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纳米线合成控制系统CVD

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放大字体  缩小字体    发布日期:2021-01-27  来源:仪器网  作者:Mr liao  浏览次数:53
核心提示:联合日本科学与技术研究所(JST)开发,并且在多个国家注册了该项技术的专利!该设备用于大量制备纳米碳材料,如碳纳米管粉、碳纳米管薄膜和定向碳纳米管制备;采用封闭式管式炉,石英反应管直径50mm/70mm~110mm*1000mm,基底尺寸6

联合日本科学与技术研究所(JST)开发,并且在多个国家注册了该项技术的专利!
该设备用于大量制备纳米碳材料,如碳纳米管粉、碳纳米管薄膜和定向碳纳米管制备;采用封闭式管式炉,石英反应管直径50mm/70mm~110mm*1000mm,基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm;气源包括氢气、氮气、甲烷、酒精等;

MPCVD是一种碳纳米管化学汽相沉积综合系统,具备一个水平石英管式炉,该系统可以大量稳定生产垂直对齐的CNT和各种粉末CNT。成熟稳定的工艺保证了制备质量和数量,也可用于三维形状的CNT制备。乙醇注入装置配备一个滴定法流量控制系统,气体输入端口配备三通道质量流量气体控制器(惰性气体,碳氢化合物气体,氢气)。
真空排气系统使得该系统能够在一个广泛的气压下运行,从大气到低压(10 Pa),也可用作为热处理系统,例如:真空炉、大气炉、氮化炉。
 
相关产品:
1. 纳米颗粒制备系统; 
2. ZnO纳米带制备系统; 
3. 碳纳米管制备系统:用于高质量碳纳米管制备、纳米颗粒或薄膜制备、ZnO纳米带制备等; 
4. 碳纳米管生产系统CVD:用于粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等; 
5. 催化剂薄膜制备系统:可沉积催化剂薄膜在各种材料上,用于高性能碳纳米管的指标;

技术特点:
       *成熟的碳纳米材料制备工艺和丰富的经验
       *乙醇和碳氢化合物作为碳源
       *用于SWCNT 合成
       *具备催化剂前体供应功能
       *可以合成较长长度 ( ~500 um)垂直对齐的CNT和粉末状的CNT
       *具备三通道气体质量控制器
       *体积小,基座稳定
       *最高温度:1200度;
       *价格优惠; 
       *运行成本低;
技术参数:
基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm;
粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等;

碳纳米管制备系统信息由巨力科技有限公司为您提供,如您想了解更多关于碳纳米管制备系统报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。

注:对于医疗器械类产品,请先查证核实企业经营资质和医疗器械产品注册证情况

 
 
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