KRI 霍尔离子源 eH 系列

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源 Gridded 和霍尔离子源 Gridless. 美国考夫曼离子源历经 30 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射沉积 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源 (离子枪) 中国总代理.

霍尔离子源 Gridless 提供高电流低能量 end-Hall 系列产品,包含宽束霍尔离子源和电源控制器,整体设计,易于系统集成, 霍尔离子源典型应用：辅助镀膜 IABD,镀膜预清洁 ISSP,离子蚀刻等