Pfeiffer 普发镀膜工艺气体监测质谱 SPM 220
上海伯东德国普发 Pfeiffer 真空镀膜工艺气体分析质谱 SPM 220 专为镀膜工艺过程中的气体监测设计研发,在高达 10-2 hPa 的压力下,精确到分钟的定性和定量分析工艺气体。
镀膜工艺气体监测质谱 SPM 220 组成:涡轮分子泵+四级杆质谱+离子源
镀膜工艺气体监测质谱 SPM 220 优势:
镀膜工艺监测器离子源,适用于瞬时过程监测
对气体H2、O2、H2O 和 CO2 优秀检测极限
对测量结果的最小化背景影响
压力高达 10 hPa 的压差版本
多重操作允许带单个 PC 的多个质谱仪系统进行数据评估
紧凑设计,易于系统集成
通过各种数字和模拟输入和输出
Pfeiffer监测质谱 SPM 220 技术参数:
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201206
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