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西德应用领域光度Desktop Emission Messurement Control光介入鞘厚仪

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放大字体  缩小字体    发布日期:2021-01-27  来源:仪器网  作者:Mr liao  浏览次数:52
核心提示:等离子体发射测量在紫外线…近红外线范围可同时观察到等离子发射低压等离子沉积技术是一个客观的连续不断的过程,如PVD(物理气象沉积)是今天真正的问题之一。除了等离子体发射光的表观检查,有时也使用质谱技术。但是质谱技术既不方便操作,其结果也不容

等离子体发射测量

在紫外线…近红外线范围可同时观察到等离子发射

低压等离子沉积技术是一个客观的连续不断的过程,如PVD(物理气象沉积)是今天真正的问题之一。除了等离子体发射光的表观检查,有时也使用质谱技术。但是质谱技术既不方便操作,其结果也不容易理解。与此相比,使用OES(发射光谱)和光纤耦合TranSpec光谱仪的有点是显而易见的。

技术特征

在200…1000nm光谱范围内可同时测量

可检测非常底的发射信号

可连接到几乎每个真空室

无需维护

舒适和易于使用的PEM—ProVis专业版软件

用于全球主要的汽车灯以及CD生产商进行有机膜厚测试

 

 

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注:对于医疗器械类产品,请先查证核实企业经营资质和医疗器械产品注册证情况。

 
 
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