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SWC-3000兆声晶圆（掩模版）清洗机
SWC-3000兆声晶圆（掩模版）清洗机概述：兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平，可以帮助用户获得z干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆掩模清洗(SWC)系统，用于的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的
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2025-01-23 |
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SWC-4000兆声辅助光刻胶剥离系统
SWC-4000兆声辅助光刻胶剥离系统概述：兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平，可以帮助用户获得z干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆掩模清洗(SWC)系统，用于的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情
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2025-01-23 |
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SWC-5000全自动兆声硅片清洗机
SWC-5000全自动兆声硅片清洗机：兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平，可以帮助用户获得干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆掩模清洗(SWC)系统，用于先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下
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2025-01-23 |
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LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统
LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统概述：兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平，可以帮助用户获得z干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆掩模清洗(LSC)系统，用于的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片
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2025-01-23 |
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LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统
LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统概述：兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平，可以帮助用户获得z干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆掩模清洗(SWC)系统，用于的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基
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2025-01-23 |
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NPC-4000（A）全自动等离子去胶机（刻蚀机）
NPC-4000(A)全自动等离子去胶机(刻蚀机)概述：NANO-MASTER等离子刻蚀和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有*的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持
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2025-01-23 |
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NPC-3500（A）全自动plasma等离子清洗机
NPC-3500（A）全自动plasma等离子清洗机概述：NANO-MASTER等离子刻蚀和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有*的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持
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2025-01-23 |
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NIE-3500（A）全自动离子束清洗系统
NIE-3500（A）全自动离子束清洗系统产品概述：该系统为全自动上下载片，并且通过计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。NIE-3500（A）全自动离子束清洗系统产品特点：低成本带预真空锁，自动上下载片离子束：高达2KV/
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2025-01-23 |
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