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磁控溅射镀膜机(Sputter)SV

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放大字体  缩小字体    发布日期:2021-01-27  来源:仪器网  作者:Mr liao  浏览次数:52
核心提示:仪器特点:腔体材料:不锈钢,铝,或者Bell Jar;分子泵:70,250,500 l/sec; 一级泵:机械泵或干泵;13.5MHz, 300-600W射频电源;1KW直流电源;QCM在线厚度测量,厚度分辨率 0.1nm;带有观察窗的门,

仪器特点:

腔体材料:不锈钢,铝,或者Bell Jar;

分子泵:70,250,500 l/sec; 一级泵:机械泵或干泵;

13.5MHz, 300-600W射频电源;1KW直流电源;

QCM在线厚度测量,厚度分辨率 0.1nm;

带有观察窗的门,方便样品取放;

Labview软件,PC控制;

多重密码保护;

全安全互锁设计;

 

选配功能:

向上,向下,侧向溅射;

射频,直流、脉冲直流溅射;

共溅射,反应溅射;

组合溅射;

射频、直流偏置(1000V);

基底加热:不高于700摄氏度;

厚度监控;

基底射频等离子清洗;

Load-Lock,以及自动样品取放;

 

不同型号选择:

NSC系列,立式磁控溅射系统;

NSC系列,立式紧凑磁控溅射系统;

NSC系列,台式磁控溅射系统;

双腔体系统,NSR系列,磁控溅射+反应离子刻蚀(RIE);

双腔体系统,NSP系列,磁控溅射+PECVD;

双腔体系统,NST系列,磁控溅射+热蒸发;

 磁控溅射镀膜机(Sputter)信息由上海载德半导体技术有限公司为您提供,如您想了解更多关于磁控溅射镀膜机(Sputter)报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。

注:对于医疗器械类产品,请先查证核实企业经营资质和医疗器械产品注册证情况

 
 
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