Pfeiffer 分子泵ITO镀膜生产线应用

德国普发pfeiffer 分子泵在ITO镀膜生产线上的应用
ITO (Indium Tin Oxide；銦錫氧化物)结晶具有体心立方铁锰矿结构，是一种重掺杂、高简并的宽禁带型半导体材料，具有优良的导电性、可见光透过率以及红外反射率，而且还具有高硬度、耐磨性、耐化学腐蚀特性。因此广泛应用于平板显示器（FPD）和太阳能电池。通常制备ITO薄膜的方法有溶胶凝胶法、磁控溅射法、脉总激光沉积和电子束蒸发等。
ITO 镀膜过程必须在干净清洁的真空系统中，上海伯东销售的德国普发 pfeiffer Hipace 涡轮分子泵清洁无油，最大极限真空度可达10-11mbar，转子速率可达90000rpm，广泛应用于此行业。
德国普发 pfeiffer 涡轮分子泵优点：

pfeiffer 分子泵坚固耐用的设计，实践验证的轴承系统提供了产品的最高可靠性 pfeiffer 分子泵结构紧凑，占用空间小 高气流量，高抽速;集成，高效的冷却系统 pfeiffer 分子泵可以实现任意位置安装 保护级别IP 54，非常适合工业领域应用的分子泵类型 可以提供适合腐蚀气体的分子泵型号 半导体S2-和ul-认证 完整的配件系列扩展了分子泵安装的各种可能性 我们给您提供更长的分子泵维修间隔 我们可以提供现场更换分子泵轴承
 
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201206
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