熹7980上焊Si3N4

产品名称：

康宁7980上镀Si3N4（Silicon Nitride Film (LPCVD) on Corning 7980）

产品简介：

The Si3N4 film may have stressed induced micro-cracking resulted from the large difference of thermal expansion coefficient between Si3N4 and SiO2 fused silica

技术参数：Si3N4薄膜：镀膜方法：low stress LPCVD method低压力化学气相沉积法膜层厚度：1.3um +/- 5%镀膜情况：双面镀膜UV级石英 UV Grade Fused Silica (Corning 0F 7980 HPFS)：常规尺寸:dia100.0 (±0.20) mm x 0.5 (± 0.10) mm边缘：CNC Ground表面质量：60/40 失效区域： 2.0 mm borderTTV:  20 microns抛光情况：双面抛光(60/40)

产品规格：

dia100x0.5mm；10x5x0.5mm；10x10x0.5mm

标准包装：

1000级超净室100级超净袋或单片盒包装

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注：对于医疗器械类产品，请先查证核实企业经营资质和医疗器械产品注册证情况。