主要技术指标(1)仪器采用GB/T 1552-1995硅、锗单晶电阻率测定直排四探针法(2)范围:电阻率10-4~10+4欧姆 厘米,分辨率为10-4欧姆 厘米方块电阻10-3~10+5欧姆/□,zui小分辨率为10-3欧姆/□(3)可测量材料:半导体材料硅锗棒、块、片、导电薄膜等可准确测量的半导体尺寸:直径 20㎜可测量的半导体尺寸:直径 8㎜(4)测量方式:平面测量。(5)电压表:双数字电压表,可同时观察电流、电压变化A.量程0~199.99 mVB.基本误差 (0.004%读数+0.01%满度) C.输入阻抗﹥1000M D. 4 1/2位数字显示,0~19999(6)恒流源:A.电流输出:直流电流0.003~100 mA连续可调,有交流电源供给B.量程:10uA,100uA,1 mA,10 mA,100 mA五档 C.恒流源精度:各档均 0.05%(7)四探针测试探头A.探头间距1.59㎜ B.探针机械游率: 0.3%C.探针直径0.8㎜ D.探针材料:碳化钨,探针间及探针与其他部分之间的绝缘电阻大于109欧姆。(8)手动测试架:KDJ-1A 型手动测试架探头上下由手动操作,可以用作断面单晶棒和硅片测试,探针头可上下移动距离:120mm,测试台面200x200(mm)。(9)测量系统KDY测量系统设计语言:VC++,可对四探针、两探针电阻率测量数据进行处理并修正测量数据,特定数据存储格式,显示变化曲线。兼容性:适用于通用电脑,支持Windows XP。(10)精度电器精度:1-1000欧姆 0.3 %整机测量精度:1-500欧姆 厘米 3%(11)电流:220V 10%,50HZ,功率消耗﹤35W四探针头简介一、特点测量电阻率的小游移探针头。使用几何尺寸十分精确的红宝石轴套,确保探针间距的恒定、准确。控制宝石内孔与探针之间的缝隙不大于6 m,保证探针的小游移率。采用特制的S型悬臂式弹簧,使每根探针都具有独立、准确的压力。量具精度的硬质合金探针,在宝石导孔内稳定运动,持久耐磨。二、用途测量硅、锗单晶(棒料、晶片)、定向结晶多晶硅的电阻率,测定硅外延层、扩散层和离子注入层以及导电玻璃(ITO)和其它导电薄膜的方块电阻测量。探针间距1.00mm的探针头适合测量直径小于50mm的的直径单晶片。探针间距1.59mm的探针头相对精度高,在SEMI标准中为仲裁探针头,适合测量直径大于50mm的的大直径单晶片,因为探针直径较粗更加耐磨且不易断针,所以尤其适合测量硅、锗单晶棒、块。三、规格型号:KDT-1:探针合力8 1N,探针间距1.00mm,探针直径0.5 mm,针尖压痕直径25 50 m,用于测量硅棒、硅块KDT-2:探针合力8 1N,探针间距1.59mm,探针直径0.8 mm,针尖压痕直径25 50 m,用于测量硅棒、硅块KDT-3:探针合力6 1N,探针间距1.00mm,探针直径0.5 mm,针尖压痕直径50 100 m,用于测量硅片KDT-4:探针合力6 1N,探针间距1.59mm,探针直径0.8 mm,针尖压痕直径50 100 m,用于测量硅片KDT-5:探针合力4 1N,探针间距1.00mm,探针直径0.5 mm,针尖压痕直径100 250 m,用于测量硅外延层、扩散层和离子注入层、导电玻璃(ITO)和其它导电薄膜的方块电阻KDT-6:探针合力4 1N,探针间距1.59mm,探针直径0.8 mm,针尖压痕直径100 250 m,用于测量硅外延层、扩散层和离子注入层、导电玻璃(ITO)和其它导电薄膜的方块电阻在探针头型号后缀带B、A、AA、AAA为探针头等级,如KDT-2B,这类探针为焊接式,探针头测量精度高、稳定性好,维修一般需寄回厂家,使用次数大于5万次(人为因数断针、连接线除外)。在探针头型号后缀带P 的为探针可拔插式,如KDT-2P,这种探针更换方便,弹簧使用寿命长可达百万次,测量稳定性稍差,这类探针头都属于B级探针头。四、技术指标探针头主要分为4个等级,其中AA、AAA级提供中国计量院检测报告,A级提供本公司的检测报告。游移率 B级 <0.5% A级 <0.3% AA级 <0.2% AAA级 <0.1%间距偏差 B级 <3% A级 <2% AA级 <2% AAA级 <1%探针针与导孔间隙小于0.006mm,探针机械游移率低,从而保证测量重复性探针材料:硬质合金(主成份:碳化钨)500V绝缘电阻:>1000M 七、外形尺寸及安装:探头基本外径为25.4mm(1英寸),可安装在内径为26mm的套筒上。