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磁控溅射镀膜机 NSC-3500（A）全自动磁控溅射系统
NSC-3500（A）全自动磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达到6旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7Torr，15分钟内可以达到10-6Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。NSC-3500（A）带有14”立方形不锈钢腔体，3个2”
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2025-01-23 |
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光学镀膜机 NOC-4000光学镀膜系统 那诺-马斯特
NOC-4000光学镀膜系统概述：NANO-MASTER NOC-4000光学涂覆系统提供先进的技术，在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光，然后把样片传送到第二级腔体中对同一样片进行表面涂覆，整个过程不间断真空。系统的设计也可以支持其中任一个腔体的单独使用，同时具备各自的自动上/下载片功能。NOC-4000光学镀膜系统应用：光学涂
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2025-01-23 |
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NPE-4000ICPECVD等离子体化学气相沉积系统
NPE-4000（ICPM）ICPECVD等离子体化学气相沉积系统概述：NANO-MASTER ICPECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4,或DLC薄膜到z大可达6”直径的基片上.该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子，具有分形气流分布的优势.样品台可以通过RF或脉冲DC产生偏压。并可以支持加热和循环冷却水的冷却.使用250l/sec涡轮
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2025-01-23 |
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PECVD设备 微波等离子化学气相沉积系统 那诺-马斯特
微波等离子化学气相沉积系统概述：NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜，至大可达6” 直径的基片上，该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子，具有分形气流分布的优势，样品台可以通过RF或脉冲DC产生偏压。并可以支持加热和循环冷却水的冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的
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2025-01-23 |
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磁控溅射仪 NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机
NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机产品特点：不锈钢，铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腔70，250或500 l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泵13.56MHz，300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源晶振夹具具有的1 ?的厚度分辨率带观察视窗的腔门易于上下载片基于LabView软件的PC计算机全自动控制带密码保护功能的多级访问控制完全的安全联锁
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2025-01-23 |
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蒸发镀膜设备 NTE-3500（A）全自动热蒸发系统
NTE-3500（A）全自动热蒸发系统概述：NANO-MASTER NTE-3000是一款PC计算机控制的台式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备的设计经过非常慎重的考虑:在小的占地面积情况下实现干净、均匀、可控及可重复的工艺过程。它们具有低价格, 高性能以及高能力的特点，可满足于客户研发及小规模生产的应用要求。 N
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2025-01-23 |
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蒸发镀膜设备 NTE-4000（A）全自动热蒸发系统
NTE-4000（A）全自动热蒸发系统概述：NANO-MASTER NTE-4000是一款PC计算机控制的全自动立式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备的设计经过非常慎重的考虑:在小的占地面积情况下实现干净、均匀、可控及可重复的工艺过程。它们具有低价格, 高性能以及高能力的特点，可满足于客户研发及小规模生产的应用要
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2025-01-23 |
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电子束蒸发镀膜机 NEE-4000（A）全自动电子束蒸发系统
NEE-4000（A）全自动电子束蒸发系统概述：NANO-MASTER NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置，其中样品台位于主腔体内，二级腔体则用于安置电子束源。这种在两个腔体之间带有门阀的配置可以作为预真空锁，使得电子束源腔体保持真空的情况下，实现基片通过主腔体放入基片到样平台(或夹具)上或从中取出。在需要自动装/卸载基
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2025-01-23 |
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