考夫曼离子源应用于 LED

考夫曼离子源应用于 LED-DBR 离子辅助镀膜市场
上海伯东美国 KRI 考夫曼离子源成功应用于 LED-DBR 离子辅助镀膜市场. 国内某知名 LED 制造商经过我司推荐采用考夫曼离子源 RFICP 325 安装在 DBR 生产设备 1650 mm 蒸镀机中.
考夫曼离子源客户案例: 国内某知名 LED 制造商
1. 离子源应用: LED-DBR 镀膜生产
2. 系统功能: 1650 mm 尺寸电子枪蒸镀镀膜机.
3. 离子源: 采用美国考夫曼离子源 KRi RFICP 325. 离子源 RFICP 325 提供的离子束(不论是离子能量还是离子密度)均是目前业界最高等级, 离子源 RFICP 325 特殊的栅极设计 E22 Grided 可以涵盖 1650 mm 尺寸的蒸镀机中大范围的载具 substrate holder, 无论是生产良率或是均匀性都可达到最高生产效能.
4. 离子源功能: 通过考夫曼离子源 RFICP 325 实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean 功能后, 所生产出的 LED-DBR 无论是亮度测试, 脱膜测试, 顶针测试, 光学特性等等 都优于目前一般业界蒸镀机所搭配的离子源.
上海伯东考夫曼离子源安装案例: KRI RFICP 325 考夫曼离子源安装于 1650 mm 尺寸电子枪蒸镀镀膜机.


KRI 考夫曼离子源测试案例: LED-DBR 脱膜测试.
1. 在高倍显微镜下检视脱膜测试

2. 测试结果

--------- 使用其他品牌离子源---  --------------------- 使用美国考夫曼 KRI RFICP 325 离子源 ----------------------

从上图可以清楚看出, 使用其他品牌离子源, 样品存在崩边的问题; 使用上海伯东美国考夫曼离子源, 样品无崩边
 

上海伯东美国考夫曼离子源 KRI  RFICP 325 优点:
高离子浓度, 高离子能量, 离子束涵盖面积广
镀膜均匀性佳, 提高镀膜品质
模块化设计, 保养快速方便
增加薄膜附着性, 增加光学膜后折射率
全自动控制设计, 操作简易
低耗材成本, 安装简易
上海伯东是美国考夫曼离子源 Kaufman Robinson, Inc  中国总代理. 美国考夫曼公司离子源已广泛应用于离子溅射镀膜 IBSD. 考夫曼离子源可控制离子的强度及浓度, 使溅射时靶材被轰击出具有中和性材料分子而获得高致密, 高质量之薄膜. 考夫曼离子源可依客户溅射工艺条件选择 RFICP 射频电源式考夫曼离子源或是 KDC 直流电原式考夫曼离子源.
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