美国 KRI 考夫曼离子源

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源 Gridded 和霍尔离子源 Gridless. 美国考夫曼离子源历经 30 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射沉积 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源 (离子枪) 中国总代理.

Kaufman 考夫曼博士 1926 年在美国出生，1951 年加入美国 NASA 路易斯研究中心，1971 年考夫曼博士获得美国宇航局杰出服务奖。从 NASA 退休后，考夫曼博士在 1978 年成立了 Kaufman Robinson,Inc 公司，开始研发生产适合工业使用的霍尔离子源和考夫曼离子源。

离子源通过加热灯丝产生离子束,低浓度高能量宽束型离子源
利用栅极控制离子束的浓度和方向, 离子束可选集中,平行,散设

目前 KRI 射频离子源 RFICP 系列尺寸最小, 低成本高效离子源. 适用于集成在小型的真空腔体内

 KRI 考夫曼型离子源 RFICP 100 紧凑设计,适用于离子溅镀和离子蚀刻.小尺寸设计但是可以输出 400 mA 离子流