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表面颗粒的去除可以调整化学试剂的配方成分，使得衬底表面存在zui少量的颗粒。化学配比系统设计了zui小的化学试剂的消耗，它提供了程序化的混合方式使化学试剂在衬底表面完全均匀的分布。这个设计也提供了精确的化学工艺时间的控制，控制超声波去离子水的流量，然后衬底在热氮氛围里旋干。
根据用户的应用需要，某些特定选项将有助于设备去除不想要的颗粒和杂质。
具体应用
清洗功能：
晶圆片
蓝宝石外延片
晶圆框架上的芯片
显示面板
ITO膜显示材料
有图形掩膜和无图形掩膜
掩膜坯料
薄膜式掩膜
接触式掩膜
光刻处理工艺：
SPM剥离
光刻胶涂膜
光刻胶剥离工艺
刻蚀：
金属刻蚀（铝，铜，铬，钛）
白骨化清洗：
在晶圆片上注射硫酸和双氧水的混合液
红外加热
刷洗
兆声双氧水清洗
热氮和甩干
产品特点：
针对21英寸外径或15x15英寸的基底
巨声环境清洗舱（可配备去离子水, 清洗刷, 热去离子水, 高压去离子水, 热氮气）
化学注射臂
带化学喷射的可变速清洗刷
触屏用户界面
手动上下载
安全锁和报警器
占地尺寸30 D x 26 W
可选配项：
化学试剂传送单元
白骨化清洗
臭氧发生器
氢化双氧水发生器
高压双氧单元
硫酸氢过氧化物
红外加热
双氧水循环装置
机械手上下载单元
带EFEM和SMIF界面的 集群系统
去胶/剥离工艺
带红外加热的NMP滴胶
刷洗
兆声双氧水清洗
热氮和甩干
CMP溶液清洗：
用刷洗和兆声清洗去除CMP颗粒
化学喷射臂
化学喷射罐
为前面和背面刷洗设计的特殊托盘
可调速的PVA清洗刷
可调的清洗刷/晶圆接触压力
刷式化学喷射
带膜/不带膜式掩膜清洗：
全套清洗（无需更换保护膜）
全保护膜
膜式掩膜清洗工艺
1) 掩膜背面清洗后 兆声双氧水清洗 刷式清洗 化学清洗 热氮甩干
2)热氮甩干
SWC系列清洗系统
可选型号：
SWC-3000
标准台式
兆声清洗，N2旋干
SWC-3000-C
CDU台式
兆声清洗，N2旋干，带化学试剂分配功能
SWC-3000-M
掩膜板台式
兆声清洗（3MHz），N2旋干或者红外灯烘干
SWC-4000
标准立式
兆声清洗，热N2旋干化学配比，酸和溶剂分别独立排放
SWC-4000-M
独立的掩膜板清洗机
兆声清洗，热N2旋干
化学配比，酸和溶剂分别独立排放
SWC-4000-MP
薄膜光刻度板清洗机
兆声清洗，热N2旋干
化学配比，酸和溶剂分别独立排放
技术指标：
zui大晶园尺寸：12英寸
zui大掩膜板尺寸：6 6英寸
典型清洗时间：1分钟
标准巨声波频率：1MHz
射频电源输出功率：60W
zui小DI水流量：1.5L/min
zui大转速：4000RPM
系统控制：PLC程序控制
装载和卸载：手动
氮气烘干温度：zui高300℃
