NIE安3500（L）RIBE质子化离子束抛光vs离子铣离子束抛光安西德卢氏石墨烯控制系统（新加坡）控股

联系我们时请说明是91化工仪器网上看到的信息，谢谢! 产品简介 NIE-3500（R）RIBE反应离子束刻蚀：可以用于光栅刻蚀，SiO2二氧化硅、Si 硅以及金属等的深槽刻蚀。此外，还可以用于表面清洗、表面处理、离子铣。系统可以兼容反应气体以及非反应气体，比如Ar，O2，CF4，Cl2等。