oxford-instruments GaAs/AlGaAs-刻蚀砷化镓/砷化铝镓刻蚀GaAs/AlGaAs-刻蚀砷化镓/砷化铝镓使用PlasmaProTMSystemRIE100 刻蚀GaAs/AlGaAs推荐刻蚀气体:SiCl4-Ar推荐使用的等离子体清洁气体:O2-SF6晶片大直径200mm 刻蚀速率50-150nm/min (依赖与批处理的数量) 均匀性
keysight N1092A,86100D/C/B/A, 86105D/C/B/A,86107A,YOKOGAWAAQ6370D/C/B/A,示波器,光谱仪,光通信仪器
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