5、Binder 粘结剂
各类积层板中的接着树脂部份，或干膜之阻剂中，所添加用以 成形 而不致太 散 的接着及组成剂类。
6、Blur Edge(Circle)恍惚边带，恍惚边圈
多层板各内层孔环与孔位之间在做瞄准度搜检时，可把持 X光透视法为之。由于X光之光源与其机组均非平行光之机关，故所得圆垫(Pad)之减少回忆，其边缘之解像其实不明锐了了，称为 Blur Edge。
7、Break Point 出像点，显像点
指制程中已有干膜贴附的 在制板 ，于自动保送线显像室上下喷液中遏制显像时，抵达其完成冲洗而闪现出了了图形的 旅程点 ，谓之 Break Point 。所经历过的冲洗旅程，以占显像室长度的 50~75% 之间为好，如斯可以使剩下旅途中的清水冲洗，更能增强断根残膜的成果。
8、Carbon Arc Lamp 碳弧灯
晚期电路板底片的翻制或版膜的分娩时，为其曝光所用的光源之一，是在中心迫近的碳精棒之间，施加高电压而发生弧光的拆卸。
9、Clean Room 无尘室、洁净室
是一个遭到卖力经管及精采把握的房间，其温度、湿度、压力都可加以调剂，且气氛中的尘埃及臭气已予以消弭，为半导体及细线电路板分娩制造必需的景象抽象。浅显 洁净度 的表达，是以每 立方呎 的气氛中，含有大于0.5 m以上的尘粒数目，做为分级的尺度，又为俭仆成本起见，常只在使命台面上设置部门无尘的景象抽象，以尝试必需的使命，称 Clean Benches。
10、Collimated Light 平行光
以感光法遏制回忆转移时，为添加底片与板面间，在图案上的变形走样起见，应采纳平行光遏制曝光制程。这类平行光是经由屡次反射折射，而取得低热量且近似平行的光源，称为Collimated Light，为细线路建筑必需的装备。由于垂直于板面的平行光，对板面或景象抽象中的少许尘埃都很是缓慢，常会忠诚的暗示在所晒出的回忆上，构成许多额定的漏洞错误，反不如浅显散射或漫射光源可以也许自彼此补而消弥，故采纳平行光时，必需还要无尘室的合营才行。此时底片与待曝光的板面之间，已无需再做抽真空的密接(Close Contact)，而可间接使用较严重的 Soft Contact或Off Contact了。
11、Conformity吻合性，服贴性
完成零件坏配的板子， 为使整片板子外形遭到卖力的呵护起见，再以绝缘性的涂料予以封护涂装，使有更好的信赖性。浅显军用或较高条理的拆卸板，才会用到这类外形贴护层。
12、Declination Angle 斜射角
由光源所间接射下的光线，或经各类折射反射过程后，再行射下的光线中，凡闪现不垂直射在受光面上，而与 垂直法线 呈某一斜角者(即图中之 a角)该斜角即称 Declination Angle。当此斜光打在干膜阻剂边缘所组成的 小孔相机 并经 Mylar 折光下，会泛起另外一 平行光 之半角(Collimation HalfAngle，CHA)。但凡 细线路 曝光所邃密精彩的 高平行度 的曝光机时，其所呈的 斜射角 应小于 1.5 度，其 平行半角 也须小于 1.5 度。
13、Definition 边缘传神度
在以感光法或印刷法遏制图形或回忆转移时，所取得的下一代图案，其线路或各导体的边缘，是不是能泛起齐直而又忠于原底片之外形，称为 边缘齐直性 或传神度 Definition 。
14、Densitomer 透光度计
是一种对吵嘴底片之透光度(Dmin)或遮光度(Dmax)遏制丈量之仪器，以搜检该底片之劣化水平若何。其经常使用的品牌如 X-Rite 369 等于。
15、Developer 显像液，显影液，显像机
用以冲洗掉未感光聚合的膜层，而留下已感光聚合的阻剂层图案，其所用的化学品溶液称为显像液,如干膜制程所用的碳酸钠(1％)溶液等于。
16、Developing 显像，显影
是指感光回忆转移过程中，由母片翻制子片时称为显影。但对下一代像片或干膜图案的闪现作业，则应称为 显像 。既然是由底片上的 影 转移成为板面的 像 ，虽然就该当称为 显像 ，而不宜再续称底片阶段的 显影 ，这是浅而易见的事理。可是业界积非成是习用已久，一时兴不苟且更正。日文则称此为 现像 。
17、Diazo Film 偶氮棕片
是一种有棕色阻光膜的底片，为干膜回忆转移时，在紫外光中公用的曝光用具(Phototool)。这类偶氮片即使在棕色的遮光区,也能在 可见光 中透视现实片下的板面景象抽象，比吵嘴底片要便当的多。
18、Dry Film 干膜
是一种做为电路板回忆转移用的干性感光薄膜阻剂,还有 PE 及 PET 两层皮膜将之夹心呵护。现场施工时可将 PE 的隔离层撕掉，让中心的感光阻剂膜压贴在板子的铜面上,在经由底片感光后即可再撕掉 PET 的表护膜，遏制冲洗显像而组成线路图形的部门阻剂，进而可再尝试蚀刻(内层)或电镀(外层)制程，Z初在蚀铜及剥膜后，即取得有裸铜线路的板面。
19、Emulsion Side药膜面
吵嘴底片或 Diazo 棕色底片，在 Mylar 通明片基 ( 经常使用者有 4 mil 与7 mil 两种)的一个概略上涂有薄的感光乳胶(Emulsion) 层，做为回忆转移的前言对象。当从已有图案的母片要翻照出 光性 相反的子片时，必需谨遵 药面贴药面 ( Emulsion to Emulsion ) 的基来历根抵则，以消弭因片基厚度而泛起的折光，添加更生画面的变形走样。
20、Exposure 曝光
把持紫外线(UV)的能量，使干膜或印墨中的光敏物资遏制光化学反映，以抵达遴选性部门架桥软化的成果，完成回忆转移的手段称为曝光。
21、Foot 残足
指干膜在显像今后部份决计留下阻剂，其根部与铜面接触的死角处，在显像时不苟且冲洗干净而残留的余角(Fillet)，称为Foot或Cove。当干膜太厚或曝光能量贫乏时，常会泛起残足，将对线宽构成影响。
22、Halation环晕
指曝光制程中领受光照之图案概略，其外缘常组成明暗之间的环晕。成因是光线穿过半通明之被照体而抵达另外一面，受反射折光回到背面来，即泛起混沌不清的边缘地带。
23、Half Angle 半角
此词的正式称号是 Collimation Half Angle 平行光半角 。 是指曝光机所射下的 斜光 ，抵达底片上回忆图案的边缘，由此 边缘 所发生 小孔拍照机 效应，而将 斜光 扩大成 发散光 其扩大角度的一半，谓之 平行光半角 (CHA)，简称 半角 。
24、Holding Time 停置时辰
当干膜在板子铜面上完成压膜步履后，需停置 15～30 分钟，使膜层与铜面之间发生更强的附出力；而经曝光后也要再停置 15～30 分钟，让已感光的部份膜体，延续遏制的架桥聚合反映，以便耐得住显像液的冲洗，此两者皆谓之 停置时辰 。