德国韦氏纳米系统（香港）有限公司

Minilock-Orion III PECVD PECVD沉积 德国韦氏纳米系统（香港）有限公司

价格：面议

生产地：美国品牌：

型号：Minilock-Orion III PECVD公司传真： 86-21-59250080

移动电话：18721247059更新时间：2019-05-05

First-Nano System GmbH

2003年  创立于德国德累斯顿工业大学（Dresden University of Technology）

2008年  香港成立德国韦氏纳米系统（香港）有限公司 

2015年  上海成立德国韦氏纳米系统（香港）有限公司中国代表处，负责中国区业务

德国韦氏纳米系统成立以来，一直为客户想的更多，Thinking more ！！！

产品范围：

薄膜沉积/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蚀/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面处理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma
- Wet: Megasonic, Brush, SC1, SC2, Piranha, O3DIW
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems

 

 

PECVD沉积

Minilock-Orion III是一套zui xian jin的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm，且根据电极配置，可以处理单个基片或带承片盘的基片(3 - 300mm尺寸)，或者多尺寸批处理基片(4x3 3x4 7x2 )。
Minilock-Orion III用于有毒/发火PECVD工艺。沉积薄膜：氧化物、氮氧化物、氮化物、无定形硅和碳化硅。工艺气体：100%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亚氮、氧、氮、三甲基硅烷和甲烷。
该系统可选配一个三极管（Triode）或电感耦合等离子(ICP)源。三极管源使得用户可以创建高密度等离子，从而控制薄膜应力。
基片通过预真空室装入工艺室，其避免了与工艺室以及任意残余沉积副产品接触，从而提高了用户的安全性。预真空室还使得工艺室始终保持在真空下，从而保持反应室与大气隔绝。