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离子束刻蚀机 NIE-4000（A）全自动IBE离子束刻蚀
NIE-4000（A）全自动IBE离子束刻蚀产品概述：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下，样品表面采用厚胶作为掩模层，刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量，否则光刻胶将变得非常难以去
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2025-01-23 |
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离子束刻蚀 NIE-4000IBE离子束刻蚀系统
NIE-4000IBE离子束刻蚀系统概述：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下，样品表面采用厚胶作为掩模层，刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量，否则光刻胶将变得非常难以去除。NANO-MAS
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2025-01-23 |
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ICP刻蚀 NRE-4000（ICPM）ICP刻蚀机
NRE-4000（ICPM）ICP刻蚀机概述：是带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统，系统可以达到高速率、低损伤、高深宽比的刻蚀效果。可实现范围广泛的刻蚀工艺，包括刻蚀III-V化合物（如GaAs，InP，GaN，InSb）、II-VI化合物、介质材料、玻璃、石英、金属，以及硅和硅的化合物（如SiO2、Si3N4、SiC、SiGe）等。NRE-4000（ICPM
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2025-01-23 |
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等离子体刻蚀 NRE-4000型RIE-PE刻蚀机
NRE-4000型RIE-PE刻蚀机概述：NRE-4000是一款独立式PE刻蚀RIE刻蚀一体机，配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口：一个带有2的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持至大到12的晶圆片。腔体为超净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6Torr 或
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2025-01-23 |
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刻蚀机 NRE-4000（M）反应离子刻蚀 那诺-马斯特
NRE-4000（M）反应离子刻蚀概述：NRE-4000是一款独立式RIE系统，配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持大到12”的晶圆片。腔体为超净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6Torr或更小的极限
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2025-01-23 |
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刻蚀设备 NRE-3500（A）全自动反应离子刻蚀机
NRE-3500（A）全自动反应离子刻蚀机概述：独立式RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持至大到12的晶圆片。腔体为超净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6Torr 或更小的极限
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2025-01-23 |
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刻蚀设备 NDR-4000（A）全自动DRIE深反应离子刻蚀
NDR-4000（A）全自动DRIE深反应离子刻蚀概述：全自动上下载片，带低温晶圆片冷却和偏压样品台的深硅刻蚀系统，带8 ICP源。系统可以配套500L/S抽速的涡轮分子泵，可以使得工艺压力达到几mTorr的水平。在低温刻蚀的技术下，系统可以达到硅片的高深宽比刻蚀。NDR-4000（A）全自动DRIE深反应离子刻蚀主要特点：基于PC控制的紧凑
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2025-01-23 |
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反应离子刻蚀 NRE-3500型RIE-PE刻蚀机
NRE-3500型RIE-PE刻蚀机概述：独立式RIE刻蚀PE刻蚀一体机，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口：一个带有2的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持至大到12的晶圆片。腔体为超净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6Torr 或更小的极限真空。该系
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2025-01-23 |
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